投影装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种投影装置。投影装置包括光源、空间光调制器、镜头模组以及光阑，光源用于出射照明光，空间光调制器用于接收照明光并出射图像光，镜头模组位于图像光的光路以接收图像光，光阑位于空间光调制器与镜头模组之间，光阑包括透光区和遮光区，透光区用于透射图像光，遮光区用于遮挡光源和空间光调制器出射的杂散光，有助于减少杂散光进入镜头模组，提高投影装置的成像质量。提高投影装置的成像质量。提高投影装置的成像质量。

【技术实现步骤摘要】
投影装置


[0001]本申请涉及投影
，具体而言，涉及一种投影装置。

技术介绍

[0002]对于空间光调制器的投影方案中，空间光调制器能够将入射的主光线调制后产生图像光，图像光经镜头模组后出射至投影装置外可以实现投影装置的投影效果，而其他杂散光进入镜头模组后会降低投影装置的对比度和暗场成像质量，并且杂散光在照射至镜头模组边缘后，会造成成像画面出现热漂移和热失焦现象。因此，减小杂散光有助于提高投影装置的成像质量。
[0003]目前，市面上减少杂散光的方案主要是在壳体的空间光调制器处区域和盖板镜头模组安装处附近喷涂消光漆，虽然能吸收一部分杂散光，但是效果较差，成像质量不高。

技术实现思路

[0004]本申请实施方式提出了一种投影装置，以解决上述技术问题。
[0005]本申请实施方式通过以下技术方案来实现上述目的。
[0006]本申请实施方式提供一种投影装置，投影装置包括光源、空间光调制器、镜头模组以及光阑，光源用于出射照明光。空间光调制器用于接收照明光并出射图像光。镜头模组位于图像光的光路以接收图像光。光阑本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种投影装置，其特征在于，包括：光源，所述光源用于出射照明光；空间光调制器，所述空间光调制器用于接收所述照明光并出射图像光；镜头模组，所述镜头模组位于所述图像光的光路以接收所述图像光；以及光阑，所述光阑位于所述空间光调制器与所述镜头模组之间，所述光阑包括透光区和遮光区，所述透光区用于透射所述图像光，所述遮光区用于遮挡所述光源和所述空间光调制器出射的杂散光。2.根据权利要求1所述的投影装置，其特征在于，所述杂散光包括反射光、非图像光和衍射光，所述遮光区包括反射光遮光区、非图像光遮光区和衍射光遮光区，所述反射光遮光区、所述非图像光遮光区和所述衍射光遮光区均位于所述空间光调制器与所述镜头模组之间，所述反射光遮光区用于遮挡所述反射光，所述非图像光遮光区用于遮挡所述非图像光，所述衍射光遮光区用于遮挡所述衍射光。3.根据权利要求2所述的投影装置，其特征在于，所述投影装置还包括棱镜模组，所述棱镜模组位于所述空间光调制器的出射光路，所述反射光遮光区、所述非图像光遮光区和所述衍射光遮光区均位于所述棱镜模组与镜头模组之间。4.根据权利要求1所述的投影装置，其特征在于，所述杂散光包括反射光、非图像光和衍射光；所述光阑包括：第一光阑，所述第一光阑包括第一透光区和反射光遮光区，所述第一透光区用于透射所述图像光，所述反射光遮光区位于所述空间光调制器与所述镜头模组之间，所述反射光遮光区用于遮挡所述反射光；以及第二光阑，所述第二光阑包括第二透光区、非图像光遮光区和衍射光遮光区，所述第二透光区用于透射所述图像光，所述非图像光遮光区与所述衍射光遮光区均位于所述第一光阑与所述镜头模组之间，所述非图像光遮光区用于遮挡所述非图像光，所述衍射光遮光区用于遮挡所述衍射光。5.根据权利要求1所述的投影装置，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭燊，刘宪，赵鑫，李屹，
申请(专利权)人：深圳光峰科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：