有机器件、掩模组、掩模以及有机器件的制造方法技术

本发明专利技术涉及有机器件、掩模组、掩模以及有机器件的制造方法。有机器件可以具备：基板；位于基板上的第1电极；位于第1电极上的有机层；和位于有机层上的第2电极。在沿着基板的法线方向观察的情况下，有机器件可以具备包含第1显示区域和第2显示区域的显示区域。第1显示区域可以包含以第1密度分布的有机层。第2显示区域可以包含以小于第1密度的第2密度分布的有机层。第2电极可以具备：在第1显示区域无间隙地扩展的广域电极；和包含与广域电极连接的端并在第2显示区域与有机层重叠的2个以上的电极线。极线。极线。

【技术实现步骤摘要】
有机器件、掩模组、掩模以及有机器件的制造方法


[0001]本专利技术的实施方式涉及有机器件、掩模组、掩模以及有机器件的制造方法。

技术介绍

[0002]近年来，在智能手机、平板电脑等电子器件中，市场上要求高精细的显示装置。显示装置例如具有400ppi以上或800ppi以上等的像素密度。
[0003]由于具有良好的响应性和/或低功耗，因此有机EL显示装置受到关注。作为形成有机EL显示装置的像素的方法，已知通过蒸镀使构成像素的材料附着于基板上的方法。例如，首先，准备以与元件对应的图案形成有阳极的基板。接着，经由掩模的贯通孔使有机材料附着在阳极上，由此在阳极上形成有机层。接着，经由掩模的贯通孔使导电性材料附着在有机层上，由此在有机层上形成阴极。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本专利第3539597号公报

