光路调整方法、装置、设备及存储介质制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种光路调整方法、装置、设备及存储介质。本发明专利技术公开了：控制激光器发出测试激光，构建待测光路，获取待测光路的焦点位置，以及焦点位置对应的离焦位置，分别在焦点位置的测试对象和离焦位置的测试对象上进行图案绘制，获得所述焦点位置上的焦点图案和所述离焦位置上的离焦图案，将焦点图案与离焦图案进行比对，根据比对结果对待测光路进行调整；由于本发明专利技术通过分别在待测光路的焦点位置和离焦位置进行图案绘制，再将获得的焦点图案与离焦图案进行比对，从而根据比对结果对待测光路进行调整，从而在简化了调整过程的基础上，确保了调试的准确性，大大提升了光路精度。大大提升了光路精度。大大提升了光路精度。

【技术实现步骤摘要】
光路调整方法、装置、设备及存储介质


[0001]本专利技术涉及激光加工
，尤其涉及一种光路调整方法、装置、设备及存储介质。

技术介绍

[0002]在激光加工的过程中，对激光的光路精度要求较高，例如在对玻璃等脆性材料的加工，若光路精度较低容易导致加工出来的产品不合格。而目前的激光光路调试步骤繁琐，导致无法满足高精度的激光光路需求。
[0003]上述内容仅用于辅助理解本专利技术的技术方案，并不代表承认上述内容是现有技术。

