反射镜上集成的自适应光学器件制造技术

在一个示例中，反射镜上自适应光学器件系统可包括：衬底，所述衬底包括可变形表面；控制器；以及多个凹穴，所述多个凹穴限定在所述衬底中。所述凹穴中的每个可包括电光传感器和致动器。所述控制器可能通信地耦合到所述电光传感器和所述致动器。所述控制器可被配置成基于从所述电光传感器接收到的信号而生成控制电压，以使所述可变形表面的靠近所述多个凹穴中的对应凹穴的一部分变形。的对应凹穴的一部分变形。的对应凹穴的一部分变形。

【技术实现步骤摘要】
反射镜上集成的自适应光学器件
[0001]专利技术背景
[0002]除非本文另有说明，否则本文所述的材料不是本申请中权利要求的现有技术，并且不会因为包括在本部分中而被承认为现有技术。
[0003]本公开总体上涉及可变形反射镜集成的自适应光学器件。
[0004]自适应光学器件(AO)是一种用于提高光学系统性能的技术，它通过使反射镜表面变形以便补偿波前畸变来减少这些畸变的影响。通常通过原位测量波前畸变(也称为相位像差或相位误差)并使用校正这些相位像差的设备(诸如，可变形反射镜(DM)或液晶相位空间光调制器(LC相位SLM))对所述畸变进行补偿来实现自适应光学器件系统。自适应光学器件系统用于天文望远镜以改善空间物体的图像、激光通信、远程动力束和定向能量激光系统，以减轻大气湍流引起的畸变的影响。在显微镜、激光材料加工和视网膜成像系统中，AO可减少光学器件(显微镜和视网膜成像)的光学像差或由激光材料加工光束和环境因素引起的像差，如在激光焊接和增材制造应用中。
[0005]本文要求保护的主题不限于解决任何缺点或仅在诸如上述环境等环境中操作的实现方式。相反，提本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种反射镜上自适应光学器件系统，其包括：衬底，所述衬底包括可变形表面；以及控制器；多个凹穴，所述多个凹穴限定在所述衬底中，所述凹穴中的每个包括：电光传感器；以及致动器；所述控制器通信地耦合到所述电光传感器和所述致动器，所述控制器被配置成基于从所述电光传感器接收的信号而生成控制电压，以使所述可变形表面的靠近所述多个凹穴中的对应凹穴的一部分变形。2.如权利要求1所述的反射镜上自适应光学器件系统，其中通过所述致动器使所述可变形表面变形补偿波前相位像差或畸变。3.如权利要求1所述的反射镜上自适应光学器件系统，其中所述致动器是多电极双压电晶片元件。4.如权利要求1所述的反射镜上自适应光学器件系统，其中所述致动器包括多个电极，所述多个电极以围绕所述多个凹穴中的所述对应凹穴的开口的圆形图案布置。5.如权利要求1所述的反射镜上自适应光学器件系统，其还包括所述可变形表面上的介电层，其中所述介电层被配置成传输第一波长的光信号，并反射第二波长的光信号。6.如权利要求1所述的反射镜上自适应光学器件系统，其中所述控制器被配置成：接收来自所述电光传感器的信号，所述信号指示行进通过所述对应凹穴的所述光信号中的像差或畸变；生成控制电压以补偿所述像差或畸变；并且将所述控制电压传输到所述致动器。7.如权利要求6所述的反射镜上自适应光学器件系统，其中所述控制器定位在所述多个凹穴中的所述对应凹穴中的每个中。8.如权利要求6所述的反射镜上自适应光学器件系统，其中所述控制器定位在所述多个凹穴的外部，并且控制所述多个凹穴中的多个凹穴。9.如权利要求1所述的反射镜上自适应光学器件系统，所述凹穴中的每个还包括电路板，所述电路板包括一个或多个电子部件，所述一个或多个电子部件被配置成感测在所述多个凹穴的所述对应凹穴中的每个处接收到的光信号中的像差或畸变。10.如权利要求1所述的反射镜上自适应光学器件系统，所述凹穴中的每个还包括：接收器，所述接收器被配置成接收行进通过所述多个凹穴的所述对应凹穴的光信号；接收器处理器，所述接收器处理器耦合到所述接收器，并且被配置成测量在所述接收器处接收到的光信号并将所述光信号变换为电信号；其中所述控制器耦合到所述接收器处理器，并且被配置成接收所述电信号。11.如权利要求1所述的反射镜上自适应光学器件系统，其还包括接收器光学器件，所述接收器光学器件包括主反射镜和副反射镜，所述接收器光学器件光学地耦合到所述多个凹穴中的一个或多个。12.如权利要求1所述的反射镜上自适应光学器件系统，其还包括发射器光学器件，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：米哈伊尔，
申请(专利权)人：IIVI特拉华有限公司，
类型：发明
国别省市：