线圈盘以及电磁烹饪器具制造技术

本发明专利技术公开一种线圈盘以及电磁烹饪器具，线圈盘包括盘座及线圈绕组，盘座呈凹型设置，以形成盘座底部和盘座侧部；线圈绕组包括第一绕组和第二绕组，第一绕组和第二绕组其一设于盘座底部，另一设于盘座侧部；第一绕组的绕线密度大于第二绕组的绕线密度。本发明专利技术中，盘座的凹型设置，可以通过盘座底部为内锅底部形成磁场和热场、通过盘座侧部为内锅侧部形成磁场和热场；由于第一绕组和第二绕组其中之一设置在盘座底部，另一设置在盘座侧部，且第一绕组与第二绕组差异化设置，更有利于满足电磁加热烹饪器具的不同应用需求。烹饪器具的不同应用需求。烹饪器具的不同应用需求。

【技术实现步骤摘要】
线圈盘以及电磁烹饪器具


[0001]本专利技术涉及电磁加热烹饪
，具体涉及一种线圈盘以及电磁烹饪器具。

技术介绍

[0002]随着技术的发展，线圈盘的使用越来越广泛，如应用于电磁炉、电饭煲等电磁烹饪器具中。电磁烹饪器具一般依靠交流电通过线圈产生交变磁场，从而产生涡流而发热，达到烹饪食物的目的。电磁烹饪器具一般会在线圈盘上的各个部位绕制相同制式的线圈绕组，使得线圈盘的各个部位具有大致相同的磁场和热场效果。

