掩膜板组件及曝光系统、显示面板及其制作方法技术方案

本申请公开了一种掩膜板组件及曝光系统、显示面板及其制作方法，该掩膜板组件包括：光强控制掩膜板、图案化掩膜板，所述光强控制掩膜板具有间隔设置的第一曝光区以及第二曝光区，所述第一曝光区的透光率大于所述第二曝光区的透光率；所述图案化掩膜板设于所述光强控制掩膜板远离光源的一侧，所述图案化掩膜板具有间隔设置的第一图案化区域以及第二图案化区域，其中，所述第一曝光区的垂直投影覆盖所述第一图案化区域的垂直投影，所述第二曝光区的垂直投影覆盖所述第二图案化区域的垂直投影。可以解决不同分辨率区域曝光不均匀的问题。题。题。

【技术实现步骤摘要】
掩膜板组件及曝光系统、显示面板及其制作方法


[0001]本申请涉及显示
，具体涉及一种掩膜板组件及曝光系统、显示面板及其制作方法。

技术介绍

[0002]随着新型显示技术的快速发展，器件的高度集成化成为了未来显示科技的新增长点。现有的显示器件中的驱动电路控制系统或信号传输系统等都是集成在印制电路板或覆晶薄膜的芯片上，再绑定连接到玻璃基面板上。若将外挂芯片系统集成在玻璃面板上，则可以很大程度上节省材料成本。因此，开发玻璃基集成电路意义重大。
[0003]而玻璃基集成电路就意味着存在分辨率差异较大的不同区域，若采用现有的曝光系统中的曝光条件对集成电路进行曝光时，受曝光量等影响，不同分辨率区域之间容易出现曝光不均匀的问题。

