【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于受损视力矫正的基于UV激光的系统
[0001]本专利技术涉及一种用于受损视力矫正的基于紫外激光的系统(UVL
‑
LVC系统)的聚焦光学机构,该系统具有用于提供激光辐射的UV激光源和用于将激光辐射在x方向和y方向上横向扫描的扫描系统。本专利技术还涉及一种用于为用于受损视力矫正的基于UV激光的系统生成规划数据的规划单元,该系统具有:用于提供激光辐射的UV激光源、用于将激光辐射在x方向和y方向上横向扫描的扫描系统;用于将激光辐射转向到工作面上的聚焦光学机构以及控制单元,该控制单元设计用于在考虑到规划数据情况下控制UVL
‑
LVC系统。最后,本专利技术涉及一种用于受损视力矫正的基于UV激光的系统,包括用于提供激光辐射的UV激光源、用于将激光辐射在x方向和y方向上横向扫描的扫描系统、聚焦光学机构、用于生成规划数据的规划单元和控制单元,控制单元设计用于在考虑到规划数据情况下控制UVL
‑
LVC系统。
技术介绍
[0002]目前使用的UVL
‑
LVC系统,例如Carl Zeiss Meditec股份公司的MEL系统、Schwind eye
‑
tech Solutions有限责任公司的Amaris系统或Excelsius Medical有限责任公司的Micron系统,早已成功用于受损视力矫正。然而,它们有许多缺点和不足,这里将给出解决方案。
[0003]几乎无一例外,当今的UVL
‑
LVC系统都配备了刚性激光射线引 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于基于UV激光的系统(UVL
‑
LVC系统,805,905)的聚焦光学机构(300,700,800),所述系统用于受损视力矫正,所述系统具有用于提供激光辐射(170,770)的UV激光源(170,770)和用于使所述激光辐射(170,770)在x方向和y方向上并且优选也在z方向上横向扫描的扫描系统(160,230,730,830,930),所述聚焦光学机构用于将所述激光辐射(170,770)聚焦到聚焦场(260,460)中,其中,所述聚焦光学机构(300,700,800)包括第一透镜装置(240,340),所述第一透镜装置设计用于提供会聚的所述聚焦场(260,460)。2.根据权利要求1所述的聚焦光学机构(300,700,800),其中,会聚的所述聚焦场(260,460)具有至少6mm、优选至少8mm、特别优选至少10mm的聚焦场直径。3.根据权利要求1或2所述的聚焦光学机构(300,700,800),其中,会聚的所述聚焦场(260,460)的每个部位都具有位于远离所述聚焦光学机构(300,700,800)的一侧上的局部曲率中点,并且其中,所述聚焦场(260,460)的每个部位优选地具有半径Rs在从8mm至50mm、优选从10mm至30mm、特别优选从12mm至20mm的范围内的聚焦场曲率。4.一种用于基于UV激光的系统(UVL
‑
LVC系统,805,905)的聚焦光学机构(300,700,800),所述系统用于受损视力矫正,所述聚焦光学机构优选是根据权利要求1至3中任一项所述的聚焦光学机构,所述系统具有用于提供激光辐射(170,770)的UV激光源(720,920)和用于使所述激光辐射(170,770)在x方向和y方向上横向扫描的扫描系统(160,230,730,830,930),其中,所述聚焦光学机构(300,700,800)包括第二透镜装置(240,340),所述第二透镜装置设计用于在曲面(260,460)上垂直施加所述激光辐射(170,770),其中,所述曲面(260,460)的每个部位都具有位于远离所述聚焦光学机构(300,700,800)的一侧上的局部曲率中点。5.根据权利要求4所述的聚焦光学机构(300,700,800),其中,所述曲面(260,460)具有至少6mm、优选至少8mm、更优选至少10mm的直径。6.根据权利要求4或5所述的聚焦光学机构(300,700,800),其中,所述曲面(260,460)具有半径R
F
在从8mm至50mm、优选从10mm至30mm、特别优选从12mm至20mm的范围内的表面曲率。7.根据前述权利要求中任一项所述的聚焦光学机构(300,700,800),具有在20mm至50mm的范围内的工作间距(Δ),和/或具有大于40mm、优选大于50mm、特别优选大于或等于60mm的光学开口。8.根据前述权利要求中任一项所述的聚焦...
【专利技术属性】
技术研发人员:哈特穆特,
申请(专利权)人:卡尔蔡司医疗技术股份公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。