【技术实现步骤摘要】
硅棒的外观检测方法及相关设备
[0001]本申请涉及多晶硅生产
,尤其涉及一种硅棒的外观检测方法及相关设备。
技术介绍
[0002]在目前的多晶硅生产过程中,会有多种因素导致有多晶硅附着的硅棒出现菜花,而硅棒出现大比例的菜花是多晶硅生产厂商需要避免的。
[0003]为了避免硅棒出现大比例的菜花,目前主要是在硅棒的生产过程中通过巡检人员肉眼对硅棒的外观进行定期监测。由于还原车间内通常设置数据庞大的还原炉,每一还原炉内的硅棒又都需要监测,导致这种监测方式难以及时发现每一还原炉内的硅棒出现菜花的比例情况。
[0004]因此,现有技术中存在硅棒在生长过程的菜花比例情况难以被及时监测的问题。
技术实现思路
[0005]本申请实施例提供一种硅棒的外观检测方法及相关设备,以解决硅棒在生长过程的菜花比例情况难以被及时监测的问题。
[0006]第一方面,本申请实施例提供了一种硅棒的外观检测方法,包括:
[0007]获取硅棒当前的第一图像信息,第一图像信息包括第一图像;
[0008] ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种硅棒的外观检测方法,其特征在于,所述方法包括:获取所述硅棒当前的第一图像信息,所述第一图像信息包括第一图像;通过最大类间方差法获取所述第一图像的最优二值化阈值;根据所述最优的二值化阈值,对所述第一图像进行二值化处理,得到二值图像,所述二值图像可表征所述硅棒当前的菜花比例;将所述二值图像与目标基准图像进行比对,确定所述硅棒当前的菜花比例是否达标,其中所述目标基准图像为所述二值图像中硅棒所处的生长阶段对应的基准图像。2.根据权利要求1所述的硅棒的外观检测方法,其特征在于,所述通过最大类间方差法获取所述第一图像的最优二值化阈值,包括:以所述第一图像的二值化阈值为界限,将所述第一图像的所有像素点进行归类,获得多个类别组;其中,所述类别组包括灰度值小于所述二值化阈值的像素点归类为第一类别,灰度值大于所述二值化阈值的像素点归类为第二类别,所述第一图像的二值化阈值的取值范围为0~255中的整数,所述第一图像的所有像素点中的单个像素点被归类到所述第一类别的概率为p1,所述第一图像的所有像素点中单个像素点被归类到所述第二类别的概率为p2,所述第一类别中像素点的像素值均值为m1,所述第二类别中像素点的像素值均值为m2,所述第一图像中所有像素点的像素值均值为mG;根据所述p1、p2、m1、m2和mG,计算每一类别组中的所述第一类别和所述第二类别的类间方差σ2,所述σ2满足:σ2=P1(m1
‑
mG)2+P2(m2
‑
mG)2;将目标类别组对应的二值化阈值确定为所述第一图像的最优二值化阈值,所述目标类别组为所述多个类别组中所述σ2取值最大的类别组。3.根据权利要求1所述的硅棒的外观检测方法,其特征在于,所述将所述二值图像与目标基准图像进行比对,确定所述硅棒生长时出现的菜花比例是否达标之前,还包括:获取所述硅棒的至少两个生长图像,不同的生长图像表示所述硅棒处于不同生长阶段;对所述硅棒的至少两个生长图像分别进行二值化处理,分别得到所述硅棒处于不同生长阶段的基准图像。4.根据权利要求1所述的硅棒的外观检测方法,其特征在于,所述第一图像信息还包括拍摄所述第一图像时硅棒的生长阶段信息,所述二值图像中的硅棒的生长阶段信息与所述第一图像中的硅棒的生长阶段信息相同,在所述将所述二值图像与目标基准图像进行比对,确定所述硅棒当前出现的菜花比例是否达标之前,还包括:基于所述拍摄所述第一图像时硅棒的生长阶段信息,确定所述二值图像对应的所述目标基准图像。5.根据权利要求1所述的硅棒的外观检测方法,其特征在于,所述将所述二值图像与目标基准图像进行比对,确定所述硅棒当前出现的菜花比例是否达标之后,还包括:如确定所述硅棒当前出现的菜花比例不达标时,获取所述硅棒所处的还原炉的炉温;根据所述硅棒所处的还原炉的炉温与预设炉温,调整所述硅棒所处的还原炉的输入电流值大小或输入所述硅棒所处的还原炉的氢气与三氯氢硅的摩尔比。6.一种硅棒的外观检测装置,其特征在于,所述装置包括:第一获取模块,用于获取所述硅棒当前的第一图像信息,所述第一图像信息包括第一
...
【专利技术属性】
技术研发人员:董越杰,银波,刘丹丹,王倩,王豪斌,辛俊伟,马鑫,
申请(专利权)人:内蒙古新特硅材料有限公司,
类型:发明
国别省市:
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