一种自适应稳定平台制造技术

本发明专利技术一种自适应稳定平台属于精密仪器技术领域；所述自适应稳定平台，包括台面、位于台面下方中心位置的支撑，所述台面和支撑之间通过万向节连接；所述台面的下方还设置有成阵列分布的气嘴；所述气嘴包括上部气道、阀门套筒、下部气道和支架；上部气道顶部开口，底部封闭，侧壁下方设置有多个进气口；下部气道顶部封闭，底部连接外部供气设备，侧壁上方设置有多个出气口；上部气道和下部气道上下同轴设置，所述阀门套筒同时包裹在上部气道侧壁下方和下部气道侧壁上方，且能够沿上部气道和下部气道所在方向运动；本发明专利技术一种自适应稳定平台，实现了在不需要控制算法的条件下，平台的自适应稳定。自适应稳定。自适应稳定。

【技术实现步骤摘要】
一种自适应稳定平台
[0001]本申请是专利技术专利申请《一种气嘴及一种自适应稳定平台》的分案申请。
[0002]原案申请日：2019
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08
‑
11。
[0003]原案申请号：2019107371895。
[0004]原案专利技术名称：一种气嘴及一种自适应稳定平台。


[0005]本专利技术一种自适应稳定平台属于精密仪器


技术介绍

[0006]稳定平台是一种能够使被控对象相对某惯性空间保持方位不变，或者在一定力矩作用下，按给定规律调节被稳对象位置方位的装置。
[0007]稳定平台多用于目标跟踪，运动轨迹模拟等场合，在军事、科研等领域具有广泛的应用。
[0008]目前，平台稳定回路的设计，都是把实际系统看做线性系统，并采用线性经典控制技术进行设计。包括超前
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滞后矫正控制，PID控制等。但随着稳定平台的发展，对响应速度和补偿误差的要求越来越高，还出现了惯性平台稳定回路的复合控制、自适应控制、变结构控制、模糊PID控制等，并取得了较好的控制效果。
[0009]然而，这些控制方式都显得比较复杂。

