入射光流的强度分布制造技术

用控制从一个光源到一个反射镜的投射光强度分布，进而协调偏转面镜的中间状态控制，获得了额外的控制灵活性，以对图像显示系统产生更多的灰度级。控制光源强度分布能给入射光以广泛的强度分布变化范围，包括非均匀，对称的，非对称的，不同的偏振分布，各式各样的入射光横截面形状以及所有上述变化的其它组合。用优化入射光的强度分布同样能得到更稳定的和更精细的灰度级控制，以产生图像显示的最佳视觉效果。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
投射装置，通过照明光学设备接收从光源来的光，以投射到具有多个微镜的空间光调制器，所述微镜被控制，以振荡到不同的偏转角度，所述投射装置还包含：　控制器，按照输入信号来控制上述每一所述微镜的偏转角度保持操作和振荡操作，以向位于投射光路上的 光瞳投射预先确定量的光，其中　所述光源或所述照明光学设备被构造成使得在对每一所述微镜的入射ＮＡ范围内光强分布或照明光的平均光量不均匀。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：荒井一马，前田义浩，石井房雄，市川博敏，
申请(专利权)人：奥林巴斯株式会社，硅索株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]