发光装置及测距装置制造方法及图纸

[问题]为了提供一种能够从多个发光元件有利地形成光的发光装置和测距装置。[解决方案]根据本公开的发光装置，配备有：基板，设置在基板的第一表面的多个光发射元件，以及设置在基板的第二表面的多个透镜，其中多个透镜包括第一透镜，第一透镜不是球面透镜或椭圆透镜。镜。镜。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】发光装置及测距装置


[0001]本公开涉及发光装置和测距装置。

技术介绍

[0002]诸如垂直腔面发射激光器(VCSEL)的表面发射激光器已知为半导体激光器的类型。通常，在使用表面发射激光器的发光装置中，在基板的正面或背面处以二维阵列提供多个发光元件。
[0003]引用列表
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本专利申请公开号2004
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技术实现思路

[0006]本专利技术要解决的问题
[0007]在上述发光装置中，例如，期望将从多个发光元件发射的光形成为具有期望的照度分布的光。在这种情况下，为了适当地形成光，如何形成光是一个问题。
[0008]因此，本公开提供一种能够从多个发光元件适当地形成光的发光装置和测距装置。
[0009]问题的解决方案
[0010]根据本公开的第一方面的发光装置，包括：基板；多个发光元件，设置在所述基板的第一表面；以及多个透镜，设置在基板的第二表面处，其中，多个透镜包括除了球面透镜和椭球面透镜之外的第一透镜。利用该构造，例如，可以适当地形成光。例如，从多个发光元件发射的光可形成为具有期望照度分布的光。例如，通过除了球面透镜和椭球面透镜之外的第一透镜，从多个发光元件发射的光可形成为在中心部分处具有低照度的光。
[0011]此外，在这个第一方面中，该第一透镜可以包括具有单个区的透镜。利用该配置，例如，第一透镜可包括稍后描述的圆锥透镜、棱锥透镜、双曲面透镜、抛物面透镜等。r/>[0012]此外，在该第一方面中，第一透镜可包括圆锥透镜、棱锥透镜、双曲面透镜或抛物面透镜。利用该配置，例如，从多个发光元件发射的光可以形成为在中心部分处具有低照度的光。
[0013]此外，在该第一方面中，第一透镜可具有带有顶点的形状。利用该配置，例如，第一透镜可包括上述圆锥透镜、棱锥透镜、双曲面透镜、抛物面透镜等。
[0014]此外，在该第一方面中，第一透镜可包括具有多个区的透镜。利用该配置，例如，第一透镜可包括后面描述的菲涅耳透镜等。
[0015]另外，在第一方面中，第一透镜可包括菲涅尔透镜。利用该配置，例如，从多个发光元件发射的光可以形成为在中心部分处具有低照度的光。
[0016]此外，在该第一方面中，多个透镜可包括：除了球面透镜和椭球面透镜之外的第一透镜；以及第二透镜，具有与第一透镜的形状不同的形状。利用该配置，例如，通过第一透镜
和第二透镜，从多个发光元件发射的光可形成为具有良好照度均匀性的光，即，在中心部分处的照度与在周边部分处的照度之间具有小差异的光。
[0017]此外，在该第一方面中，第二透镜可以包括球面透镜或椭球面透镜。利用这种配置，例如，通过第一透镜使中心部分处的照度较低，并且通过第二透镜使中心部分处的照度较高，从而可以获得具有良好照度均匀性的光。
[0018]另外，在第一方面中，多个透镜可以具有不使来自发光元件的光全反射的结构。利用该配置，例如，来自发光元件的光可以从透镜发射。
[0019]另外，在第一方面中，多个透镜可以包括凸透镜或凹透镜中的至少任意一种。利用该配置，例如，可通过蚀刻在基板的第二表面处形成凸部或凹部来形成透镜。
[0020]此外，在该第一方面中，从多个发光元件中的一个发出的光可以入射在一个对应的透镜上。利用该配置，例如，可以针对每个单独的发光元件形成来自多个发光元件的光。
[0021]此外，在该第一方面中，从多个发光元件中的一个发出的光可以入射在相应的多个透镜上。利用该配置，即使在发光元件之间的性能存在不均匀性的情况下，也可适当地形成光，并且例如可减小如后面描述的驱动装置的电路规模。
[0022]另外，根据第一方面的发光装置还可以具备折射率缓冲层，该折射率缓冲层以覆盖多个透镜的方式设置于基板的第二表面，并具有比基板的折射率低的折射率。利用该配置，例如，可以加宽发光装置的视场。
[0023]另外，根据第一方式的发光装置还可以具备驱动装置，该驱动装置被配置为驱动多个发光元件来使多个发光元件发光。利用该配置，例如，可以通过驱动装置控制这些发光元件的操作。
