一种窑炉排胶室密封清理结构制造技术

本实用新型专利技术提供一种窑炉排胶室密封清理结构，包括用于烧制窑器的窑炉，该窑炉内的底部设有斜台，所述斜台上表面的两侧均开设有移动槽，所述斜台的上表面且位于移动槽的两侧均设有挡板，所述窑炉内部的下表面活动安装有用于放置窑器的送料架，所述送料架下表面的四角均设有支腿，所述送料架下表面一端的两侧分别设有喷水板与吹风板，所述窑炉的前侧设有导轨，所述导轨上表面的两侧均开设有支撑槽，所述导轨上表面的一端开设有若干个透水孔，所述导轨一侧面的一端开设有排水口。本实用新型专利技术能够使窑炉内部的杂物在水或者空气的冲击下顺利的移动到窑炉的外侧，可以保证窑炉内部的清洁。洁。洁。

【技术实现步骤摘要】
一种窑炉排胶室密封清理结构


[0001]本技术属于窑炉清理设备
，尤其涉及一种窑炉排胶室密封清理结构。

技术介绍

[0002]窑炉，是指用耐火材料砌成的用以烧制陶瓷器物和雕塑或是令珐琅熔合到金属器物表面的火炉，是陶艺成型中的必备设施，一般用砖和石头砌成，从原始社会的地上露天堆烧、挖坑筑烧到馒头状升焰圆窑、半倒焰马蹄形窑、半坡龙窑、鸭蛋形窑，再到现今的室内气窑、电窑，窑炉科技在不断改良发展中，可以根据需要制成各种大小的规格，采用可燃气体、油或电来运转
[0003]窑器在窑炉内进行高温烧制时，窑炉内部会产生积灰与结垢现象，长时间堆积可能会影响窑炉性能以及产品质量，但是现有的窑炉使用完成后因为温度过高，不便于清洁，清洁效果较差，容易造成杂物残留。
[0004]因此，专利技术一种窑炉排胶室密封清理结构显得非常必要。