技术实现思路

[0004]本申请实施例提供一种掩膜板组件及曝光系统、显示面板及其制作方法，可以解决不同分辨率区域曝光不均匀的问题。
[0005]一方面，本申请实施例提供一种掩膜板组件，包括：光强控制掩膜板、图案化掩膜板，所述光强控制掩膜板具有间隔设置的第一曝光区以及第二曝光区，所述第一曝光区的透光率大于所述第二曝光区的透光率；所述图案化掩膜板设于所述光强控制掩膜板远离光源的一侧，所述图案化掩膜板具有间隔设置的第一图案化区域以及第二图案化区域，其中，所述第一曝光区的垂直投影覆盖所述第一图案化区域的垂直投影，所述第二曝光区的垂直投影覆盖所述第二图案化区域的垂直投影。
[0006]可选地，在本申请的一些实施例中，所述光强控制掩膜板还包括第一金属层，所述第一金属层对应所述第二曝光区设置。
[0007]可选地，在本申请的一些实施例中，所述光强控制掩膜板还包括第二金属层，所述第二金属层对应所述第一曝光区设置。
[0008]可选地，在本申请的一些实施例中，所述第一金属层的厚度大于所述第二金属层的厚度。
[0009]可选地，在本申请的一些实施例中，所述光强控制掩膜板还包括围绕所述第一曝光区以及所述第二曝光区的遮光区，所述光强控制掩膜板还包括至少一组第一夹持组件以及第一金属片，所述第一夹持组件设于所述遮光区且位于所述第二曝光区的相对两侧，所述第一夹持组件用于固定所述第一金属片。
[0010]可选地，在本申请的一些实施例中，所述光强控制掩膜板还包括至少一组第二夹持组件以及第二金属片，所述第二夹持组件设于所述遮光区且位于所述第一曝光区的相对两侧，所述第二夹持组件用于固定所述第二金属片。
[0011]可选地，在本申请的一些实施例中，所述第一金属片的垂直投影覆盖所述第二曝
光区的垂直投影，所述第二金属片的垂直投影覆盖所述第一曝光区的垂直投影。
[0012]本申请还提供一种曝光系统，包括如上所述的掩膜板组件以及光源，所述光源与所述掩膜板组件对应设置。
[0013]另一方面，本申请还提供一种显示面板的制作方法，采用如上所述的曝光系统，所述显示面板的制作方法包括：提供一光强控制掩膜板，所述光强控制掩膜板上设有间隔设置的第一曝光区以及第二曝光区，所述第一曝光区的透光率大于所述第二曝光区的透光率；提供一图案化掩膜板，将所述图案化掩膜板设于所述光强控制掩膜板远离光源的一侧，所述图案化掩膜板上设有间隔设置的第一图案化区域以及第二图案化区域，所述第一曝光区的垂直投影覆盖所述第一图案化区域的垂直投影，所述第二曝光区的垂直投影覆盖所述第二图案化区域的垂直投影。
[0014]本申请还提供一种显示面板，采用如上所述的显示面板的制作方法制备而成。
[0015]本申请实施例提供一种掩膜板组件及曝光系统、显示面板及其制作方法，该掩膜板组件用于形成显示面板的驱动电路，所述驱动电路包括间隔设置的第一金属走线以及第二金属走线，所述掩膜板组件包括光强控制掩膜板以及图案化掩膜板，所述光强控制掩膜板设于所述图案化掩膜板远离所述显示面板的一侧；所述光强控制掩膜板具有间隔设置的第一曝光区以及第二曝光区，所述第一曝光区的透光率大于所述第二曝光区的透光率；所述图案化掩膜板具有间隔设置的第一图案化区域以及第二图案化区域，所述第一曝光区的垂直投影覆盖所述第一图案化区域的垂直投影，所述第二曝光区的垂直投影覆盖所述第二图案化区域的垂直投影；其中，通过所述第一曝光区以及所述第一图案化区域形成所述第一金属走线图案；通过所述第二曝光区以及所述第二图案化区域形成所述第二金属走线图案。该掩膜板组件通过设置层叠的光强控制掩膜板以及图案化掩膜板，可以控制驱动电路中第一金属线图案以及第二金属线图案的曝光量，进而解决不同分辨率区域曝光不均匀的问题。
附图说明
[0016]为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0017]图1a是本申请实施例提供的掩膜板组件中光强控制掩膜板的俯视图之一；图1b是本申请实施例提供的掩膜板组件中光强控制掩膜板的俯视图之二；图1c是本申请实施例提供的掩膜板组件中光强控制掩膜板的俯视图之三；图2a是本申请实施例提供的掩膜板组件中图案化掩膜板的俯视图之一；图2b是本申请实施例提供的掩膜板组件中图案化掩膜板的俯视图之二；图2c是本申请实施例提供的掩膜板组件中图案化掩膜板的俯视图之三；图3是图1a提供的光强控制掩膜板沿AA
’
方向的剖视图之一；图4是图1a提供的光强控制掩膜板沿AA
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方向的剖视图之二；图5是图1a提供的光强控制掩膜板沿AA
’
方向的剖视图之三；图6是图1a提供的光强控制掩膜板沿AA
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方向的剖视图之四；
图7是本申请实施例提供的曝光系统的结构示意图；图8是本申请实施例提供的显示面板的制作方法的流程示意图。
具体实施方式
[0018]下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0019]本申请实施例提供一种掩膜板组件及曝光系统、显示面板及其制作方法，可以解决显示面板中驱动电路曝光不良的问题。以下分别进行详细说明。需说明的是，以下实施例的描述顺序不作为对实施例优选顺序的限定。另外，在本申请的描述中，术语“包括”是指“包括但不限于”。术语“第一”、“第二”、“第三”等仅仅作为标示使用，其用于区别不同对象，而不是用于描述特定顺序。
[0020]请参阅图1a至图2c，图1a是本申请实施例提供的掩膜板组件中光强控制掩膜板的俯视图之一；图1b是本申请实施例提供的掩膜板组件中光强控制掩膜板的俯视图之二；图1c是本申请实施例提供的掩膜板组件中光强控制掩膜板的俯视图之三；图2a是本申请实施例提供的掩膜板组件中图案化掩膜板的俯视图之一；图2b是本申请实施例提供本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板组件，其特征在于，包括：光强控制掩膜板，所述光强控制掩膜板具有间隔设置的第一曝光区以及第二曝光区，所述第一曝光区的透光率大于所述第二曝光区的透光率；图案化掩膜板，所述图案化掩膜板设于所述光强控制掩膜板远离光源的一侧，所述图案化掩膜板具有间隔设置的第一图案化区域以及第二图案化区域，其中，所述第一曝光区的垂直投影覆盖所述第一图案化区域的垂直投影，所述第二曝光区的垂直投影覆盖所述第二图案化区域的垂直投影。2.根据权利要求1所述的掩膜板组件，其特征在于，所述光强控制掩膜板还包括第一金属层，所述第一金属层对应所述第二曝光区设置。3.根据权利要求2所述的掩膜板组件，其特征在于，所述光强控制掩膜板还包括第二金属层，所述第二金属层对应所述第一曝光区设置。4.根据权利要求3所述的掩膜板组件，其特征在于，所述第一金属层的厚度大于所述第二金属层的厚度。5.根据权利要求1所述的掩膜板组件，其特征在于，所述光强控制掩膜板还包括围绕所述第一曝光区以及所述第二曝光区的遮光区，所述光强控制掩膜板还包括至少一组第一夹持组件以及第一金属片，所述第一夹持组件设于所述遮光区且位于所述第二曝光区的相对两侧，所述第一夹持组件用于固定所述第一金属片。6.根据权利要求5所述的掩膜板组...

【专利技术属性】
技术研发人员：段淼，李林霜，朱钦富，陈黎暄，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：