一种用于UV-C反射的金属带材制造技术

本实用新型专利技术涉及一种用于UV

【技术实现步骤摘要】
一种用于UV
‑
C反射的金属带材


[0001]本技术涉及如杀菌灯等产品应用的UV
‑
C反射材料领域，具体涉及一种用于UV
‑
C反射的金属带材。

技术介绍

[0002]具有高反射表面的反射器广泛应用于太阳能收集和装饰以及灯具、投影仪等设备。UV
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C灯具系统被应用于许多不同的地方。比如杀菌系统，可对医用防护服及其它医用材料进行杀菌，也可对蔬菜、水果等食品进行杀菌；消毒系统，可对各种表面、整个空间进行消毒，比如公共空间，甚至可以对净化系统中的空气和水进行消毒。UV
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C杀菌灯具系统中使用的反射器的作用是最大限度地将UV
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C光发射到需要杀菌或消毒的表面或空间，进一步出于屏蔽的目的在一些应用中改变和重新定向UV
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C光的发射，以避免有害的UV
‑
C光线暴露于人体。为了达到最高的杀菌效果，高性能的反射器需要在UV
‑
C波段的200nm
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280nm之间具有高的反射率，即要求其应用的材料具备该反射性能。在授权公告号为CN109671830A、CN111920975A等中国专利中公开了应用反射涂层的UV
‑
C灯具系统，但是方案中应用的多层布拉格反射器涂层要实现较高且可靠的性能，需精确地控制厚度和均匀性，并且需要大量的单个涂层薄膜（通常需10层以上）。铁氟龙、聚四氟乙烯（PTFE）或硫酸钡反射涂层为了实现高反射率，涂层厚度通常在毫米范围内，并且要比厚度在几十纳米到几百纳米的真空薄膜涂层厚得多。同时必须控制好孔隙大小、分布、纯度和密度。这可能不仅是一个成本因素，而且也会对散热方面造成负面影响。这些涂层构建了各种朗伯式反射器，反射光以近似余弦分布的方式漫散射。因此，这些涂层不是需要高镜面反射灯具系统的理想选择，如聚焦或准直光系统。
[0003]而如本申请人的公告号为CN208365440U的中国技术专利公开的应用于LED光源设备的高反射镜面金属，该方案应用的领域为其他LED光源设备，其在UV
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C反射率、工作环境等要求上均不适合用于UV
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C反射，目前的技术革新主要还是集中在如多层布拉格反射器涂层等方向，并无将该用于其他LED光源设备的方案应用至UV
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C反射领域。

