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防焊曝光机制造技术

技术编号:3623465 阅读:325 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种防焊曝光机,包括一机台、一曝光装置,设在一机台内部,其向下设有一反射罩;一冷却装置,其出风口朝向该反射罩下方,并通过一冰水主机提供冷气;一影像拾取装置,是设在机台外部上方,一对以上的CCD摄像机,通过纵向、横向及竖向的三向移载机构移位;一对位装置,是设在该影像拾取装置下方,其上顶平台由纵向、横向、竖向及转向的四向驱动机构驱动;两曝光框,是设在影像拾取装置及对位装置之间,并更迭抽换至曝光装置,其以一对推顶缸控制一台面在一底框上方掀合,该底框相对对位装置的上顶平台,跨置一曝光平台;具有一机双面曝光的功效,且可提高工作效率。(*该技术在2015年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
专利说明 一、
本技术涉及曝光设备,尤其涉及一种具有两组曝光框的防焊曝光机。二
技术介绍
本创作人在前创作核准的台湾新型公告第536106号专利案,所揭示的单面防焊曝光机,是针对单面曝光所设计的,因此,使用者必须购置两部曝光机,分别对电路板的两面进行曝光工作。三、
技术实现思路
本技术的主要目的在于克服现有产品存在的上述缺点,而提供一种具有两组曝光框的防焊曝光机,具有一机双面曝光的功效,且可提高工作效率。本技术的目的是由以下技术方案实现的。本技术防焊曝光机,包括一机台;其特征在于,还包括一曝光装置,设在一机台内部,其向下设有一反射罩;一冷却装置,其出风口朝向该反射罩下方,并通过一冰水主机提供冷气;一影像拾取装置,是设在机台外部上方,一对以上的CCD摄像机,通过纵向、横向及竖向的三向移载机构移位;一对位装置,是设在该影像拾取装置下方,其上顶平台由纵向、横向、竖向及转向的四向驱动机构驱动;两曝光框,是设在影像拾取装置及对位装置之间,并更迭抽换至曝光装置,其以一对推顶缸控制一台面在一底框上方掀合,该底框相对对位装置的上顶平台,跨置一曝光平台。前述的防焊曝光机,其中曝光平台上表面设有吸孔及抽气孔,且该台面下表面设有吸孔。前述的防焊曝光机,其中曝光框的推顶缸通过一对具有导槽的推顶块控制台面的掀合,且在台面与底框间相对设有被动扣件及主动扣件。本技术防焊曝光机的有益效果是,其主要结构是一机台设置有一曝光装置,是设在机台内部,向下设有一反射罩;一冷却装置,山风口朝向该反射罩下方,并通过一冰水主机提供冷气;一影像拾取装置,设在机台外部上方,使一对以上的CCD摄像机,通过纵向、横向及竖向的三向移载机构移位;一对位装置,设在该影像拾取装置下方,其上顶平台由纵向、横向、竖向及转向的四向驱动机构驱动;两曝光框,是设在该影像拾取装置及对位装置之间,而更迭抽换至该曝光装置;其以一对推顶缸通过一对具有导槽的推顶块,控制一下表面设有吸孔的台面在一底框上方掀合,且在台面与底框间相对设有被动扣件及主动扣件,该底框相对该对位装置的上顶平台,跨置一上表面设有吸孔及抽气孔的曝光平台。在曝尤装置更迭抽换的两曝光框,可高效率用于电路板双面的曝光工作。四附图说明图1为本技术立体结构示意图。图2为本技术侧面结构示意图。图3为本技术正面结构示意图。图4为本技术曝光框结构侧视图。图5为本技术曝光框结构立体图。图中主要标号说明10机台、20曝光装置、21反射罩、30冷却装置、31出风口、32冰水主机、40影像拾取装置、41CCD摄像机、42三向移载机构、50对位装置、51上顶平台、52四向驱动机构、60曝光框、61推顶缸、62台面、621被动扣件、622吸孔、63底框、631主动扣件、64曝光平台、641吸孔、642抽气孔、65推顶块、651导槽、70电路板、80底片。