[0024]此外，在第一方面中，驱动装置可以隔着多个发光元件设置于基板的第一表面侧。利用该配置，例如，可以将设置有这些发光元件的基板装载到驱动装置上。
[0025]此外，在该第一方面中，驱动装置可以针对每个单独的发光元件驱动多个发光元件。由此，例如能够高精度地控制从这些发光元件发出的光。
[0026]此外，在该第一方面中，驱动装置可以通过顺序地驱动多个发光元件用来自多个发光元件的光来扫描被摄体。利用该配置，例如，发光装置可以用于测距。
[0027]另外，在第一方面中，多个透镜中的一个透镜可接收从一个对应的发光元件发出的光，至少任一个透镜的光轴的位置与对应的发光元件的光轴的位置错开。利用该配置，例如，由于这些光轴之间的未对准，光从透镜发射的方向。
[0028]此外，在该第一方面中，多个透镜中的一个可接收从对应的多个发光元件发射的光。利用该配置，例如，可以根据发光元件的位置改变光从透镜发射的方向。
[0029]根据本公开的第二方面的测距装置，包括：发光装置，被配置为用光照射被摄体；成像装置，被配置为接收由所述被摄体反射的光，以对所述被摄体成像；以及控制装置，被配置为使用从成像装置输出的图像信号来测量到被摄体的距离，其中发光装置包括：基板；多个发光元件，设置在基板的第一表面处，多个发光元件被配置为发射光；以及多个透镜，设置在基板的第二表面处，多个透镜被配置为形成光，并且多个透镜包括除了球面透镜和椭球面透镜之外的第一透镜。利用该构造，例如能够适当地形成测距用的光。例如，从多个发光元件发射的光可形成为具有期望照度分布的光。例如，通过除了球面透镜和椭球面透镜之外的第一透镜，从多个发光元件发射的光可形成为在中心部分处具有低照度的光。
附图说明
[0030]图1是示出根据第一实施方式的测距装置的配置的框图。
[0031]图2是示出了根据第一实施方式的发光装置的结构的实例的截面图。
[0032]图3是示出了图2的B中示出的发光装置的结构的截面图。
[0033]图4是示出了根据第一实施方式的发光装置的结构的实例的截面图。
[0034]图5是示出根据比较例的透镜的形状的实例的透视图和截面图。
[0035]图6是示出根据比较例的透镜的形状的另一实例的透视图和截面图。
[0036]图7是用于说明根据比较例的发光装置的操作的平面图和曲线图。
[0037]图8是示出了根据第一实施方式的透镜的形状的实例的立体图和截面图。
[0038]图9是示出了根据第一实施方式的透镜的形状的另一实例的透视图和截面图。
[0039]图10是示出了根据第一实施方式的透镜的形状的又一实例的立体图和截面图。
[0040]图11是示出了根据第一实施方式的透镜的形状的又一实本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种发光装置，包括：基板；多个发光元件，设置在所述基板的第一表面；以及多个透镜，设置在所述基板的第二表面，其中，所述多个透镜包括除了球面透镜和椭球面透镜之外的第一透镜。2.根据权利要求1所述的发光装置，其中，所述第一透镜包括具有单个区的透镜。3.根据权利要求1所述的发光装置，其中，所述第一透镜包括圆锥透镜、棱锥透镜、双曲面透镜、或抛物面透镜。4.根据权利要求1所述的发光装置，其中，所述第一透镜具有以下形状：该形状具有顶点。5.根据权利要求1所述的发光装置，其中，所述第一透镜是具有多个区的透镜。6.根据权利要求1所述的发光装置，其中，所述第一透镜是菲涅耳透镜。7.根据权利要求1所述的发光装置，其中，所述多个透镜包括：除了球面透镜和椭球面透镜之外的所述第一透镜，以及具有的形状与所述第一透镜的形状不同的第二透镜。8.根据权利要求7所述的发光装置，其中，所述第二透镜包括球面透镜或椭球面透镜。9.根据权利要求1所述的发光装置，其中，所述多个透镜具有不使来自所述发光元件的光被全反射的结构。10.根据权利要求1所述的发光装置，其中，所述多个透镜包括凸透镜或凹透镜中的至少任一种。11.根据权利要求1所述的发光装置，其中，从所述多个发光元件中的一者发射的光入射在一个对应的透镜上。12.根据权利要求1所述的发光装置，其中，从所述多个发光元件中的一者发射的光入射在对应的多个透镜上。13.根据权利要求1所述的发光装置，进一步包括：折射率缓冲层，设置在所述基板的所述第二表面以覆...

【专利技术属性】
技术研发人员：岩下润，茂木英昭，中村仁，
申请(专利权)人：索尼半导体解决方案公司，
类型：发明
国别省市：