一种太赫兹波发生装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及太赫兹技术领域，尤其涉及一种太赫兹波发生装置。该太赫兹发生装置包括激光源；振荡通道，激光源朝向振荡通道的入口设置，振荡通道包括水合物层，水合物层内壁设置有内层金属膜，水合物层外壁设置有外层金属膜；输出镜组，输出镜组包括聚合凹面镜和调向镜，聚合凹面镜设置于振荡通道外部，聚合凹面镜的凹面朝向振动通道设置，调向镜对应聚合凹面镜设置。在激光射入振荡通道后发生往复振荡的反射动作，进一步的在振动通道内产生高强度的太赫兹辐射，同时聚合凹面镜对辐射太赫兹波进行收集后调向输出，该装置不仅体积小、结构简单，同时还能够发生高强度的太赫兹波。时还能够发生高强度的太赫兹波。时还能够发生高强度的太赫兹波。

【技术实现步骤摘要】
一种太赫兹波发生装置


[0001]本专利技术涉及太赫兹
，尤其涉及一种太赫兹波发生装置。

技术介绍

[0002]太赫兹波(THz波)或称为太赫兹射线(THz射线)是上个世纪80年代中后期，才被正式命名的，在此以前科学家们将统称为远红外射线。太赫兹波是指频率在0.1THz到10THz范围内的电磁波，波长大概在0.03mm 到3mm范围，介于微波与红外波之间。近几十年，太赫兹及其相关研究领域一直是科学家们研究的热点，太赫兹的应用十分广泛，从军事、安保、生物医学成像到化学研究和空间通讯等等无处不展现了太赫兹巨大的应用价值。由于其特殊的非电离特性，太赫兹可以轻松穿透几毫米的生物组织而不产生损伤。
[0003]目前，主要通过自由电子激光受激辐射或者电光晶体的非线性光电导及飞秒整流转换来产生太赫兹源。然而激光在非线性晶体中的光整流效应产生的太赫兹辐射强度很低，主要原因是受限于非线性晶体的低损伤阈值，激光极易打坏晶体等因素限制。由于目前主流太赫兹技术产生的太赫兹能量相对较低，影响到背向太赫兹成像技术的发展，因此，基于前沿安全市场应用需求，设计一个新型高能太赫兹发生装置具有非常重要的现实意义和应用价值。

技术实现思路

[0004]本专利技术提供了一种太赫兹波发生装置，用以解决现有技术中非线性晶体产生的太赫兹辐射强度低的问题。
[0005]为解决上述问题，本专利技术提供了一种太赫兹波发生装置，包括：
[0006]激光源；
[0007]振荡通道，所述激光源朝向所述振荡通道的入口设置，所述振荡通道包括水合物层，所述水合物层内壁设置有内层金属膜，所述水合物层外壁设置有外层金属膜；
[0008]输出镜组，所述输出镜组包括聚合凹面镜和调向镜，所述聚合凹面镜设置于所述振荡通道外部，所述聚合凹面镜的凹面朝向所述振动通道设置，所述调向镜对应所述聚合凹面镜设置。
[0009]在一种可能的实施方式中，优选的，所述内层金属膜和所述外层金属膜均采用金材料膜或者银材料膜。
[0010]在一种可能的实施方式中，优选的，所述输出镜组还包括角度调节杆，所述角度调节杆的一端与安装载体连接设置，所述角度调节杆的另一端与所述聚合凹面镜连接设置。
[0011]在一种可能的实施方式中，优选的，所述输出镜组还包括角度调节扣，所述角度调节扣设置于所述聚合凹面镜和所述角度调节杆之间，所述角度调节扣用于调整所述聚合凹面镜的角度。
[0012]在一种可能的实施方式中，优选的，所述激光源为飞秒脉冲激光源或者飞秒超快激光源。
[0013]在一种可能的实施方式中，优选的，所述内层金属膜呈网状结构设置。
[0014]在一种可能的实施方式中，优选的，所述水合物层包括有胶体介质。
[0015]本专利技术的有益效果是：本专利技术提出一种太赫兹波发生装置，包括激光源；振荡通道，激光源朝向振荡通道的入口设置，振荡通道包括水合物层，水合物层内壁设置有内层金属膜，水合物层外壁设置有外层金属膜；输出镜组，输出镜组包括聚合凹面镜和调向镜，聚合凹面镜设置于振荡通道外部，聚合凹面镜的凹面朝向振动通道设置，调向镜对应聚合凹面镜设置。本专利技术采用所金属费米能级共振场增强的方式产生太赫兹波，激光在所金属费米能级上进行振荡，在产生太赫兹波的同时对其辐射进行增强，同时该装置体积还小，结构简单。
附图说明
[0016]为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本专利技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
[0017]图1示出了太赫兹波发生装置的整体结构示意图；
[0018]图2示出了激光射入振荡通道时的动作原理示意图；
[0019]图3示出了图2中A部分的放大结构示意图。
[0020]主要元件符号说明：
[0021]100
‑
激光源；200
‑
振荡通道；210
‑
水合物层；220
‑
内层金属膜；230
‑
外层金属膜；300
‑
聚合凹面镜；400
‑
调向镜；500
‑
角度调节杆；510
‑
角度调节扣；600
‑
光线回射装置。
具体实施方式
[0022]下面详细描述本专利技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。
[0023]在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。
[0024]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本专利技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
[0025]在本专利技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情
况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。
[0026]在本专利技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0027]请参阅图1、图2和图3，本专利技术提供一种太赫兹波发生装置(以下简称发生装置)，该发生装置包括激光源100、振荡通道200和输出镜组 (附图中未标注)，其中振荡通道200用于进行激光振荡后产生太赫兹波，输出镜组用于对产生的太赫兹波进行聚合后调向输出。
[0028]具体的，振荡通道200包括水合物层210，在水合物层210的内壁设置有内层本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种太赫兹波发生装置，其特征在于，包括：激光源；振荡通道，所述激光源朝向所述振荡通道的入口设置，所述振荡通道包括水合物层，所述水合物层内壁设置有内层金属膜，所述水合物层外壁设置有外层金属膜；输出镜组，所述输出镜组包括聚合凹面镜和调向镜，所述聚合凹面镜设置于所述振荡通道外部，所述聚合凹面镜的凹面朝向所述振动通道设置，所述调向镜对应所述聚合凹面镜设置。2.根据权利要求1所述的太赫兹波发生装置，其特征在于，所述内层金属膜和所述外层金属膜均采用金材料膜或者银材料膜。3.根据权利要求1所述的太赫兹波发生装置，其特征在于，所述输出镜组还包括角度调节杆，...

【专利技术属性】
技术研发人员：侯国辉，侯国利，刘友兰，侯利艳，
申请(专利权)人：深圳市笨辉光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：