本实用新型专利技术公开了一种半导体清洗废水排放处理装置，涉及废水排放处理领域，包括沉淀罐，所述沉淀罐的正上方设置有主管道，所述主管道的端部固定连通有若干个分管道，若干个所述分管道的端部均匀分布在沉淀罐的周侧并与其内部连通，所述沉淀罐的内部设置有搅拌装置，所述沉淀罐底部的中心位置开设有沉淀物排出孔，所述搅拌装置包括与沉淀罐内壁转动连接的环块，所述沉淀罐顶端的内壁间固定连接有挡水板，所述挡水板、环块之间设置有带动环块旋转的传动装置，该半导体清洗废水排放处理装置，实现了对废水中沉淀物的便捷排出。实现了对废水中沉淀物的便捷排出。实现了对废水中沉淀物的便捷排出。
【技术实现步骤摘要】
一种半导体清洗废水排放处理装置
[0001]本技术涉及废水排放处理领域，具体为一种半导体清洗废水排放处理装置。
技术介绍
[0002]在半导体清洗过程中，会用到多种化学品，对半导体中可回收金属进行分解，随后在通过化学反应将分解后的金属变为固体，将固体分离后剩下的液体即为清洗废液，目前多种废液目前一般采用混合排放，即对废液做简单的酸碱分类，随后进行酸碱混合，使其变为中性；
[0003]但是为了节约时间成本，整个分解以及回收的时间都不会太长，进而会导致废液内依旧有一部分尚未来得及沉淀的金属微粒漂浮在废液中，如果不进行清理就排出，既会造成浪费，也会造成金属污染。
技术实现思路
[0004]本技术的目的是提供一种半导体清洗废水排放处理装置技术，以解决为了节约时间成本，整个分解以及回收的时间都不会太长，进而会导致废液内依旧有一部分尚未来得及沉淀的金属微粒漂浮在废液中，如果不进行清理就排出，既会造成浪费，也会造成金属污染的问题。
[0005]为了实现上述目的，本技术提供如下技术方案：包括沉淀罐，所述沉淀罐的正上方设置有主管道，所述主管道的端部固定连通有若干个分管道，若干个所述分管道的端部均匀分布在沉淀罐的周侧并与其内部连通，所述沉淀罐的内部设置有搅拌装置，所述沉淀罐底部的中心位置开设有沉淀物排出孔。
[0006]优选的，所述搅拌装置包括与沉淀罐内壁转动连接的环块，所述沉淀罐顶端的内壁间固定连接有挡水板，所述挡水板、环块之间设置有带动环块旋转的传动装置。
[0007]优选的，所述环块的内侧固定连接有环齿，所述传动装置包括与环齿啮合的齿轮，所述挡水板的上表面固定安装有电机，所述电机的输出轴贯穿挡水板并与齿轮固定连接。
[0008]优选的，所述沉淀罐的底部设置有与沉淀物排出孔螺纹连接的收集罐。
[0009]优选的，所述沉淀罐的周侧开设有废液排出孔。
[0010]优选的，所述沉淀物排出孔顶端的内壁开设有倾斜面。
[0011]优选的，所述沉淀罐的内壁开设有与环块相匹配的环槽.
