用于口腔清洁和/或处理装置的清洁单元制造方法及图纸

技术编号:36519556 阅读:18 留言:0更新日期:2023-02-01 15:54
口腔清洁单元,例如用于口腔清洁和/或处理装置的头部,包括用于产生RF场以提供口腔清洁和/或处理功能的电极。该单元包括至少第一突出结构和第二突出结构,该第一突出结构和第二突出结构在相同的大体方向上远离基部或支撑结构突出。每个电极被包括一个或多个电极。这些突出结构被布置成彼此面对并且由一个空间或间隙分开,该空间或间隙被配置成能够接纳在该第一突出结构与第二突出结构之间被推动或插入其中的齿,并且这些突出结构在该齿的任一侧上延伸,即跨过该齿。当电极由RF信号适当地驱动时,这允许由突出结构构成的RF电极到达在牙齿侧面至少部分地向下的位置,更靠近齿间空间,使得能够更好地清洁齿间空间,并且可选地还使用与牙齿特征相互作用的RF能量/场进行感测。感测。感测。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于口腔清洁和/或处理装置的清洁单元


[0001]本专利技术涉及一种用于口腔清洁和/或处理装置的清洁单元,特别是使用电磁能用于清洁功能的口腔清洁和/或处理装置。

技术介绍

[0002]射频电磁辐射可用于在口腔中提供清洁或处理功能。特别地,口腔清洁或处理装置可以包括清洁或处理单元,例如头部部分,用于插入到用户的口腔中,该清洁单元部分包括两个或更多个连接到RF信号发生器的电极。信号发生器利用RF信号驱动电极,该RF信号使RF场在电极周围和电极之间产生。
[0003]根据US 10201701 B2,当RF场与牙齿和牙龈的表面相互作用时,它通过松开杂质和口腔中表面之间的结合而提供清洁功能。特别地,以这种方式产生的RF场可以去除牙斑以及牙结石。也可以减少牙齿的着色。
[0004]US 10201701 B2描述了一种电动牙刷,其包括RF发生器、两个RF电极和位于两个RF电极之间的硅条形式的电介质阻挡层。该电介质阻挡层具有一高度,该高度延伸到刷毛的末端的水平。阻挡层迫使在电极之间传输的RF波在阻挡层的顶部上行进,从而到达刷毛在使用中与牙齿和牙龈的表面接合的区域。
[0005]刷毛的末端以通常的方式摩擦牙齿的表面以清洁牙齿,同时,RF电极发射RF波,该RF波在刷毛末端的水平上、在正被刷的同一表面上提供清洁功能。
[0006]通常寻求RF口腔清洁和/或处理装置领域的发展。

