本说明书实施例提供一种负压低温等离子创面处理系统、装置和介质，该系统包括：空间模块、等离子模块、负压模块、控制模块，空间模块包括空间大小可调的密闭空间，密闭空间用于放置创面；等离子模块用于生成等离子气体，等离子模块通过柔性管道与空间模块连接，以将等离子气体输送至密闭空间中；负压模块包括风机和排气口，排气口设置在密闭空间的至少一个面上，风机将密闭空间中的气体抽出；控制模块用于生成控制指令，并通过控制指令控制密闭空间、等离子模块和风机的工作参数。等离子模块和风机的工作参数。等离子模块和风机的工作参数。
【技术实现步骤摘要】
一种负压低温等离子创面处理系统、装置和介质
[0001]本说明书涉及医疗器械
，特别涉及一种负压低温等离子创面处理系统、装置和介质。
技术介绍
[0002]日常生活中，磕碰、跌落、事故等意外事故常常造成创面，若不及时处理，常伴有感染的风险。传统的创面处理方法主要是清洁、清创、引流等，但对于有些创面，这些方法对其愈合的促进效果并不明显。随着等离子体技术不断发展成熟，其在医疗领域具有广泛的应用前景。
[0003]因此，希望提供一种负压低温等离子创面处理系统、装置和介质，通过等离子体技术更加精细准确的处理创面，加速创面的愈合过程，减少创面的溃烂。
技术实现思路
[0004]本说明书一个或多个实施例提供一种负压低温等离子创面处理系统，该系统包括：空间模块、等离子模块、负压模块、控制模块，空间模块包括空间大小可调的密闭空间，密闭空间用于放置创面；等离子模块用于生成等离子气体，等离子模块通过柔性管道与空间模块连接，以将等离子气体输送至密闭空间中；负压模块包括风机和排气口，排气口设置在密闭空间的至少一个面上，风机将密闭空间中的气体抽出；控制模块用于生成控制指令，并通过控制指令控制密闭空间、等离子模块和风机的工作参数。
[0005]本说明书一个或多个实施例提供一种负压低温等离子创面处理装置，包括处理器，所述处理器用于生成控制指令，并通过控制指令控制上述任一项所述负压低温等离子创面处理系统的密闭空间、等离子模块和所述风机的工作参数。
[0006]说明书一个或多个实施例提供一种计算机可读存储介质，所述存储介质存储计算机指令，当计算机读取存储介质中的计算机指令后，计算机执行生成控制指令，并通过控制指令控制上述任一项所述负压低温等离子创面处理系统的密闭空间、等离子模块和所述风机的工作参数。
附图说明
[0007]本说明书将以示例性实施例的方式进一步说明，这些示例性实施例将通过附图进行详细描述。这些实施例并非限制性的，在这些实施例中，相同的编号表示相同的结构，其中：图1是根据本说明书一些实施例所示的负压低温等离子创面处理系统的示意图；图2是根据本说明书一些实施例所示的负压低温等离子创面处理系统的控制模块的功能的示例性流程图；图3是根据本说明书一些实施例所示的第一预测模型的结构图；图4是根据本说明书一些实施例所示的确定工作时长的方法的示例性流程图；
图5是根据本说明书一些实施例所示的判断模型的结构图。
具体实施方式
[0008]为了更清楚地说明本说明书实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单的介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本说明书的一些示例或实施例，对于本领域的普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图将本说明书应用于其它类似情景。除非从语言环境中显而易见或另做说明，图中相同标号代表相同结构或操作。
[0009]应当理解，本文使用的“系统”、“装置”、“单元”和/或“模块”是用于区分不同级别的不同组件、元件、部件、部分或装配的一种方法。然而，如果其他词语可实现相同的目的，则可通过其他表达来替换所述词语。
[0010]如本说明书和权利要求书中所示，除非上下文明确提示例外情形，“一”、“一个”、“一种”和/或“该”等词并非特指单数，也可包括复数。一般说来，术语“包括”与“包含”仅提示包括已明确标识的步骤和元素，而这些步骤和元素不构成一个排它性的罗列，方法或者设备也可能包含其它的步骤或元素。
[0011]本说明书中使用了流程图用来说明根据本说明书的实施例的系统所执行的操作。应当理解的是，前面或后面操作不一定按照顺序来精确地执行。相反，可以按照倒序或同时处理各个步骤。同时，也可以将其他操作添加到这些过程中，或从这些过程移除某一步或数步操作。
[0012]图1是根据本说明书一些实施例所示的负压低温等离子创面处理系统的示意图。以下将对本说明书实施例所涉及的负压低温等离子创面处置系统100进行详细说明。需要注意的是，以下实施例仅用于解释本说明书，并不构成对本说明书的限定。例如，负压低温等离子创面处理系统可以用于处理柔性等离子、柔性冷等离子、低温等离子体等应用场景。