技术实现思路

[0005]为了解决上述技术问题，本技术提供一种窑炉排胶室密封清理结构，以解决现有窑炉使用完成后因为温度过高，不便于清洁，清洁效果较差，容易造成杂物残留的问题。
[0006]本技术所采用的技术方案如下：
[0007]一种窑炉排胶室密封清理结构，包括用于烧制窑器的窑炉，该窑炉内的底部设有斜台，所述斜台上表面的两侧均开设有移动槽，所述斜台的上表面且位于移动槽的两侧均设有挡板，所述窑炉内部的下表面活动安装有用于放置窑器的送料架，所述送料架下表面的四角均设有支腿，所述送料架下表面一端的两侧分别设有喷水板与吹风板，所述送料架内部的两侧均开设有分别与喷水板、吹风板相连接的输水槽与输气槽，所述窑炉的前侧设有导轨，所述导轨上表面的两侧均开设有支撑槽，所述导轨上表面的一端安装有栏板，所述导轨上表面的一端开设有若干个透水孔，所述导轨一侧面的一端开设有排水口。
[0008]进一步，所述斜台上表面的外侧一端向下倾斜5
‑
10度，便于水流的流出。
[0009]进一步，所述挡板的截面为直角三角形，且三角形中倾斜的一面分别朝向移动槽的外侧，用于阻挡水或者杂物进入到移动槽内。
[0010]进一步，每个所述支腿的下端均安装有移动轮，用于送料机架的移动。
[0011]进一步，所述喷水板与吹风板的内部均开设有下端向前倾斜30
‑
45度的开槽。
[0012]与现有技术相比，本技术具有如下有益效果：
[0013]1.本技术喷水板与吹风板的内部均开设有下端向前倾斜30
‑
45度的开槽，能够使从喷水板与吹风板内流出的水或者空气对窑炉内部的杂物产生向前的推力，与上表面倾斜5
‑
10度的斜台配合使用，能够使窑炉内部的杂物在水或者空气的冲刷下顺利的移动到
窑炉的外侧，可以保证窑炉内部的清洁。
[0014]2.本技术中的三角形挡板能够阻挡水或者杂物进入到移动槽内。
[0015]不仅可以避免杂物影响送料架在移动槽内的正常运行，保证装置的正常使用，同时还能够防止窑炉内部杂物的残留。
[0016]3.本技术导轨上表面设有的栏板能够阻挡从窑炉内流出的污水流向四周，避免污染工作环境，可以使污水顺利的通过透水孔从排水口流入到处理池内进行集中处理，可以进行水资源的重复循环利用，节约资源。
附图说明
[0017]图1是本技术的整体结构示意图；
[0018]图2是本技术窑炉的内部结构示意图；
[0019]图3是本技术窑炉与送料架的连接结构示意图；
[0020]图4是本技术导轨的立体结构示意图；
[0021]图5是本技术送料架与挡板位置结构示意图；
[0022]图6是本技术喷水板与吹风板的内部结构示意图；
[0023]图7是本技术送料架的内部结构示意图。
[0024]图中：
[0025]1‑
窑炉，11
‑
斜台，12
‑
移动槽，13
‑
挡板，2
‑
送料架，21
‑
支腿，22
‑
喷水板，23
‑
吹风板，24
‑
输水槽，25
‑
输气槽，3
‑
导轨，31
‑
支撑槽，32
‑
栏板，33
‑
透水孔，34
‑
排水口。
具体实施方式
[0026]为了使本
的人员更好地理解本技术方案，下面将对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本技术保护的范围。
[0027]如附图1至附图7所示。
[0028]本技术提供的一种窑炉排胶室密封清理结构，包括用于烧制窑器的窑炉1，其特征在于：所述窑炉1内部的下表面设有向下倾斜5
‑
10度的斜台11，所述斜台11上表面的两侧均开设有用于送料架2移动的矩形移动槽12，所述斜台11的上表面且分别位于两个移动槽12的两侧均设有三角形挡板13，所述送料架2的下表面焊接有四个下端带有移动轮用于嵌装到移动槽12内的支腿21，所述送料架2内部的两侧分别开设有输水槽24与输气槽25，所述送料架2下表面一端的两侧安装有分别与输水槽24、输气槽25相连接的喷水板22与吹风板23，所述窑炉1底部的前侧放置有用于送料架2移动的导轨3，所述导轨3的上表面的两侧均开设有用于嵌装支腿21的支撑槽31，所述导轨3上表面的一端安装有用于阻挡水流的栏板32，所述导轨3与窑炉1相连接的一端的内部开设有用于盛放污水的矩形开槽，所述导轨3上表面的一端且位于开槽的正上方呈阵列排列开设有若干个圆形透水孔33，所述导轨3的一侧面且位于开槽的一端开设有矩形排水口34。
[0029]将需要烧制的窑器放置在送料架2的上方，然后缓缓推动送料架2使其移动到窑炉1内进行烧制，烧制完成后，打开分别与输水槽24、输气槽25一端相连接的水泵与送风机，水
和空气分别沿着输水槽24、输气槽25从喷水板22与吹风板23处流出，然后缓缓拉动送料架2，送料架2通过下端支腿21在移动槽12内的移动，移动到窑炉1的外侧，在送料架2移动的过程中，喷水板22与吹风板23的内部开设的倾斜30
‑
45度的开槽，能够对窑炉内部的杂物产生向前的推力，然后污水带动杂物在倾斜5
‑
10度的斜台的上方缓缓移动，移动槽12两侧设有的三角形挡板13能够阻挡污水与杂物流入到移动槽12内，然后直至送料架2从窑炉1内移出到导轨3的上方，此时污水带动杂物从窑炉1的内部缓缓移动到导轨3的上方，然后污水与杂物再通过透水孔33流动到导轨3一端开设的开槽内，由于导轨3的上表面设有栏板32，栏板32能够阻挡污水向四本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种窑炉排胶室密封清理结构，包括用于烧制窑器的窑炉(1)，其特征在于：所述窑炉(1)内的底部设有斜台(11)，所述斜台(11)上表面的两侧均开设有移动槽(12)，所述斜台(11)的上表面且位于移动槽(12)的两侧均设有挡板(13)，所述窑炉(1)内部的下表面活动安装有用于放置窑器的送料架(2)，所述送料架(2)下表面的四角均设有支腿(21)，所述送料架(2)下表面一端的两侧分别设有喷水板(22)与吹风板(23)，所述送料架(2)内部的两侧均开设有分别与喷水板(22)、吹风板(23)相连接的输水槽(24)与输气槽(25)，所述窑炉(1)的前侧设有导轨(3)，所述导轨(3)上表面的两侧均开设有支撑槽(31)，所述导轨(3)上表面的一端安装有栏板(32)，所述导轨...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨雷，彭安平，谢良超，
申请(专利权)人：山东美可达电子影像有限公司，
类型：新型
国别省市：