显示基板及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

本申请实施例提供了一种显示基板及其制备方法、显示装置，显示基板包括基板、阳极、发光层和阴极。阳极位于基板的一侧；发光层位于阳极远离基板的一侧；阴极位于发光层远离基板的一侧；其中：阳极包括呈岛状且不连续不规则的导电结构，导电结构的材料包括铟。本申请实施例提供的显示基板，利用金属铟薄膜具有天然漫反射介质的特性，可以沉积为岛状不连续，且岛状形状不一的导电结构，因此，通过增加金属铟薄膜后会形成不规则的阳极反射面，发光层发出的光照射到阳极后，经过阳极的漫反射后形成向各方向传播的光，从而能够提高有机电致发光显示装置大视角亮度，减小色偏，达到提高产品视角亮度的效果，结构简单，适合大规模工业生产应用。产应用。产应用。

【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制备方法、显示装置


[0001]本申请涉及显示
，具体而言，本申请涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。

技术介绍

[0002]随着智能科技的不断发展，市场对于镜面与显示结合的产品需求越来越广泛，该类产品不仅应用到家居、商场、广告宣传、美妆美容等应用场下，还会应用到车载后视镜等应用场景。
[0003]有机电致发光器件通常为镜面反射，随着视角的变化，有机电致发光器件的颜色往往会有比较大的变化，从而导致有机电致发光显示装置大视角亮度低、色偏大。