技术实现思路

[0007]本专利技术由权利要求限定。
[0008]根据依据本专利技术的一个方面的示例,提供了一种用于口腔清洁和/或处理装置的清洁单元,该清洁单元用于被接纳在用户的口腔中,该清洁单元包括:
[0009]第一突出结构,该第一突出结构从该清洁单元的表面向外延伸,该第一突出结构包括一个或多个第一电极,
[0010]第二突出结构,该第二突出结构从该清洁单元的表面向外延伸并且包括一个或多个第二电极,
[0011]该第二突出结构与该第一突出结构间隔开一间隙,
[0012]其中该间隙被布置成使得至少一个齿能够被接纳在该第一突出结构与该第二突出结构之间的间隙中,并且该第一突出结构和该第二突出结构在该间隙(并且因此该齿)的任一侧上延伸,并且其中,在该至少一个齿被接纳在该间隙中的情况下,该第一突出结构和该第二突出结构在该齿的外侧表面至少部分地向下延伸。
[0013]本专利技术的实施例基于这样的概念,即,以这样的形式提供电极,即,齿能够被装配在两组电极之间,并且电极至少部分地保持在齿的外侧表面的下方。这样,齿本身作为电极之间的绝缘屏障,取代了对专用屏障元件的需要。此外,这种布置改善了牙齿之间的齿间空
间的清洁,因为电极定位成更靠近该空间,并且与该空间处于相同的高度水平。因为牙齿提供了绝缘屏障,所以RF能量被自然地引起经由齿间空间,即沿着延伸穿过在牙齿任一侧处的齿间空间的路径,在电极之间流动。
[0014]因此,与现有技术的装置相比,本专利技术的实施例提供了增强的清洁能力。
[0015]应当注意,尽管上面提到了清洁单元,但是该装置可以附加地或可选地是用于利用RF能量处理口腔中的一个或多个区域的处理单元。因此,在本公开中提到清洁单元可以理解为提到清洁和/或处理单元。
[0016]间隙优选地从第一突出结构延伸到第二突出结构。该间隙可以包括从第一突出结构延伸到第二突出结构的空间。该间隙可以是从第一突出结构延伸(不间断地)到第二突出结构的开放空间。空间例如是指空气间隙。
[0017]该间隙用于接纳第一突出结构和第二突出结构之间的齿的整个宽度。该间隙的尺寸适于接纳普通成年人的平均臼齿的整个宽度。
[0018]所述突出结构可以被布置成使得在该齿被接纳在该间隙中的情况下,所述突出结构直接邻近于该齿的侧表面(即面向这些齿表面,例如在该突出结构与该齿表面之间不再有任何东西)。突出结构可以与齿的侧表面接触。
[0019]所述突出结构可以被布置成使得当牙齿被接纳在该间隙中时,所述突出结构被定位成邻近该牙齿旁边的齿间空间并且在该齿间空间的任一侧。
[0020]清洁单元是用于基于RF能量的口腔清洁或处理装置的单元。例如,第一电极和第二电极各自可适于利用RF驱动信号被驱动以产生RF电磁场。
[0021]清洁单元用于被接纳在用户的口腔内以用于执行口腔清洁和/或处理功能。
[0022]清洁单元可以是例如用于口腔清洁和/或处理装置(例如牙刷或其它装置)的头部,或者可以是不同形式的清洁或处理单元,例如用于装配到口腔中的喉舌单元(mouthpiece unit)。
[0023]第一突出结构和第二突出结构可以各自包括一组一个或多个突出构件。
[0024]因此,每个突出结构可以包括例如单个突出构件或多个突出构件。
[0025]在一些示例中,每个突出结构可以包括单个片状突出构件,该片状突出构件限定清洁单元表面上的细长覆盖区,即,该片状突出构件从清洁单元表面上的线延伸。
[0026]备选地,每个突出结构包括多个突出构件。每个突出构件可以包括相应的电极,或仅突出构件的子集可以包括电极。
[0027]例如,在一组实施例中(下面进一步描述),每个突出构件可以形成相应的刷毛,并且每个突出结构可以包括相应的刷毛簇或刷毛束。然而,这仅代表一个示例结构。
[0028]每个突出结构的一个或多个突出构件的至少一部分可以是柔性的。这对于允许齿被接纳在第一突出结构和第二突出结构之间的间隙中是有用的。
[0029]例如,第一突出结构和第二突出结构的(一个或多个)突出构件的至少一部分可适于弯曲以将齿接纳在间隙中。突出构件可以是这样的:当齿被接纳在间隙中时,突出构件与齿的外面弹性接合。
[0030]形成多个突出构件(例如突出构件的束或簇)的突出结构的优点在于,突出结构可以更好地符合接纳在间隙中的齿的形状,或者如果需要更容易向外变形以接纳齿。
[0031]根据一些实施例,清洁单元还可以包括从清洁单元的表面向外延伸的另外的突出
结构,该另外的突出结构包括一个或多个另外的电极,并且该另外的突出结构被设置在第一突出结构和第二突出结构之间的间隙中,并且突出到比第一突出结构和第二突出结构的短的高度。
[0032]该另外的突出结构包括较短的一组一个或多个电极,当齿被接纳在间隙中时,该较短的一组一个或多个电极允许在牙齿的牙冠附近产生RF场。同时,第一突出结构和第二突出结构可以被驱动以产生RF场来处理牙齿的侧面,特别是牙齿之间的齿间空间。
[0033]关于如何实现突出结构存在不同的选择,这可部分地取决于清洁单元的预期应用,即清洁单元将用于的口腔护理装置的类型。
[0034]例如,根据一组实施例,该清洁单元可以包括台板,并且还包括从该台板的第一面向外延伸的用于清洁牙齿的多个刷毛,并且其中该多个刷毛被成形和/或布置成允许牙齿进入到所述间隙中。
[0035]此示例中的齿可以在向下朝向台板第一表面的方向上被接纳到间隙中,其中第一突出结构和本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于口腔清洁和/或处理装置的清洁单元(10),所述清洁单元用于被接纳在用户的口腔中,所述清洁单元包括:第一突出结构(14a),所述第一突出结构从所述清洁单元的表面向外延伸,所述第一突出结构包括一个或多个第一电极(18a),第二突出结构(14b),所述第二突出结构从所述清洁单元的表面向外延伸并且包括一个或多个第二电极(18),所述第二突出结构与所述第一突出结构间隔开一间隙(16),其中所述间隙包括空间,所述空间从所述第一突出结构延伸至所述第二突出结构,其中所述间隙(16)被布置成使得至少一个齿(22)能够被接纳在所述第一突出结构与所述第二突出结构之间的所述间隙中,并且所述第一突出结构和所述第二突出结构在所述间隙的任一侧上延伸,其中当所述至少一个齿被接纳在所述间隙中时,所述第一突出结构和所述第二突出结构在所述齿的外侧表面至少部分地向下延伸,其中所述第一突出结构(14a)和所述第二突出结构(14b)各自包括多个突出构件,并且其中每个突出结构中的所述突出构件的至少一部分是柔性的。2.根据权利要求1所述的清洁单元(10),其中所述第一突出结构和所述第二突出结构中的突出构件的至少一部分适于弯曲,以将所述齿接纳在所述间隙中,使得当所述齿被接纳在所述间隙中时,所述构件与所述齿的外面弹性接合。3.根据权利要求1

2中任一项所述的清洁单元(10),其中所述清洁单元包括台板(12),并且还包括多个刷毛(42),所述多个刷毛(42)从所述台板的第一面向外延伸以用于清洁齿,并且其中所述多个刷毛被成形和/或布置成允许齿进入到所述间隙(16)中。4.根据权利要求3所述的清洁单元(10),其中所述第一突出结构(14a)和所述第二突出结构(14b)至少部分地由所述多个刷毛(42)的第一子集和第二子集相应地形成,所述刷毛形成所述突出构件。5.根据权利要求4所述的清洁单元(10),其中刷毛的所述第一子集中的刷毛中的一个或多个刷毛包括一个或多个第一电极(18a),并且所述第二子集中的刷毛中的一个或多个刷毛包括一个或多个第二电极(18b)。6.根据权利要求4或5所述的清洁单元(10),其中刷毛的所述第一子集被布置成第一空间组中,并且刷毛的所述第二子集被布置成第二空间组中,所述第一组和第二组具有在它们之间限定所述间隙(16)的间隔。7.根据权利要求3

6中任一项所述的清洁单元(10),其中所述第一电极(18a)和所述第二电极(18b)呈刷毛的形式。8.根据权利要求4

7中任一项所述的清洁单元(10),其中所述清洁单元包括中间组刷毛(44...

【专利技术属性】
技术研发人员:L
申请(专利权)人:皇家飞利浦有限公司
类型:发明
国别省市:

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