用来改进制造工艺性能的集成式基板测量系统技术方案

提供一种用于确定是否修改制造工艺配方的方法。识别要依据第一工艺配方在制造系统处处理的基板。产生将基板传输到基板测量子系统以获得对基板的第一测量集合的指令。从基板测量子系统接收对基板的第一测量集合。产生将基板从基板测量子系统传输到处理腔室的指令。从处理腔室的一个或多个传感器接收对基板的第二测量集合。产生对基板的第一测量集合与第二测量集合之间的第一映射。储存映射到对基板的第二测量集合的第一测量集合。基于映射到对基板的第二测量集合的第一测量集合来作出是否修改用于基板的第一工艺配方或第二工艺配方的确定。的确定。的确定。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用来改进制造工艺性能的集成式基板测量系统


[0001]本公开内容的实施方式一般涉及制造系统，且尤其涉及用来改进制造工艺性能的集成式基板测量系统。

技术介绍

[0002]在制造系统处对基板的处理一般包括依据预定的工艺配方针对基板执行的多个处理操作。在一些情况下，制造系统处的一个或多个条件可能在基板的处理期间意外改变。若在制造条件发生改变时依据预定的工艺配方来处理基板，可能在处理工艺期间导致错误，且成品基板可能是有缺陷的。在一些情况下，可以根据改变的条件修改工艺配方的操作以防止在基板的处理期间发生错误。然而，制造系统的操作员可能难以识别应修改工艺配方的哪个操作。

技术实现思路

[0003]所述的实施方式中的一些实施方式涵盖了一种方法，该方法包括以下步骤：识别要依据工艺配方在制造系统处被处理的工艺。该方法进一步包括以下步骤：产生将该基板传输到基板测量子系统以获得针对该基板的第一测量集合的指令。该方法进一步包括以下步骤：从该基板测量子系统接收针对该基板的该第一测量集合。该方法进一步包括以下步骤：产生将该基板从该基板测量子系统传输到处理腔本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种方法，包括以下步骤：识别要依据第一工艺配方在制造系统处处理的基板；产生将所述基板传输到基板测量子系统以获得针对所述基板的第一测量集合的指令；从所述基板测量子系统接收针对所述基板的所述第一测量集合；产生将所述基板从所述基板测量子系统传输到处理腔室的指令；从所述处理腔室的一个或多个传感器接收针对所述基板的第二测量集合；产生针对所述基板的所述第一测量集合与所述第二测量集合之间的第一映射；和基于映射到针对所述基板的所述第二测量集合的所述第一测量集合来确定是否修改用于所述基板的所述第一工艺配方或第二工艺配方。2.如权利要求1所述的方法，其中针对所述基板的所述第一测量集合包括波谱数据、位置数据或属性数据中的至少一种，且其中针对所述基板的所述第二测量集合包括波谱数据、温度数据、压强数据或功率数据中的至少一种。3.如权利要求1所述的方法，进一步包括以下步骤：将映射到针对所述基板的所述第二测量集合的所述第一测量集合储存到所述制造系统的数据储存器，其中所述制造系统的操作员不能对所述数据储存器进行存取。4.如权利要求1所述的方法，其中基于映射到针对所述基板的所述第二测量集合的所述第一测量集合来确定是否修改用于所述基板的所述第一工艺配方或所述第二工艺配方包括以下步骤：计算所述第一测量集合的第一测量与所述第二测量集合的第二测量之间的差异；和确定所述第一测量与所述第二测量之间的所述差异是否超过差异阈值。5.如权利要求1所述的方法，其中基于映射到针对所述基板的所述第二测量集合的所述第一测量集合来确定是否修改用于所述基板的所述第一工艺配方或所述第二工艺配方包括以下步骤：确定与所述第一测量集合的第一测量相关联的目标值；计算所述目标值与所述第一测量之间的差异；和确定所述目标值与所述第一测量之间的所述差异是否超过差异阈值。6.如权利要求1所述的方法，进一步包括以下步骤：响应于确定修改用于所述基板的所述第一工艺配方或所述第二工艺配方，向连接到所述制造系统的客户端装置传送修改用于所述基板的所述第一工艺配方或所述第二工艺配方的请求；从所述客户端装置接收修改用于所述基板的所述第一工艺配方或所述第二工艺配方的指令；和依据接收到的所述指令来修改用于所述基板的所述第一工艺配方或所述第二工艺配方。7.如权利要求6所述的方法，其中修改所述第一工艺配方或所述第二工艺配方包括以下步骤中的至少一种：修改所述第一工艺配方或所述第二工艺配方的操作，或产生终止用于所述基板的所述第一工艺配方的执行的指令。8.如权利要求1所述的方法，进一步包括以下步骤：产生将所述基板从所述处理腔室传输到所述基板测量子系统以获得针对所述基板的
第三测量集合的指令；从所述基板测量子系统接收针对所述基板的所述第三测量集合；产生以下项目中的至少一种：针对所述基板的所述第一测量集合与所述第三测量集合之间的第二映射，或针对所述基板的所述第二测量集合与所述第三测量集合之间的第三映射；和基于针对所述基板的所述第一测量集合与所述第三测量集合之间的所述第二映射或针对所述基板的所述第二测量集合与所述第三测量集合之间的所述第三映射中的至少一种，来确定是否修改用于所述基板的所述第一工艺配方或所述第二工艺配方。9.如权利要求1所述的方法，其中在产生将所述基板传输到所述基板测量子系统以获得所述第一测量集合的所述指令和接收针对所述基板的所述第一测量集合之前，产生将所述基板从所述基板测量子系统传输到所述处理腔室的所述指令和接收针对所述基板的所述第二测量集合。10.一种制造系统，包括：基板测量子系统，被构造成用以产生与在所述制造系统处处理的基板相关联的数据；处理腔室，被构造成用以处理所述制造系统处的基板，其中所述处理腔室包括一个或多个传感器；一个或多个传输机械手，被构造成用以在所述基板测量子系统与所述处理腔室之间传输基板；和控制器，可操作地耦接到所述基板测量子系统、所述处理腔室及所述一个或多个传输机械手，其中所述控制器用来：识别要依据第一工艺配方在所述制造系统处处理的基板；产生使得所述一个或多个传输机械手将所述基板传输到所述基板测量子系统以获得针对所述基板的第一测量集合的指令；从...

【专利技术属性】
技术研发人员：乌彭铎，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：