技术实现思路

[0004]本专利技术的主要目的在于提供一种光路调整方法、装置、设备及存储介质，旨在解决现有技术中激光光路调试步骤繁琐，导致无法满足高精度的激光光路需求的技术问题。
[0005]为实现上述目的，本专利技术提供了一种光路调整方法，所述方法包括以下步骤：控制激光器发出测试激光，构建待测光路；获取所述待测光路的焦点位置，以及所述焦点位置对应的离焦位置；分别在所述焦点位置的测试对象和所述离焦位置的测试对象上进行图案绘制，获得所述焦点位置上的焦点图案和所述离焦位置上的离焦图案；将所述焦点图案与所述离焦图案进行比对；根据比对结果对所述待测光路进行调整。
[0006]可选地，所述分别在所述焦点位置的测试对象和所述离焦位置的测试对象上进行图案绘制之前，还包括：识别所述离焦位置上的光斑图像；根据识别结果确定所述光斑图像的当前光斑状态；在所述当前光斑状态不满足预设条件时，根据所述当前光斑状态对所述待测光路进行调整，直至所述当前光斑状态满足所述预设条件。
[0007]可选地，所述根据识别结果确定所述光斑图像的当前光斑状态，包括：根据识别结果确定所述光斑图像所在坐标轴的坐标轴信息；根据所述坐标轴信息确定待识别坐标轴；根据所述待识别坐标轴对所述光斑图像进行状态识别，确定所述光斑图像所在坐标轴下的纵向光斑状态和横向光斑状态。
[0008]可选地，所述根据所述当前光斑状态对所述待测光路进行调整，直至所述当前光斑状态满足所述预设条件，包括：根据所述纵向光斑状态确定所述待测光路中待调节的纵向调节组件；根据所述纵向光斑状态对所述纵向调节组件进行调节，直至所述纵向光斑状态满
足所述预设条件；根据所述横向光斑状态确定所述待测光路中待调节的横向调节组件；根据所述横向光斑状态对所述横向调节组件进行调节，直至所述横向光斑状态满足所述预设条件。
[0009]可选地，所述根据比对结果对所述待测光路进行调整，包括：根据比对结果确定所述焦点图案与所述离焦图案之间的位置关系；根据所述位置关系确定所述待测光路的倾斜方向；根据所述倾斜方向对所述待测光路进行调整。
[0010]可选地，所述根据比对结果确定所述焦点图案与所述离焦图案之间的位置关系，包括：获取所述焦点图案所在坐标轴下的焦点坐标位置信息，以及所述离焦图案所在坐标轴下的离焦坐标位置信息；根据所述焦点坐标位置信息和所述离焦坐标位置信息确定所述焦点图案与所述离焦图案之间的坐标位置差信息；根据所述坐标位置差信息确定所述焦点图案与所述离焦图案之间的位置关系。
[0011]可选地，所述获取所述待测光路的焦点位置，包括：获取待测光路中切割器所在坐标轴下的当前坐标位置信息；获取所述待测光路的目标焦点信息；根据所述目标焦点信息和所述当前坐标位置信息对所述切割器的坐标位置进行调整；获取调整后的所述切割器的焦点位置。
[0012]此外，为实现上述目的，本专利技术还提出一种光路调整装置，所述光路调整装置包括：光路构建模块，用于控制激光器发出测试激光，构建待测光路；位置获取模块，用于获取所述待测光路的焦点位置，以及所述焦点位置对应的离焦位置；图案绘制模块，用于分别在所述焦点位置的测试对象和所述离焦位置的测试对象上进行图案绘制，获得所述焦点位置上的焦点图案和所述离焦位置上的离焦图案；图案比对模块，用于将所述焦点图案与所述离焦图案进行比对；光路调整模块，用于根据比对结果对所述待测光路进行调整。
[0013]此外，为实现上述目的，本专利技术还提出一种光路调整设备，所述光路调整设备包括：存储器、处理器及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的光路调整程序，所述光路调整程序配置为实现如上文所述的光路调整方法的步骤。
[0014]此外，为实现上述目的，本专利技术还提出一种存储介质，所述存储介质上存储有光路调整程序，所述光路调整程序被处理器执行时实现如上文所述的光路调整方法的步骤。
[0015]本专利技术通过控制激光器发出测试激光，构建待测光路，获取所述待测光路的焦点位置，以及所述焦点位置对应的离焦位置，分别在所述焦点位置的测试对象和所述离焦位置的测试对象上进行图案绘制，获得所述焦点位置上的焦点图案和所述离焦位置上的离焦图案，将所述焦点图案与所述离焦图案进行比对，根据比对结果对所述待测光路进行调整；
由于本专利技术通过获取待测光路的焦点位置和焦点位置对应的离焦位置，再分别在待测光路的焦点位置和离焦位置进行图案绘制，再将获得的焦点图案与离焦图案进行比对，从而根据比对结果对待测光路进行调整，从而在简化了调整过程的基础上，确保了光路调试的准确性，有效地提升了整个激光光路调整的效率，大大提升了激光光路精度，提升了激光产品加工效率。
附图说明
[0016]图1是本专利技术实施例方案涉及的硬件运行环境的光路调整设备的结构示意图；图2为本专利技术光路调整方法第一实施例的流程示意图；图3为本专利技术光路调整方法第一实施例的激光加工系统结构示意图；图4为本专利技术光路调整方法第二实施例的流程示意图；图5为本专利技术光路调整方法第三实施例的流程示意图；图6为本专利技术光路调整装置第一实施例的结构框图。
[0017]附图标号说明：标号名称标号名称1激光器2扩束单元3第一反射单元4第二反射单元5第三反射单元6切割器7加工平台
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本专利技术目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
[0018]应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。
[0019]参照图1，图1为本专利技术实施例方案涉及的硬件运行环境的光路调整设备结构示意图。
[0020]如图1所示，该光路调整设备可以包括：处理器1001，例如中央处理器（Central Processing Unit，CPU），通信总线1002、用户接口1003，网络接口1004，存储器1005。其中，通信总线1002用于实现这些组件之间的连接通信。用户接口1003可以包括显示屏（Display）、输入单元比如键盘（Keyboard），可选用户接口1003还可以包括标准的有线接口、无线接口。网络接口1004可选的可以包括标准的有线接口、无线接口（如无线保真（Wireless
‑
Fidelity，Wi
‑
Fi）接口）。存储器1005可以是高速的随机存取存储器（Random Access Memory，RAM），也可以是稳定的非易失性存储器（Non
‑
Volatile Memory，NVM），例如本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光路调整方法，其特征在于，所述光路调整方法包括：控制激光器发出测试激光，构建待测光路；获取所述待测光路的焦点位置，以及所述焦点位置对应的离焦位置；分别在所述焦点位置的测试对象和所述离焦位置的测试对象上进行图案绘制，获得所述焦点位置上的焦点图案和所述离焦位置上的离焦图案；将所述焦点图案与所述离焦图案进行比对；根据比对结果对所述待测光路进行调整。2.如权利要求1所述的光路调整方法，其特征在于，所述分别在所述焦点位置的测试对象和所述离焦位置的测试对象上进行图案绘制之前，还包括：识别所述离焦位置上的光斑图像；根据识别结果确定所述光斑图像的当前光斑状态；在所述当前光斑状态不满足预设条件时，根据所述当前光斑状态对所述待测光路进行调整，直至所述当前光斑状态满足所述预设条件。3.如权利要求2所述的光路调整方法，其特征在于，所述根据识别结果确定所述光斑图像的当前光斑状态，包括：根据识别结果确定所述光斑图像所在坐标轴的坐标轴信息；根据所述坐标轴信息确定待识别坐标轴；根据所述待识别坐标轴对所述光斑图像进行状态识别，确定所述光斑图像所在坐标轴下的纵向光斑状态和横向光斑状态。4.如权利要求3所述的光路调整方法，其特征在于，所述根据所述当前光斑状态对所述待测光路进行调整，直至所述当前光斑状态满足所述预设条件，包括：根据所述纵向光斑状态确定所述待测光路中待调节的纵向调节组件；根据所述纵向光斑状态对所述纵向调节组件进行调节，直至所述纵向光斑状态满足所述预设条件；根据所述横向光斑状态确定所述待测光路中待调节的横向调节组件；根据所述横向光斑状态对所述横向调节组件进行调节，直至所述横向光斑状态满足所述预设条件。5.如权利要求1至4中任一项所述的光路调整方法，其特征在于，所述根据比对结果对所述待测光路进行调整，包括：根据比对结果确定所述焦点图案与所述离焦图案之间的...

【专利技术属性】
技术研发人员：侯君杰，滕忻玉，韩风德，
申请(专利权)人：歌尔股份有限公司，
类型：发明
国别省市：