一种低压铁芯线绕电抗器的设计方法技术

技术编号:36335977 阅读:20 留言:0更新日期:2023-01-14 17:48
本发明专利技术公开了一种低压铁芯线绕电抗器的设计方法,基于基本参数和预设条件下,进行绕线匝数的计算设计和分配;以及根据线绕的尺寸要求,得到线圈温升及1.35In下温升值,从而得到电抗器的具体成型尺寸,若电抗器的尺寸及温升满足于设计需求,则设计结束,否则返回预设条件,重新迭代设计。本发明专利技术计算更为简单,将复杂的电磁场计算转化,并对其中一些参数进行优化设计,使得计算设计数据和电抗器成型后的测试数据精准度一致。试数据精准度一致。试数据精准度一致。

【技术实现步骤摘要】
一种低压铁芯线绕电抗器的设计方法


[0001]本专利技术属于电抗器
,具体涉及一种低压铁芯线绕电抗器的设计方法。

技术介绍

[0002]电抗器在电力系统中的应用非常广泛,主要有:(1)电力系统由于无功补偿需求,和电容器串联进行补偿;(2)变频器输入输出电抗器,需要串联电抗器;(3)大量非线性负荷的使用,导致系统的谐波污染越来越严重,处于改善电能质量的需要,大量无源电力滤波器投入使用,相应地需要配套的滤波电抗器。
[0003]电抗器的电气参数包括电抗器的电抗、额定容量和额定电流等,在这些参数中,对电抗器的设计、制造影响最大的是铁芯设计、线圈匝数的选择,以及温升的确定。设计计算时需要反复对各层进行计算和分配,计算工作量较大,因此,在铁芯电抗器设计方面,主要问题是寻求计算准确度高且计算速度较快的计算方法,其中,计算准确度是第一位的。传统设计方法存在计算准确度差,装置测试数据和设计时参数数据相差较大的问题。

技术实现思路

[0004]本专利技术所要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足,提供一种低压铁芯线绕电抗器的设计方法本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种低压铁芯线绕电抗器的设计方法,其特征在于,基于基本参数和预设条件下,进行绕线匝数的计算设计和分配;以及根据线绕的尺寸要求,得到线圈温升及1.35In下温升值,从而得到电抗器的具体成型尺寸,若电抗器的尺寸及温升满足于设计需求,则设计结束,否则返回预设条件,重新迭代设计。2.根据权利要求1所述的一种低压铁芯线绕电抗器的设计方法,其特征在于,所述方法包括具体步骤如下:步骤1:计算基本电气参数,包括电压、电流、电感值;步骤2:根据基本电气参数、现场要求以及需要达到的不饱和电流倍数,预设骨架尺寸,材质、中心距和不饱和电流倍数;步骤3:设计计算在当前结构下需要绕制的绕线匝数;步骤4:根据步骤3设计计算结果分配匝数和绕线尺寸分配,若分配结果符合骨架、高度及间距要求,则分配结果合格,实现层数和每层匝数的设计以及绕线尺寸确定,进入步骤5,否则返回步骤2;步骤5:计算线圈温升及1.35In下温升值,若线圈温升及1.35In下温升值满足现场要求,则进入步骤6,否则返回步骤2;步骤6:计算电抗器的成型尺寸,若满足现场要求,则设计计算结束,否则返回步骤2。3.根据权利要求2所述的一种低压铁芯线绕电抗器的设计方法,其特征在于,所述电抗器铁芯采用EI系列硅钢片。4.根据权利要求2所述的一种低压铁芯线绕电抗器的设计方法,其特征在于,所述步骤3具体步骤如下:步骤31:计算出铁芯截面S
截面
、平均磁路长度L
平均磁路长度
;S
截面
=l
片宽
*l
叠厚

叠片系数
L
平均磁路长度
=(l
片宽
+l
中心距
+l
铁芯窗高
)*2S
截面
为铁芯截面(mm2);l
片宽
为硅钢片的片宽(mm);l
叠厚
为硅钢片叠片厚度(mm);γ
叠片系数
为硅钢片叠片系数;L
平均磁路长度
为电抗器的平均磁路长度(mm);l
中心距
为电抗器相邻骨架中心距离(mm);l
铁芯窗高
为电抗器每相中铁芯窗高(mm);步骤32:计算磁路需要的气隙l
气隙
;l
气隙
为磁路气隙(mm);L
电感
为设计的电抗器的电感值(mH);a为不饱和电流倍数;B为磁通密度(Gs);步骤33:计算磁导率μ和电感因子a;μ=B*L
平均磁路长度
/(B*l
气隙
+L
平均磁路长度
)
a=12.5*μ*S
截面
/L
平均磁路长...

【专利技术属性】
技术研发人员:周姝越胡明捷
申请(专利权)人:南京嘉恒利实业有限公司
类型:发明
国别省市:

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