[0012]优选的，所述环块的下表面固定连接有多个连接板，所述连接板的一侧固定连接有搅拌板。
[0013]与现有技术相比，本技术提供的一种多功能防水防尘连接器，通过沉淀罐内设置有旋转装置，会使得废液在沉淀罐内旋转，在离心力的作用下，微小的颗粒会集中在沉淀罐底部的中心位置，随后通过沉淀物排出孔排出。
附图说明
[0014]为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0015]图1为本技术实施例提供的整体结构示意图；
[0016]图2为本技术实施例提供的整体结构爆炸示意图；
[0017]图3为本技术实施例提供的传动装置、搅拌装置结构示意图；
[0018]图4为本技术实施例提供的整体结构仰视示意图；
[0019]图5为本技术实施例提供的整体结构剖视示意图。
[0020]附图标记说明：1、沉淀罐；11、废液排出孔；12、挡水板；13、环槽；14、沉淀物排出孔；141、倾斜面；2、主管道；3、分管道；4、搅拌装置；41、环块；411、环齿；42、连接板；43、搅拌板；5、收集罐；6、传动装置；61、齿轮；62、电机。
具体实施方式
[0021]为了使本领域的技术人员更好地理解本技术的技术方案，下面将结合附图对本技术作进一步的详细介绍。
[0022]请参阅图5，本技术实施例提供的一种半导体清洗废水排放处理装置，包括沉淀罐1，废液在沉淀罐1内储存，沉淀罐1的正上方设置有主管道2，主管道2的端部固定连通有若干个分管道3，废液通过主管道2流经分管道3，若干个分管道3的端部均匀分布在沉淀罐1的周侧并与其内部连通，随后废液流入沉淀罐1内，分管道3均匀分布在沉淀罐1周侧，降低流入时扰乱沉淀罐1内原本废液旋转的流向，沉淀罐1的内部设置有搅拌装置4，搅拌装置4带动废液在沉淀罐1内旋转，使得废液内的金属颗粒在离心力作用下集中在沉淀罐1底部的中心，沉淀罐1底部的中心位置开设有沉淀物排出孔14，金属颗粒在离心力作用下集中在沉淀罐1底部的中心通过沉淀物排出孔14排出。
[0023]搅拌装置4包括与沉淀罐1内壁转动连接的环块41，沉淀罐1顶端的内壁间固定连接有挡水板12，挡水板12、环块41之间设置有带动环块41旋转的传动装置6。
[0024]环块41的内侧固定连接有环齿411，传动装置6包括与环齿411啮合的齿轮61，挡水板12的上表面固定安装有电机62，电机62的输出轴贯穿挡水板12并与齿轮61固定连接。
[0025]沉淀罐1的底部设置有与沉淀物排出孔14螺纹连接的收集罐5。
[0026]沉淀罐1的周侧开设有废液排出孔11。
[0027]沉淀物排出孔14顶端的内壁开设有倾斜面141。
[0028]沉淀罐1的内壁开设有与环块41相匹配的环槽13，环块41的下表面固定连接有多个连接板42，连接板42的一侧固定连接有搅拌板43。
[0029]使用时，只需启动电机62，电机62带动齿轮61旋转，齿轮61通过环齿411带动环块41旋转，环块41旋转，在搅拌板43的作用下，带动废液进行旋转，在离心力的作用下，使得金属颗粒集中在沉淀罐1底部的中心，并慢慢通过沉淀物排出孔14沉入收集罐5内。
[0030]以上只通过说明的方式描述了本技术的某些示范性实施例，毋庸置疑，对于本领域的普通技术人员，在不偏离本技术的精神和范围的情况下，可以用各种不同的方式对所描述的实施例进行修正。因此，上述附图和描述在本质上是说明性的，不应理解为
对本技术权利要求保护范围的限制。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种半导体清洗废水排放处理装置，其特征在于，包括沉淀罐(1)；所述沉淀罐(1)的正上方设置有主管道(2)，所述主管道(2)的端部固定连通有若干个分管道(3)；若干个所述分管道(3)的端部均匀分布在沉淀罐(1)的周侧并与其内部连通；所述沉淀罐(1)的内部设置有搅拌装置(4)；所述沉淀罐(1)底部的中心位置开设有沉淀物排出孔(14)。2.根据权利要求1所述的一种半导体清洗废水排放处理装置，其特征在于，所述搅拌装置(4)包括与沉淀罐(1)内壁转动连接的环块(41)，所述沉淀罐(1)顶端的内壁间固定连接有挡水板(12)，所述挡水板(12)、环块(41)之间设置有带动环块(41)旋转的传动装置(6)。3.根据权利要求2所述的一种半导体清洗废水排放处理装置，其特征在于，所述环块(41)的内侧固定连接有环齿(411)，所述传动装置(6)包括与环齿(411)啮合的齿轮(61)，所述挡水板(12)的上...
【专利技术属性】
技术研发人员：栗文宝，栗文平，陈丹，
申请(专利权)人：杭州鹊帆环境工程有限公司，
类型：新型
国别省市：
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