化妆组合物制造技术

本发明专利技术涉及一种化妆组合物、使用该化妆组合物的化妆方法及由该化妆组合物形成的化妆涂膜，该化妆组合物含有溶剂A、溶剂B、聚合物C及着色剂，该溶剂A为选自乙醇、正丙醇及异丙醇中的1种以上，该溶剂B的沸点为150℃以上，且该溶剂B的相对于水的汉森溶解度参数的距离Ra为40以上，该溶剂B与该溶剂A相溶，并且，该聚合物C可溶于该溶剂A且不溶于该溶剂B。C可溶于该溶剂A且不溶于该溶剂B。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】化妆组合物


[0001]本专利技术涉及化妆组合物、使用该化妆组合物的化妆方法及由该化妆组合物形成的化妆涂膜。

技术介绍

[0002]目前，为了遮盖肌肤(皮肤)的色斑、暗淡、毛孔及提高涂布完成的明亮度，通常向彩妆化妆品中调配氧化钛、氧化锌、氧化铁等遮盖力高的无机颜料。
[0003]例如，在日本特开2016
‑
121137号(专利文献1)中记载有一种化妆品，其以提供赋予高的白色度或遮盖力的化妆品为目的，含有平均粒径为0.2μm以上的氧化钛和平均粒径为0.01～100μm的树脂微粒。
[0004]另外，在日本特表2015
‑
520120号(专利文献2)中记载有一种化妆品组合物，其以长期持续对皮肤缺点等的遮盖效果为目的，其在生理学上可接受的介质中包含具有规定的折射率及粒径的板型填料、有机硅弹性体及具有1ml/g以上的吸油能力的填料。