技术实现思路

[0010]针对现有稳定平台控制复杂的问题，本专利技术从机械设计角度出发，设计了一种纯机械式的自适应稳定平台，并为该稳定平台设计了一种气嘴，无需软件控制即可实现平台的自适应稳定。
[0011]本专利技术的目的是这样实现的：一种自适应稳定平台，包括台面、位于台面下方中心位置的支撑，所述台面和支撑之间通过万向节连接；所述台面的下方还设置有成阵列分布的气嘴。
[0012]上述自适应稳定平台，所述气嘴包括上部气道、阀门套筒、下部气道和支架；所述上部气道顶部开口，底部封闭，侧壁下方设置有多个进气口；所述下部气道顶部封闭，底部连接外部供气设备，侧壁上方设置有多个出气口；所述上部气道和下部气道上下同轴设置，所述阀门套筒同时包裹在上部气道侧壁下方和下部气道侧壁上方，且能够沿上部气道和下部气道所在方向运动；在阀门套筒运动范围里，上部气道的进气口全部被阀门套筒包裹，下部气道的出气口部分被阀门套筒包裹；所述支架分别与上部气道和下部气道连接，用于固定上部气道和下部气道的相对位置；所述阀门套筒由顶部环形盖、封闭侧壁和底部环形盖组成；所述顶部环形盖连接台面的下方，通过台面位置来确定阀门套筒相对于上部气道和下部气道的位置。
[0013]所述气嘴距离支撑越远，气嘴中上部气道的顶部开口距离台面越远。
[0014]所述气嘴距离支撑越远，气嘴的直径越大。
[0015]所述气嘴距离支撑越远，外部供气设备的供气气压越高。
[0016]有益效果：第一、本专利技术针对现有稳定平台控制算法复杂的问题，设计了一种纯机械式的自适应稳定平台，同时设计了一种用于该自适应稳定平台的气嘴，实现了在不需要控制算法的条件下，平台的自适应稳定。
[0017]第二、本专利技术气嘴以牺牲一部分气体（即跑气）为代价，实现了仅仅需要上部气道、阀门套筒、下部气道和支架四个零部件即可实现自适应调整气压，零部件数量少，结构简单，制作成本低廉。
[0018]第三、在本专利技术气嘴中，在阀门套筒运动范围里，上部气道的进气口全部被阀门套筒包裹，下部气道的出气口部分被阀门套筒包裹；这种设计，使得阀门套筒运动，改变进入阀门套筒中的出气孔数量，从而改变进入阀门套筒中的气量，进而改变上部气道进气口的进气量，最终实现气嘴气量的自适应调整。
附图说明
[0019]图1是本专利技术气嘴的结构示意图一。
[0020]图2是本专利技术气嘴的结构示意图二。
[0021]图3是本专利技术气嘴中阀门套筒的结构示意图。
[0022]图4是本专利技术自适应稳定平台的结构示意图。
[0023]图中：1台面、2支撑、3万向节、4气嘴、4
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1上部气道、4
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2阀门套筒、4
‑2‑
1顶部环形盖、4
‑2‑
2封闭侧壁、4
‑2‑
3底部环形盖、4
‑
3下部气道、4
‑
4支架。
具体实施方式
[0024]下面结合附图对本专利技术具体实施方式作进一步详细描述。
[0025]具体实施方式一以下为气嘴的实施方式。
[0026]本实施方式下的气嘴，结构示意图如图1和图2所示，其中，图1是阀门套筒4
‑
2位于最上方，即外部设备距离上部气道4
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1最远时的示意图，图2是阀门套筒4
‑
2位于最下方，即外部设备距离上部气道4
‑
1最近时的示意图。在图1和图2中，单向箭头表示气体流动方向，双向箭头表示外部设备能够上下运动。需要说明的是，在图1和图2中，支架4
‑
4与套筒4
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2连接外部设备的零部件存在干涉，这仅仅是表示的问题，在实际应用中，支架4
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4的两臂与套筒4
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2连接外部设备的零部件位于两个相互垂直的平面，即图1和图2的俯视图中，支架4
‑
4的两臂分别位于3点和9点位置，套筒4
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2连接外部设备的零部件分别位于6点和12点位置。
[0027]该气嘴包括上部气道4
‑
1、阀门套筒4
‑
2、下部气道4
‑
3和支架4
‑
4；所述上部气道4
‑
1顶部开口，底部封闭，侧壁下方设置有多个进气口；所述下部气道4
‑
3顶部封闭，底部连接外部供气设备，侧壁上方设置有多个出气口；所述上部气道4
‑
1和下部气道4
‑
3上下同轴设置，所述阀门套筒4
‑
2同时包裹在上
部气道4
‑
1侧壁下方和下部气道4
‑
3侧壁上方，且能够沿上部气道4
‑
1和下部气道4
‑
3所在方向运动；在阀门套筒4
‑
2运动范围里，上部气道4
‑
1的进气口全部被阀门套筒4
‑
2包裹，下部气道4
‑
3的出气口部分被阀门套筒4
‑
2包裹；所述支架4
‑
4分别与上部气道4
‑
1和下部气道4
‑
3连接，用于固定上部气道4
‑
1和下部气道4
‑
3的相对位置。
[0028]具体实施方式二以下为气嘴的实施方式。
[0029]本实施方式下的气嘴，在具体实施方式一的基础上，进一步限定阀门套筒4
‑
2的结构，如图3所示，所述阀门套筒4
‑
2由顶部环形盖4
‑2‑
1、封闭侧壁4
‑2‑
2和底部环形盖4
‑2‑
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种自适应稳定平台，其特征在于，包括台面（1）、位于台面（1）下方中心位置的支撑（2），所述台面（1）和支撑（2）之间通过万向节（3）连接；所述台面（1）的下方还设置有成阵列分布的气嘴（4）。2.根据权利要求1所述的一种自适应稳定平台，其特征在于，所述气嘴（4）包括上部气道（4
‑
1）、阀门套筒（4
‑
2）、下部气道（4
‑
3）和支架（4
‑
4）；所述上部气道（4
‑
1）顶部开口，底部封闭，侧壁下方设置有多个进气口；所述下部气道（4
‑
3）顶部封闭，底部连接外部供气设备，侧壁上方设置有多个出气口；所述上部气道（4
‑
1）和下部气道（4
‑
3）上下同轴设置，所述阀门套筒（4
‑
2）同时包裹在上部气道（4
‑
1）侧壁下方和下部气道（4
‑
3）侧壁上方，且能够沿上部气道（4
‑
1）和下部气道（4
‑
3）所在方向运动；在阀门套筒（4
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2）运动范围里，上部气道（4
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1）的进气口全部被阀门套筒（4
‑
2）包裹，下部气道（4

【专利技术属性】
技术研发人员：赵烟桥，林海军，张旭辉，史玲，梁肇聪，叶剑波，
申请(专利权)人：哈尔滨理工大学，
类型：发明
国别省市：