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一种具有增强的非线性光学特性的大面积Te-MX2垂直异质结的制备方法技术

技术编号:36536138 阅读:24 留言:0更新日期:2023-02-01 16:21
本发明专利技术公开一种具有增强的非线性光学特性的大面积Te

【技术实现步骤摘要】
一种具有增强的非线性光学特性的大面积Te

MX2垂直异质结的制备方法


[0001]本专利技术涉及到材料和非线性光学,特别涉及一种具有增强的非线性光学特性的大面积 Te

MX2垂直异质结的制备方法。

技术介绍

[0002]碲是第五周期VI A族(氧族)元素。在所有非金属元素中,金属性最强,具有良好的导电、导热性能。碲是窄带隙p型半导体材料,其带隙大小约为0.35eV。碲单晶材料具有独特的一维范德华结构,分子链间通过范德华力相连接。先前的理论与实验表明其具有优异的铁电、压电、热电、光电等物理特性,在光电探测器、气体传感器、场效应晶体管、压电器件、光学调制器件等方面表现出极大的应用潜力。研究发现,碲纳米结构具有优异的非线性光学响应特性,这使得其可以成为优秀光学材料之一。Te具有较高的有效宽带饱和吸收率,可利用Te作为可饱和吸收体来制造光子器件。Te在被动调Q器、锁模器、光切换器或光调制器领域具有广阔的应用前景。因此,制备具有优异饱和吸收特性的高质量碲纳米材料显得尤为重要。
[0003]为了制备具有优异饱本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有增强的非线性光学特性的大面积Te

MX2垂直异质结的制备方法,其中,M为Mo或W,X为S或Se,其特征在于,包括如下步骤:(1)准备一片长有MX2的玻璃基底,把石墨垫块放置在基底的两侧,将另一片干净的玻璃片以“面对面”的形式盖在长有MX2的玻璃基底上,形成一个微反应腔,通过控制石墨垫块的高度调控反应腔的空间高度,然后将整个微反应腔放置于管式炉下游端距离中心加热温区20

24cm处;(2)将碲粉末放在氧化铝舟中置于中心加热温区;(3)向管式炉的反应腔内通入氩气15

30min进行清洗;(4)清洗结束后,开启真空泵,通入氩气作为载气,升高管式炉的温度,使碲粉所在温区的温度加热至280

300℃,设置生长时间为15

25分钟,进行大面积Te

MX2垂直异质结纳米结构的生长;(5)生长结束后,温度自然降至室温,关闭真空泵与氩气,即得到大面积Te

MX2异质结纳米结构。2.根据权利要求1所述的具有增强的非线性光学特性的大面积Te

MX2垂直异质结的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,石墨垫控制干净的玻璃片与长有MX2的玻璃基底相距1

3mm。3.根据权利要求1所述的具有增强的非线性光学特性的大面积Te
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【专利技术属性】
技术研发人员:郝国林肖金彪郝玉龙高慧贺力员
申请(专利权)人:湘潭大学
类型:发明
国别省市:

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