技术实现思路

[0004]本技术提供一种用于UV
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C反射的金属带材，以解决上述问题。
[0005]本技术采用如下技术方案：
[0006]一种用于UV
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C反射的金属带材，包括基材以及反射涂层，反射涂层覆设于基材。上述反射涂层包括依次设置的第一镀膜层、第二镀膜层、第三镀膜层，第一镀膜层邻近上述基材设置。上述第一镀膜层由铝构成。上述第二镀膜层由硅氧化物构成。上述第三镀膜层由硅氮化物构成。
[0007]进一步地：
[0008]上述反射涂层为由电子束蒸发沉积和/或磁控溅射形成的PVD镀膜涂层。
[0009]上述基材为绕卷成卷的金属带基材，基材为铝、铝合金、不锈钢或者铜材质，该基
材相互背离的两侧分别为其镀膜面与背面。上述反射涂层设于上述镀膜面。
[0010]上述基材厚度为0.1mm
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1.5mm，宽度为500mm
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1500mm，长度≥50m。
[0011]上述基材在上述镀膜面设有平滑硬化层，平滑硬化层为阳极氧化层或者为有机涂层。上述平滑硬化层设于该基材与上述反射涂层之间。
[0012]上述基材为铝或铝合金材质的基材。上述平滑硬化层为由氧化铝构成的阳极氧化层。
[0013]上述平滑硬化层由在阳极氧化工艺过程中生长的水合氧化铝构成。该平滑硬化层形成后由热水浴密封来闭合阳极氧化层多孔结构的孔隙，而后平滑硬化层表面在热干燥环境下进行烘干干燥。
[0014]上述平滑硬化层厚度为10nm
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2000nm。上述第一镀膜层厚度为50nm
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200nm。上述第二镀膜层厚度为30nm
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100nm，该硅氧化物主要为二氧化硅。上述第三镀膜层厚度为5nm
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50nm，该硅氮化物主要为四氮化三硅。
[0015]上述第一镀膜层厚度为80nm
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120nm。上述第二镀膜层厚度为40nm
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70nm。上述第三镀膜层厚度为5nm
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15nm。
[0016]该金属带材用于工作环境为温度≤300℃、UV
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C紫外暴露和/或潮湿环境的UV
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C灯系统。
[0017]由上述对本技术结构的描述可知，和现有技术相比，本技术具有如下优点：
[0018]本技术通过由铝构成的第一镀膜层、由硅氧化物构成的第二镀膜层、由硅氮化物构成的第三镀膜层共同组成的高UV
‑
C反射的反射涂层，不仅能够实现波长范围在200nm
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280nm之间具有很高的反射率，而且进一步可以获得很高的耐久性和稳定性，成本更低。
[0019]具体的，本技术利用硅氮化物、硅氧化物与铝的配合，巧妙利用中折射率至高折射率的氮化硅层（硅氮化物），利用硅氮化物具有与硅氧化物相反的足够高的折射率，实现由一层第一镀膜层、一层第二镀膜层、一层第三镀膜层构成的反射涂层即可获得更为优异的UV
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C反射率。虽然硅氮化物在某些布拉格反射镜结构的滤波器中有出现，但是其依靠布拉格反射镜结构本身的结构特性，特别是硅氮化物的应用在波长低于250nm时，消光系数开始略微升高，对于本领域技术人员来说，该反射涂层结构更加独特且出人意表。再者，硅氮化物薄膜能有效地阻止水分和离子扩散，如氧扩散，进而令本技术的金属带材制成的产品在高达300℃的高温条件、潮湿环境以及紫外线照射下都具有一定的稳定性。
附图说明
[0020]图1为本技术的金属带材的结构示意图。
[0021]图2为用于形成本技术的反射涂层的卷对卷真空镀膜系统。
[0022]图3为本技术与其他材质的特征反射行为对比。
具体实施方式
[0023]下面参照附图说明本技术的具体实施方式。
[0024]参考图1，一种用于UV
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C反射的金属带材，该金属带材用于制造杀菌应用、消毒应
用、水和空气净化应用以及其它如光学和医疗应用的UV
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C灯系统（UV
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C汞灯系统、UV
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C LED灯系统等）的UV
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C高反射反射器。该金属带材制成的产品用于工作环境为温度≤300℃、UV
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C紫外暴露和/或潮湿环境的UV
‑
C灯系统。该金属带材包括基材1以及反射涂层，反射涂层覆设于基本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于UV
‑
C反射的金属带材，包括基材以及反射涂层，反射涂层覆设于基材；其特征在于：所述反射涂层包括依次设置的第一镀膜层、第二镀膜层、第三镀膜层，第一镀膜层邻近所述基材设置；所述第一镀膜层由铝构成；所述第二镀膜层由硅氧化物构成；所述第三镀膜层由硅氮化物构成。2.根据权利要求1所述的一种用于UV
‑
C反射的金属带材，其特征在于：所述反射涂层为由电子束蒸发沉积和/或磁控溅射形成的PVD镀膜涂层。3.根据权利要求1所述的一种用于UV
‑
C反射的金属带材，其特征在于：所述基材为绕卷成卷的金属带基材，基材为铝、铝合金、不锈钢或者铜材质，该基材相互背离的两侧分别为其镀膜面与背面；所述反射涂层设于所述镀膜面。4.根据权利要求3所述的一种用于UV
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C反射的金属带材，其特征在于：所述基材厚度为0.1mm
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1.5mm，宽度为500mm
‑
1500mm，长度≥50m。5.根据权利要求3所述的一种用于UV
‑
C反射的金属带材，其特征在于：所述基材在所述镀膜面设有平滑硬化层，平滑硬化层为阳极氧化层或者为有机涂层；所述平滑硬化层设于该基材...

【专利技术属性】
技术研发人员：马丁，
申请(专利权)人：福建新越金属材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：