技术实现思路

[0003]本专利技术的主要目的是提出一种线圈盘以及电磁烹饪器具，旨在解决传统线圈盘无法实现差异化应用的问题。
[0004]为实现上述目的，本专利技术提出的一种线圈盘，包括：
[0005]盘座，呈凹型设置，以形成有盘座底部和盘座侧部；以及，
[0006]线圈绕组，包括第一绕组和第二绕组，所述第一绕组和所述第二绕组其中之一设于所述盘座底部，另一设于所述盘座侧部；
[0007]其中，所述第一绕组的绕线密度大于所述第二绕组的绕线密度。
[0008]可选地，所述线圈盘还包括：
[0009]第一支架，供所述第一绕组绕设；以及，
[0010]第二支架，供所述第二绕组绕设；
[0011]所述第一支架和所述第二支架其中之一设于所述盘座底部，另一设于所述盘座侧部。
[0012]可选地，所述第一支架包括支臂，所述支臂的一端靠近所述盘座的中部，并与所述盘座连接，所述支臂的另一端朝向所述盘座的周边延伸，以与所述盘座之间限定出供所述第一绕组绕设的第一绕线槽。
[0013]可选地，所述第一绕线槽的槽宽在靠近其槽底的方向上呈渐小设置。
[0014]可选地，所述第一绕线槽的槽宽不小于1.5mm，且不大于5mm。
[0015]可选地，所述盘座具有供所述线圈绕组绕制的绕线区；
[0016]所述第二支架包括在远离所述绕线区的中部的方向上依次间隔布设的多个绕线凸部，相邻的每两个所述绕线凸部之间限定出一所述第二绕线槽，多个所述绕线凸部的所述第二绕线槽供所述第二绕组绕设。
[0017]可选地，多个所述绕线凸部的长度在远离所述绕线区的中部的方向上呈渐大设置。
[0018]可选地，所述第二绕线槽的槽宽不小于2mm，且不大于5mm。
[0019]可选地，至少部分的所述第一绕组在靠近和远离所述盘座的方向依次设有多层；或者，
[0020]至少部分的所述第一绕组在靠近和远离所述盘座的方向依次设有多层，且所述第一绕组的层数不大于2层。
[0021]可选地，至少部分的所述第二绕组在靠近和远离所述盘座的方向依次设有多层；或者，
[0022]至少部分的所述第二绕组在靠近和远离所述盘座的方向依次设有多层，且所述第二绕组的层数不大于4层。
[0023]可选地，所述第一支架至少部分部位具有磁性。
[0024]可选地，所述线圈盘还包括磁体结构，所述磁体结构设于所述第一支架。
[0025]可选地，所述线圈绕组设于所述盘座的外侧面。
[0026]此外，为实现上述目的，本专利技术还提供一种电磁烹饪器具，包括线圈盘，所述线圈盘包括：
[0027]盘座，呈凹型设置，以形成有盘座底部和盘座侧部；以及，
[0028]线圈绕组，包括第一绕组和第二绕组，所述第一绕组和所述第二绕组其中之一设于所述盘座底部，另一设于所述盘座侧部；
[0029]其中，所述第一绕组的绕线密度大于所述第二绕组的绕线密度。
[0030]本专利技术提供的技术方案中，盘座的凹型设置，可以通过盘座底部为内锅底部形成磁场和热场、通过盘座侧部为内锅侧部形成磁场和热场；由于第一绕组和第二绕组其中之一设置在盘座底部，另一设置在盘座侧部，且第一绕组与第二绕组差异化设置，使得盘座底部和盘座侧部的形成的磁场和热场同样呈差异化设置，使得当内锅侧部的加热需求大于内锅底部时，可将第一绕组设置在盘座侧部，且将第二绕组设置在盘座底部；当内锅底部的加热需求大于内锅侧部时，可将第一绕组设置在盘座底部，且将第二绕组设置在盘座侧部，更有利于满足电磁加热烹饪器具的不同应用需求。
附图说明
[0031]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
[0032]图1为本专利技术提供的线圈盘(一视角)的第一实施例的立体示意图；
[0033]图2为图1中的线圈盘(另一视角)的立体示意图；
[0034]图3为图1中盘座与第一支架分体设置的立体示意图；
[0035]图4为图1中线圈盘的纵剖示意图；
[0036]图5为图4中A处的放大结构示意图；
[0037]图6本专利技术提供的线圈盘的第二实施例的立体示意图；
[0038]图7为图6中的线圈盘的纵剖示意图；
[0039]图8为图7中B处的放大结构示意图。
[0040]附图标号说明：
[0041][0042][0043]本专利技术目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
[0044]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0045]需要说明，若本专利技术实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后
……
)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。
[0046]另外，若本专利技术实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，全文中出现的“和/或”的含义，包括三个并列的方案，以“A和/或B”为例，包括A方案、或B方案、或A和B同时满足的方案。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本专利技术要求的保护范围之内。
[0047]随着技术的发展，线圈盘的使用越来越广泛，如应用于电磁炉、电饭煲等电磁烹饪器具中。电磁烹饪器具一般依靠交流电通过线圈产生交变磁场，从而产生涡流而发热，达到烹饪食物的目的。电磁烹饪器具一般会在线圈盘上的各个部位绕制相同制式的线圈绕组，使得线圈盘的各个部位具有大致相同的磁场和热场效果。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种线圈盘，其特征在于，包括：盘座，呈凹型设置，以形成有盘座底部和盘座侧部；以及，线圈绕组，包括第一绕组和第二绕组，所述第一绕组和所述第二绕组其中之一设于所述盘座底部，另一设于所述盘座侧部；其中，所述第一绕组的绕线密度大于所述第二绕组的绕线密度。2.如权利要求1所述的线圈盘，其特征在于，所述线圈盘还包括：第一支架，供所述第一绕组绕设；以及，第二支架，供所述第二绕组绕设；所述第一支架和所述第二支架其中之一设于所述盘座底部，另一设于所述盘座侧部。3.如权利要求2所述的线圈盘，其特征在于，所述第一支架包括支臂，所述支臂的一端靠近所述盘座的中部，并与所述盘座连接，所述支臂的另一端朝向所述盘座的周边延伸，以与所述盘座之间限定出供所述第一绕组绕设的第一绕线槽。4.如权利要求3所述的线圈盘，其特征在于，所述第一绕线槽的槽宽在靠近其槽底的方向上呈渐小设置。5.如权利要求3所述的线圈盘，其特征在于，所述第一绕线槽的槽宽不小于1.5mm，且不大于5mm。6.如权利要求2所述的线圈盘，其特征在于，所述盘座具有供所述线圈绕组绕制的绕线区；所述第二支架包括在远离所述绕线区的中部的方向上依次间隔布设的多个绕线凸部，相邻的每两个所述绕线凸部之间限定出...

【专利技术属性】
技术研发人员：范吉昌，易亮，吴金华，张翼飞，
申请(专利权)人：佛山市顺德区美的电热电器制造有限公司，
类型：发明
国别省市：