技术实现思路

[0007]专利技术所要解决的课题
[0008]阴极的面积越大，则阴极的电阻越低。另一方面，阴极的面积越大，则有机器件中的光的透射率越降低。
[0009]用于解决课题的手段
[0010]本专利技术的一个实施方式的有机器件可以具备：基板；位于上述基板上的第1电极；位于上述第1电极上的有机层；和位于上述有机层上的第2电极。在沿着上述基板的法线方向观察的情况下，上述有机器件可以具备包含第1显示区域和第2显示区域的显示区域。上述第1显示区域可以包含以第1密度分布的上述有机层。上述第2显示区域可以包含以小于上述第1密度的第2密度分布的上述有机层。上述第2电极可以具备：在上述第1显示区域无间隙地扩展的广域电极；和包含与上述广域电极连接的端并在上述第2显示区域与上述有机层重叠的2个以上的电极线。
[0011]专利技术的效果
[0012]根据本专利技术的一个实施方式，能够提高有机器件中的光的透射率。
附图说明
[0013]图1是示出有机器件的一例的俯视图。
[0014]图2是将有机器件放大示出的俯视图。
[0015]图3是将图2的第1显示区域和第2显示区域的一部分放大示出的俯视图。
[0016]图4是示出第2电极的结构的一例的俯视图。
[0017]图5是示出从图4的有机器件去除了第2电极后的状态的俯视图。
[0018]图6是沿着图4的有机器件的A
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A线的截面图。
[0019]图7是沿着图4的有机器件的B
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B线的截面图。
[0020]图8A是沿着图4的有机器件的C
‑
C线的截面图。
[0021]图8B是示出第1重叠区域的一例的截面图。
[0022]图8C是示出第1重叠区域的一例的截面图。
[0023]图8D是沿着图4的有机器件的D
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D线的截面图。
[0024]图8E是示出第2重叠区域的一例的截面图。
[0025]图9是示出有机器件组的一例的俯视图。
[0026]图10是示出蒸镀装置的一例的图。
[0027]图11是示出掩模装置的一例的俯视图。
[0028]图12是示出第1掩模装置的一例的图。
[0029]图13是示出第2掩模装置的一例的图。
[0030]图14是示出掩模的截面结构的一例的图。
[0031]图15是示出第1掩模的一例的俯视图。
[0032]图16是示出第2掩模的一例的俯视图。
[0033]图17是示出掩模层积体的一例的俯视图。
[0034]图18是示出有机器件的一例的俯视图。
[0035]图19是示出第1掩模装置的一例的图。
[0036]图20是示出第2掩模装置的一例的图。
具体实施方式
[0037]在本说明书和本附图中，只要没有特别说明，“基板”、“基材”、“板”、“片”或“膜”等表示成为某一结构的基础的物质的用语并非仅基于称呼的不同而相互区分。
[0038]在本说明书和本附图中，只要没有特别说明，对于限定形状、几何学条件以及它们的程度的例如“平行”、“正交”等用语或长度、角度的值等，不限于严格的含义，而是包含可期待同样功能的程度的范围来解释。
[0039]在本说明书和本附图中，只要没有特别说明，在某个部件或某个区域等某一结构处于其他部件或其他区域等其他结构的“上”或“下”、“上侧”或“下侧”、或者“上方”或“下方”的情况下，包括某一结构与其他结构直接接触的情况。此外，还包括在某一结构与其他结构之间包含另外的结构的情况、即间接接触的情况。另外，只要没有特别说明，“上”、“上侧”、“上方”或者“下”、“下侧”、“下方”这样的语句中，上下方向可以翻转。
[0040]在本说明书和本附图中，只要没有特别说明，对于同一部分或具有同样功能的部分标注同一标号或类似的标号，有时省略其重复的说明。另外，为了便于说明，有时附图的尺寸比例与实际的比例不同，有时从附图中省略结构的一部分。
[0041]在本说明书和本附图中，只要没有特别说明，本说明书的一个实施方式可以在不产生矛盾的范围内与其他实施方式组合。另外，其他实施方式彼此也可以在不产生矛盾的范围内组合。
[0042]在本说明书和本附图中，只要没有特别说明，在关于制造方法等方法公开多个工序的情况下，可以在所公开的工序之间实施未公开的其他工序。另外，所公开的工序的顺序
在不产生矛盾的范围内是任意的。
[0043]在本说明书和本附图中，只要没有特别说明，由符号“～”表示的范围包括置于标号“～”的前后的数值或要素。例如，“34～38质量％”这样的表述所划定的数值范围与“34质量％以上且38质量％以下”这样的表述所划定的数值范围相同。例如，“掩模50A～50B”这样的表述所划定的范围包括掩模50A、50B。
[0044]本说明书的一个实施方式中，对如下例子进行说明：具备多个掩模的掩模组用于在制造有机EL显示装置时在基板上形成电极。但是，掩模组的用途没有特别限定，对于用于各种用途的掩模组，能够应用本实施方式。例如，为了形成如下装置的电极，也可以使用本实施方式的掩模组，其中，所述装置是用于显示或投影用于表现虚拟现实(所谓的VR)或增强现实(所谓的AR)的图像或影像的装置。另外，为了形成液晶显示装置的电极等、有机EL显示装置以外的显示装置的电极，也可以使用本实施方式的掩模组。另外，为了形成压力传感器的电极等、显示装置以外的有机器件的电极，也可以使用本实施方式的掩模组。
[0045]本专利技术的第1方式涉及一种有机器件，其具备：
[0046]基板；
[0047]位于上述基板上的第1电极；
[0048]位于上述第1电极上的有机层；和
[0049]位于上述有机层上的第2电极，
[0050]在沿着上述基板的法线方向观察的情况下，上述有机器件具备包含第1显示区域和第2显示区域的显示区域，
[0051]上述第1显示区域包含以第本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种有机器件，其具备：基板；位于所述基板上的第1电极；位于所述第1电极上的有机层；和位于所述有机层上的第2电极，在沿着所述基板的法线方向观察的情况下，所述有机器件具备包含第1显示区域和第2显示区域的显示区域，所述第1显示区域包含以第1密度分布的所述有机层，所述第2显示区域包含以小于所述第1密度的第2密度分布的所述有机层，所述第2电极具备：在所述第1显示区域无间隙地扩展的广域电极；和包含与所述广域电极连接的端并在所述第2显示区域与所述有机层重叠的2个以上的电极线。2.如权利要求1所述的有机器件，其中，所述显示区域具备轮廓，所述轮廓包含：在第1方向上相向的第1边和第2边；和在与第1方向交叉的第2方向上相向的第3边和第4边，所述广域电极沿着所述第1边、所述第2边和所述第3边扩展。3.如权利要求2所述的有机器件，其中，所述第2显示区域与所述第4边相接。4.如权利要求1～3中任一项所述的有机器件，其中，所述电极线包含：与所述有机层重叠的像素段；和与所述像素段连接且具有比所述像素段的宽度小的宽度的连接段。5.如权利要求4所述的有机器件，其中，所述第2电极包含：至少构成所述广域电极的第1层；和与所述第1层局部重叠且至少构成所述连接段的第2层。6.如权利要求5所述的有机器件，其中，所述第1层包含构成所述像素段的部分。7.如权利要求6所述的有机器件，其中，构成所述像素段的所述第1层的1个所述部分与2个以上的所述有机层重叠。8.如权利要求6所述的有机器件，其中，构成所述像素段的所述第1层的1个所述部分与1个所述有机层重叠。9.如权利要求1～3中任一项所述的有机器件，其中，所述第2密度相对于所述第1密度之比为0.9以下。10.一种掩模组，其为具备2片以上的掩模的掩模组，其中，所述掩模具备遮蔽区域和贯通孔，2片以上的所述掩模重叠而成的掩模层积体具备在沿着所述掩模的法线方向观察时与所述贯通孔重叠的贯通区域，在沿着所述掩模的法线方向观察的情况下，所述掩模层积体具备包含掩模第1区域和掩模第2区域的单元，在所述掩模第1区域中，所述贯通区域无间隙地扩展，在所述掩模第2区域中，所述贯通区域具备包含与所述掩模第1区域连接的端且位于所述掩模第2区域的2个以上的贯通线。11.如权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：宫谷勋，池永知加雄，中村阳子，井上功，
申请(专利权)人：大日本印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：