技术实现思路

[0005]本专利技术涉及一种化妆组合物，其中，含有溶剂A、溶剂B、聚合物C及着色剂，
[0006]该溶剂A为选自乙醇、正丙醇及异丙醇中的1种以上，
[0007]该溶剂B的沸点为150℃以上，且该溶剂B的以下述式(1)表示的相对于水的汉森溶解度参数的距离Ra为40以上，
[0008]该溶剂B与该溶剂A相溶，并且，该聚合物C可溶于该溶剂A且不溶于该溶剂B。
[0009]Ra＝(4
×
ΔD2+ΔP2+ΔH2)
0.5
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(1)/>[0010]ΔD：溶剂B和水的汉森溶解度参数中的色散分量的差。
[0011]ΔP：溶剂B和水的汉森溶解度参数中的极性分量的差。
[0012]ΔH：溶剂B和水的汉森溶解度参数中的氢键分量的差。
具体实施方式
[0013]在此，对于主要以调整肌肤色为目的的粉底、遮瑕膏等基底彩妆化妆品而言，要求能够遮盖肌肤的色斑、痣、毛孔，且具有着色成调配于化妆品中的着色剂本来的颜色的高显色性。
[0014]另外，对于在对眼影、腮红、指甲油等面部部位或指甲进行涂布而局部地实施色彩进行加强的重点彩妆(point makeup)化妆品而言，是为了涂抹阴影而赋予立体感的目的或实施色彩进行局部加强的目的而使用的，因此，要求具有能够遮盖肌肤或指甲的本来色调，并且着色成调配于化妆品中的着色剂本来的颜色的高显色性。
[0015]另外，头发染毛膏(hair mascara)等暂时染发剂对毛发的损伤少，能够轻松享受染发而备受青睐，特别是为了提高时尚性，以对毛发赋予鲜明的颜色为目的而使用。但是，暂时染发剂是通过在毛发上形成着色涂膜而使毛发着色的产品，因此，要求不仅能够遮盖
毛发本来的色调，并且要求具有着色成调配于暂时染发剂中的着色剂本来的颜色的高显色性。
[0016]在专利文献1及2的技术中，通过调配高折射率的无机颜料来体现遮盖力。但是，近年来，关于氧化锌、氧化钛，由于各种法律法规，使用上的限制变得严苛。
[0017]因此，期望开发出即使不使用无机颜料，也能够形成遮盖性及显色性优异的化妆涂膜的化妆组合物。
[0018]另外，对于暂时染发剂而言，其使用方式也有将毛发染发成网格状的使用形式，因此，还期望开发出一种仅对期望的一部分毛发实施色彩的简单的化妆方法。
[0019]本专利技术涉及一种即使不使用无机颜料也能够形成遮盖性及显色性优异的化妆涂膜的化妆组合物、使用该化妆组合物的化妆方法及由该化妆组合物形成的化妆涂膜。
[0020]本专利技术人发现了一种化妆组合物，其含有两种溶剂、聚合物及着色剂，这两种溶剂中的第一溶剂为选自乙醇、正丙醇及异丙醇中的1种以上，第二溶剂的沸点及相对于水的汉森溶解度参数的距离分别为特定的值以上，通过将这两种溶剂的相溶性和该聚合物相对于溶剂的溶解性分别设为特定关系的化妆组合物，即使不使用无机颜料，也能够形成遮盖性及显色性优异的化妆涂膜。
[0021]即，本专利技术涉及下面的[1]～[3]。
[0022][1]一种化妆组合物，其中，含有溶剂A、溶剂B、聚合物C及着色剂，
[0023]该溶剂A为选自乙醇、正丙醇及异丙醇中的1种以上，
[0024]该溶剂B的沸点为150℃以上，且该溶剂B的以下述式(1)表示的相对于水的汉森溶解度参数的距离Ra为40以上，
[0025]该溶剂B与该溶剂A相溶，并且，该聚合物C可溶于该溶剂A且不溶于该溶剂B。
[0026]Ra＝(4
×
ΔD2+ΔP2+ΔH2)
0.5
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(1)
[0027]ΔD：溶剂B和水的汉森溶解度参数中的色散分量的差。
[0028]ΔP：溶剂B和水的汉森溶解度参数中的极性分量的差。
[0029]ΔH：溶剂B和水的汉森溶解度参数中的氢键分量的差。
[0030][2]一种化妆方法，其中，使用上述[1]所记载的化妆组合物，
[0031]该化妆方法包含：
[0032]工序1：向皮肤、毛发、或指甲涂布上述化妆组合物的工序，及
[0033]工序2：向涂布于皮肤、毛发、或指甲上的化妆组合物赋予含有水的液体E的液滴的工序。
[0034][3]一种化妆涂膜，其中，该化妆涂膜由上述[1]所记载的化妆组合物形成。
[0035]根据本专利技术能够提供一种即使不使用无机颜料也能够形成遮盖性及显色性优异的化妆涂膜的化妆组合物、使用该化妆组合物的化妆方法及由该化妆组合物形成的化妆涂膜。
[0036][化妆组合物][0037]本专利技术的化妆组合物为含有溶剂A、溶剂B、聚合物C及着色剂的化妆组合物，该溶剂A为选自乙醇、正丙醇及异丙醇中的1种以上，该溶剂B的沸点为150℃以上，且该溶剂B的以下述式(1)表示的相对于水的汉森溶解度参数的距离Ra为40以上，该溶剂B与该溶剂A相溶，并且，该聚合物C可溶于该溶剂A且不溶于该溶剂B。
[0038]Ra＝(4
×
ΔD2+ΔP2+ΔH2)
0.5
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(1)
[0039]ΔD：溶剂B和水的汉森溶解度参数中的色散分量的差。
[0040]ΔP：溶剂B和水的汉森溶解度参数中的极性分量的差。
[0041]ΔH：溶剂B和水的汉森溶解度参数中的氢键分量的差。
[0042]在本专利技术中，“相溶”是指，在包含溶剂A及溶剂B的混合体系中，溶剂A和溶剂B互相溶合的现象。对于将溶剂A和溶剂B混合且静置时未分离成多相的情况、或混合且进行搅拌操作时没有相分离且没有产生白浊的情况，判断为溶剂A及溶剂B处于相溶状态。
[0043]另外，聚合物C可溶于溶剂A且不溶于溶剂B，聚合物C在化妆组合物中呈溶解形态。
[0044]本专利技术中“聚合物C可溶于溶剂A”是指，将在105℃下干燥2小时达到恒量的聚合物C溶解于25℃的100g溶剂A时的溶解量为5g以上。从提高遮盖性及本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种化妆组合物，其中，含有溶剂A、溶剂B、聚合物C及着色剂，该溶剂A为选自乙醇、正丙醇及异丙醇中的1种以上，该溶剂B的沸点为150℃以上，且该溶剂B的以下述式(1)表示的相对于水的汉森溶解度参数的距离Ra为40以上，该溶剂B与该溶剂A相溶，并且，该聚合物C可溶于该溶剂A且不溶于该溶剂B，Ra＝(4
×
ΔD2+ΔP2+ΔH2)
0.5
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(1)ΔD：溶剂B和水的汉森溶解度参数中的色散分量的差，ΔP：溶剂B和水的汉森溶解度参数中的极性分量的差，ΔH：溶剂B和水的汉森溶解度参数中的氢键分量的差。2.根据权利要求1所述的化妆组合物，其中，所述着色剂被分散性聚合物D分散。3.根据权利要求2所述的化妆组合物，其中，分散性聚合物D可溶于溶剂A且不溶于溶剂B。4.根据权利要求1～3中任一项所述的化妆组合物，其中，聚合物C含有包含选自具有酸性基团的单体、具有碱性基团的单体及甜菜碱单体中的至少1种作为结构单元的聚合物。5.根据权利要求1～4中任一项所述的化妆组合物，其中，溶剂B为选自挥发性的烃油及挥发性的硅油中的1种以上。6.根据权利要求1～5中任一项所述的化妆组合物，其中，水的含量为5质量％以下。7.根据权利要求1～6中任一项所述的化妆组合物，其中，溶剂A的含量为30质量％以上90质量％以下。8.根据权利要求1～7中任一项所述的化妆组合物，其中，溶剂B的含量为5质量％以上40质量％以下。9.根据权利要求1～8中任一项所述的化妆组合物，其中，聚合物C的含量为0.5质量％以上15质量％以下。10.根据权利要求1～9中任一项所述的化妆组合物，其中，所述着色剂的含量为1质量％以上15质量％以下。11.根据权利要求1～10中任一项所述的化妆组合物，其中，该化妆组合物为毛发用化妆组合物。12.一种化妆方法，其中，使用权利要求1～10中任一项所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：福田辉幸，
申请(专利权)人：花王株式会社，
类型：发明
国别省市：