技术实现思路

[0004]本申请针对现有方式的缺点，提出一种显示基板及其制备方法、显示装置，用以解决现有技术中的显示装置大视角亮度低、色偏大的技术问题。
[0005]第一方面，本申请实施例提供了一种显示基板，包括：
[0006]基板；
[0007]阳极，位于基板的一侧；
[0008]发光层，位于阳极远离基板的一侧；
[0009]阴极，位于发光层远离基板的一侧；
[0010]其中：阳极包括呈岛状且不连续不规则的导电结构，导电结构的材料包括铟。
[0011]在一种可能的实现方式中，阳极包括第一金属层，第一金属层包括铝、银中的一种或多种，第一金属层位于导电结构靠近基板的一侧，或位于导电结构远离基板的一侧；
[0012]或者，阳极包括第一接触阳极层，第一接触阳极层包括透明导电膜层，第一接触阳极层位于导电结构靠近基板的一侧，或位于导电结构远离基板的一侧。
[0013]在一种可能的实现方式中，若阳极包括第一金属层时，阳极还包括第二金属层，第二金属层位于导电结构远离基板的一侧，或位于导电结构靠近基板的一侧；第二金属层包括导电的反射膜层。
[0014]在一种可能的实现方式中，若阳极包括第一金属层时，阳极还包括第二接触阳极层，第二接触阳极层位于导电结构靠近基板的一侧；和/或，阳极还包括第三接触阳极层，第三接触阳极层位于发光层靠近基板的一侧。
[0015]在一种可能的实现方式中，第二接触阳极层的材料包括透明导电材料，第三接触阳极层的材料包括透明导电材料；
[0016]当阳极包括第二金属层时，第二金属层的材料包括铝、银中的一种或多种。
[0017]在一种可能的实现方式中，若阳极包括第一金属层时，导电结构的膜层厚度不小于500埃、且不大于5微米，第一金属层的膜层厚度不小于500埃、且不大于5微米，第三接触阳极层的膜层厚度不小于80埃、且不大于500埃。
[0018]在一种可能的实现方式中，若阳极包括第一接触阳极层时，还包括第四接触阳极层；
[0019]若第一接触阳极层位于导电结构靠近基板的一侧，第四接触阳极层位于导电结构远离基板的一侧；
[0020]若第一接触阳极层位于导电结构远离基板的一侧，第四接触阳极层位于导电结构靠近基板的一侧。
[0021]在一种可能的实现方式中，第二接触阳极层的材料包括透明导电材料；
[0022]若阳极包括第一接触阳极层时，导电结构的膜层厚度不小于1000埃、且不大于5微米，第一接触阳极层的膜层厚度不小于80埃、且不大于500埃；
[0023]或者，若阳极包括第一接触阳极层时，导电结构的膜层厚度不小于20埃、且不大于50埃，第一接触阳极层的膜层厚度不小于200埃、且不大于2000埃；第四接触阳极层的膜层厚度不小于200埃、且不大于2000埃。
[0024]在一种可能的实现方式中，阴极包括透明导电层，或者，阴极包括导电的反射膜层，导电的反射膜层的材料包括铝、银中的一种或多种。
[0025]第二方面，本申请实施例提供了一种显示装置，包括如第一方面的显示基板。
[0026]第三方面，本申请实施例提供了一种显示基板的制备方法，包括：
[0027]提供一基板；
[0028]在基板的一侧依次制作阳极、发光层、阴极；其中，阳极包括呈岛状且不连续不规则的导电结构，导电结构的材料包括铟。
[0029]在一种可能的实现方式中，在基板的一侧制作阳极，包括：
[0030]在基板的一侧制作第一金属层，在第一金属层远离基板的一侧制作导电结构，或，在基板的一侧制作导电结构，在导电结构远离基板的一侧制作第一金属层；
[0031]或者，在基板的一侧制作第一接触阳极层，在第一接触阳极层远离基板的一侧制作导电结构；或，在基板的一侧制作导电结构，在导电结构远离基板的一侧制作第一接触阳极层。
[0032]本申请实施例提供的技术方案带来的有益技术效果包括：
[0033]本申请实施例提供的显示基板的阳极包括呈岛状且不连续不规则的导电结构，导电结构的材料包括铟。利用金属铟薄膜具有天然漫反射介质的特性，可以沉积为岛状不连续，且岛状形状不一的导电结构，因此，通过增加金属铟薄膜后会形成不规则的阳极反射面，发光层发出的光照射到阳极后，经过阳极的漫反射后形成向各方向传播的光，从而能够提高有机电致发光显示装置大视角亮度，减小色偏，达到提高产品视角亮度的效果，结构简单，适合大规模工业生产应用。而且，金属铟薄膜仅通过真空蒸镀或溅射工艺即可实现，能够在不降低显示装置亮度和功耗的前提下，达到提高大视角角度的目的，无需刻蚀等附加工艺，工艺简单，制备成本低。
[0034]本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。
附图说明
[0035]本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得
明显和容易理解，其中：
[0036]图1为镜面反射和漫反射示意图；
[0037]图2为本申请实施例提供的一种显示基板的结构示意图；
[0038]图3为本申请实施例提供的另一种显示基板的结构示意图；
[0039]图4为本申请实施例提供的又一种显示基板的结构示意图；
[0040]图5为本申请实施例提供的再一种显示基板的结构示意图；
[0041]图6为本申请实施例提供的一种显示基板的制备方法的流程示意图；
[0042]图7a
‑
图7c为本申请实施例提供的各种金属铟薄膜的示意图。
[0043]附图标记：
[0044]100
‑
基板，101
‑
导电结构，102a
‑
第一接触阳极层，102b
‑
第二接触阳极层，102c
‑
第三接触阳极层，102d
‑
第四接触阳极层，103
‑
发光层，104
‑
阴极，105
‑
第一金属层，阳极
‑
106。
具体实施方式
[0045]下面详细描述本申请，本申请的实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的部件或具有相同或类似功能的部件。此外，如果已知技术的详细描述对于示出的本申请的特征是不必本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，其特征在于，包括：基板；阳极，位于所述基板的一侧；发光层，位于所述阳极远离基板的一侧；阴极，位于所述发光层远离基板的一侧；其中：所述阳极包括呈岛状且不连续不规则的导电结构，所述导电结构的材料包括铟。2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述阳极包括第一金属层，所述第一金属层包括铝、银中的一种或多种，所述第一金属层位于所述导电结构靠近所述基板的一侧，或位于所述导电结构远离所述基板的一侧；或者，所述阳极包括第一接触阳极层，所述第一接触阳极层包括透明导电膜层，所述第一接触阳极层位于所述导电结构靠近所述基板的一侧，或位于所述导电结构远离所述基板的一侧。3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，若所述阳极包括第一金属层时，所述阳极还包括第二金属层，所述第二金属层位于所述导电结构远离所述基板的一侧，或位于所述导电结构靠近所述基板的一侧；所述第二金属层包括导电的反射膜层。4.根据权利要求2或3所述的显示基板，其特征在于，若所述阳极包括第一金属层时，所述阳极还包括第二接触阳极层，所述第二接触阳极层位于所述导电结构靠近所述基板的一侧；和/或，所述阳极还包括第三接触阳极层，所述第三接触阳极层位于所述发光层靠近所述基板的一侧。5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述第二接触阳极层的材料包括透明导电材料，所述第三接触阳极层的材料包括透明导电材料；当所述阳极包括第二金属层时，所述第二金属层的材料包括铝、银中的一种或多种。6.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，若所述阳极包括第一金属层时，所述导电结构的膜层厚度不小于500埃、且不大于5微米，所述第一金属层的膜层厚度不小于500埃、且不大于5微米，所述第三接触阳极层的膜层厚度不小于80埃、且不大于500埃。7.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，若所述阳极包括第一接触阳极层...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘晓云，康亮亮，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：