[0013]如图1所示，负压低温等离子创面处理系统100可以包括空间模块110、等离子模块120、负压模块130和控制模块140。
[0014]等离子体是指气体在强电磁场作用下而产生的一种高度电离的气体云，主要由电子、离子、原子、分子、自由基等各种活性物质组成，等离子体是除固、液、气三态以外的新的物质形态。可以理解的，等离子体中的正电荷总数与负电荷数在数值上相等。随着等离子体伤口治疗的发展，等离子体可以深度清洁、高效灭菌，因此等离子体创伤治疗以其皮肤刺激小、患者痛苦轻、使用方便等优点在临床医疗上取得迅速的发展，从而可以广泛应用于医疗领域。
[0015]空间模块110可以指用于容纳创面所在的身体部位的全部或者部分的密闭空间。
[0016]在一些实施例中，空间模块110可以包括至少一个摄像头，用于拍摄创面图像。空间模块110还可以包括传感器，当待处理对象伸入到密闭空间内部时，摄像头可以在传感器探测到待处理对象后进行拍摄。
[0017]在一些实施例中，空间模块110外部还可以包括和用户交互的用户终端，例如，触屏，用户可以通过该触屏输入创面参数。关于创面参数的详细内容可以参见本说明书其他内容的描述，例如，图2。
[0018]在一些实施例中，空间模块110包括空间大小可调的密闭空间，密闭空间用于放置
创面。
[0019]密闭空间可以指对创面进行处理的空间。在一些实施例中，密闭空间内可以通入等离子气体，利用等离子气体对创面进行处理。密闭空间的数量可以为至少一个。密闭空间的形状可以为多种，可以根据创面所在的身体部位的大小、创面和/或其所在的身体部位的形状选择适合的密闭空间，使密闭空间相对密闭，并可以提高创面处理效率。例如，对于手腕处的创面，可以选择和手腕形状适配的密闭空间。
[0020]密闭空间可以是用于容纳创面的相对密闭的空间。空间模块110可以分为封闭式、半开放式等。半开放式空间模块110的一面可以设置有开口，开口可以为密闭空间的一面的一部分或者整个一面，其开口处可以在与身体部位接触而形成相对的密闭空间，进一步地，与身体部位相接触的一面设置具备弹性以及强度的材料，例如，橡胶，当需要处理创面时，将该空间模块110（或密闭空间）置于创面所在的身体部位上，该材料可以使空间模块110和皮肤的接触更紧密，形成相对的密闭空间。例如，当创面在肚子上，可以将该空间模块110置于创面所在的肚子上，并压紧或者抽真空形成相应的密闭空间。
[0021]封闭式空间模块110可以具有可供创面所在的身体部位伸入的入口和/或伸出的出口，该入口或者出口的材料可以具有一定的弹性和强度，将创面所在的身体部位通过入口伸入到密闭空间内，也可以再从出口伸出，例如，创面在胳膊肘处，可以将该胳膊从入口伸入到密闭空间内，再从出口伸出，将创面位本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种负压低温等离子创面处理系统，包括：空间模块、等离子模块、负压模块、控制模块，所述空间模块包括空间大小可调的密闭空间，所述密闭空间用于放置创面；所述等离子模块用于生成等离子气体，等离子模块通过柔性管道与所述空间模块连接，以将所述等离子气体输送至所述密闭空间中；所述负压模块包括风机和排气口，所述排气口设置在所述密闭空间的至少一个面上，所述风机将所述密闭空间中的气体抽出；所述控制模块用于生成控制指令，并通过所述控制指令控制所述密闭空间、所述等离子模块和所述风机的工作参数。2.根据权利要求1所述的系统，所述密闭空间包括至少一个可活动面，所述可活动面基于升降装置的移动来改变所述密闭空间的大小。3.根据权利要求1所述的系统，所述控制模块被配置为执行以下操作：获取设置在密闭空间内的摄像头拍摄的创面图像；基于所述创面图像，生成第一控制指令；将所述第一控制指令发送至所述空间模块，以使得所述空间模块基于所述第一控制指令控制所述密闭空间的工作参数。4.根据权利要求3所述的系统，所述控制模块被配置为进一步执行以下操作：发送提醒信息给用户终端，所述提醒信息用于提醒用户输入创面参数以及提醒用户确认创面摆放位置；获取用户通过所述用户终端输入的所述创面参数；基于所述创面参数和所述创面图像，生成第一控制指令。5.根据权利要求3所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员：常华梅，时贞平，
申请(专利权)人：江苏容正医药科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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