【技术实现步骤摘要】
无碱玻璃基板
[0001]本申请是针对申请日为2019年03月08日、申请号为201980017599.0、专利技术名称为“无碱玻璃基板”的申请提出的分案申请。
[0002]本专利技术涉及适于形成薄膜晶体管(Thin Film Transistor：TFT)等的玻璃基板。
技术介绍
[0003]作为各种显示器用玻璃基板，特别是在玻璃基板上形成TFT等薄膜的情况下，可使用几乎不含有碱金属成分的硼硅酸玻璃基板(所谓的无碱玻璃基板)。若使用大量含有碱金属成分的玻璃基板，则玻璃中的碱金属成分使膜特性劣化，导致TFT的可靠性的下降。并且，对显示器用玻璃基板也要求应变点高，耐酸性高。
[0004]高应变点、耐酸性也优异的无碱玻璃需要将玻璃原料在1400～1800℃这样的高温下熔融，不容易效率良好地生产高品质的玻璃基板。专利文献1中记载了在无碱玻璃含有200～2000ppm的碱金属氧化物，将利用燃烧器的燃烧火焰进行的加热和利用在熔融玻璃通电进行的加热并用而使玻璃熔融的方法。
[0005]作为将玻璃成型为板状的方法，...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种无碱玻璃基板，应变点为650℃以上，50～350℃的平均热膨胀系数为30
×
10
‑7～45
×
10
‑7/℃，以氧化物基准的质量％表示，含有54～66％的SiO2、10～25％Al2O3、0.1～12％的B2O3、合计7～25％的选自MgO、CaO、SrO和BaO中的1种以上的成分，含有150～2000质量ppm的Na2O，至少一个主面的玻璃基板表面的Na2O量比玻璃基板内部的Na2O量少20质量ppm以上。2.根据权利要求1所述的无碱玻璃基板，其中，至少一个主面的玻璃表面的Na2O量为500质量ppm以下。3.根据权利要求1或2所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：增茂邦雄，小野和孝，谷井史朗，德永未央，小林大介，
申请(专利权)人：AGC株式会社，
类型：发明
国别省市：
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