掩膜板组件及曝光系统、显示面板及其制作方法技术方案

本申请公开了一种掩膜板组件及曝光系统、显示面板及其制作方法，该掩膜板组件包括：光强控制掩膜板、图案化掩膜板，所述光强控制掩膜板具有间隔设置的第一曝光区以及第二曝光区，所述第一曝光区的透光率大于所述第二曝光区的透光率；所述图案化掩膜板设于所述光强控制掩膜板远离光源的一侧，所述图案化掩膜板具有间隔设置的第一图案化区域以及第二图案化区域，其中，所述第一曝光区的垂直投影覆盖所述第一图案化区域的垂直投影，所述第二曝光区的垂直投影覆盖所述第二图案化区域的垂直投影。可以解决不同分辨率区域曝光不均匀的问题。题。题。

【技术实现步骤摘要】
掩膜板组件及曝光系统、显示面板及其制作方法


[0001]本申请涉及显示
，具体涉及一种掩膜板组件及曝光系统、显示面板及其制作方法。

技术介绍

[0002]随着新型显示技术的快速发展，器件的高度集成化成为了未来显示科技的新增长点。现有的显示器件中的驱动电路控制系统或信号传输系统等都是集成在印制电路板或覆晶薄膜的芯片上，再绑定连接到玻璃基面板上。若将外挂芯片系统集成在玻璃面板上，则可以很大程度上节省材料成本。因此，开发玻璃基集成电路意义重大。
[0003]而玻璃基集成电路就意味着存在分辨率差异较大的不同区域，若采用现有的曝光系统中的曝光条件对集成电路进行曝光时，受曝光量等影响，不同分辨率区域之间容易出现曝光不均匀的问题。

技术实现思路

[0004]本申请实施例提供一种掩膜板组件及曝光系统、显示面板及其制作方法，可以解决不同分辨率区域曝光不均匀的问题。
[0005]一方面，本申请实施例提供一种掩膜板组件，包括：光强控制掩膜板、图案化掩膜板，所述光强控制掩膜板具有间隔设置的第一曝光区以及第二曝光区，所述第一曝光区的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板组件，其特征在于，包括：光强控制掩膜板，所述光强控制掩膜板具有间隔设置的第一曝光区以及第二曝光区，所述第一曝光区的透光率大于所述第二曝光区的透光率；图案化掩膜板，所述图案化掩膜板设于所述光强控制掩膜板远离光源的一侧，所述图案化掩膜板具有间隔设置的第一图案化区域以及第二图案化区域，其中，所述第一曝光区的垂直投影覆盖所述第一图案化区域的垂直投影，所述第二曝光区的垂直投影覆盖所述第二图案化区域的垂直投影。2.根据权利要求1所述的掩膜板组件，其特征在于，所述光强控制掩膜板还包括第一金属层，所述第一金属层对应所述第二曝光区设置。3.根据权利要求2所述的掩膜板组件，其特征在于，所述光强控制掩膜板还包括第二金属层，所述第二金属层对应所述第一曝光区设置。4.根据权利要求3所述的掩膜板组件，其特征在于，所述第一金属层的厚度大于所述第二金属层的厚度。5.根据权利要求1所述的掩膜板组件，其特征在于，所述光强控制掩膜板还包括围绕所述第一曝光区以及所述第二曝光区的遮光区，所述光强控制掩膜板还包括至少一组第一夹持组件以及第一金属片，所述第一夹持组件设于所述遮光区且位于所述第二曝光区的相对两侧，所述第一夹持组件用于固定所述第一金属片。6.根据权利要求5所述的掩膜板组...

【专利技术属性】
技术研发人员：段淼，李林霜，朱钦富，陈黎暄，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：