五具体实施方式参阅图1至图3所示,本技术在一机台10设置一曝光装置20,是设在机台10内部,向下设有一反射罩21;一冷却装置30,出风口31朝向该反射罩21下方,而通过一冰水主机32提供冷气;一影像拾取装置40设在机台10外部上方,令一对以上的CCD摄像机41,通过纵向、横向及竖向的三向移载机构移位;其中,该三向移载机构42由皮带轮组、马达、滑轨、气压缸等构件配合组成,此乃公知公用的现有技术,非本案的专利标的,不另详述;一对位装置50,设在该影像拾取装置40下方,其上顶平台51由纵向、横向、竖向及转向的四向驱动机构52驱动;其中,四向驱动机构52已揭示在前述的专利案,不再赘述;两曝光框60,是设在影像拾取装置40及对位装置50之间,而更迭抽换至曝光装置20;其以一对推顶缸61控制一台面62在一底框63上方掀合,该底框63对应对位装置50的上顶平台51,跨置一曝光平台64。又,如图4所示,该曝光框60的推顶缸61通过一对具有导槽651的推顶块65控制台面62的掀合,且在台面62与底框63间相对设有被动扣件621及主动扣件631。基于上述结构,再参阅图5所示,电路板70被该曝光平台64上表面的吸孔641吸附定位,底片80被该台面62下表面的吸孔622吸附定位;然后,将台面62盖合,并令该影像拾取装置40的CCD摄像机41下降,且该对位装置50的上顶平台51顶起该曝光平台64,使电路板70贴近底片80;而由CCD摄像机41自电路板70及底片80所摄取的标靶叠合影像,做为对位装置50的四向驱动机构52驱动上顶平台51纵向、横向及转向调整的驱动参数,用以驱动曝光平台64搭载着电路板70被纵向、横向及转向调整,进而将电路板70与底片80精准地定位;定位后,该曝光平台64上表面的抽气孔642开始抽气,使曝光平台64与台面62之间形成负压,而令曝光平台64相对于台面62被往上吸,让电路板70与底片80贴合在一起,再推至曝光装置20进行曝光。所以,本技术通过更迭抽换设在曝光装置20的两曝光框60,可分别用于电路板70双面的曝光工作,且其一进行曝光工作之际,另一则可进行电路板70与底片80的对位工作,从而具有一机双面曝光及高工作效率的功效。以上所述,仅是本技术的较佳实施例而已,并非对本技术作任何形式上的限制,凡是依据本技术的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本技术技术方案的范围内。权利要求1.一种防焊曝光机,包括一机台;其特征在于,还包括一曝光装置,设在一机台内部,其向下设有一反射罩;一冷却装置,其出风口朝向该反射罩下方,并通过一冰水主机提供冷气;一影像拾取装置,是设在机台外部上方,一对以上的CCD摄像机,通过纵向、横向及竖向的三向移载机构移位;一对位装置,是设在该影像拾取装置下方,其上顶平台由纵向、横向、竖向及转向的四向驱动机构驱动;两曝光框,是设在影像拾取装置及对位装置之间,并更迭抽换至曝光装置,其以一对推顶缸控制一台面在一底框上方掀合,该底框相对对位装置的上顶平台,跨置一曝光平台。2.根据权利要求1所述的防焊曝光机,其特征在于,所述曝光平台上表面设有吸孔及抽气孔,且该台面下表面设有吸孔。3.根据权利要求1或2所述的防焊曝光机,其特征在于,所述曝光框的推顶缸通过一对具有导槽的推顶块控制台面的掀合,且在台面与底框间相对设有被动扣件及主动扣件。专利摘要一种防焊曝光机,包括一机台、一曝光装置,设在一机台内部,其向下设有一反射罩;一冷却装置,其出风口朝向该反射罩下方,并通过一冰水主机提供冷气;一影像拾取装置,是设在机台外部上方,一对以上的CCD摄像机,通过纵向、横向及竖向的三向移载机构移位;一对位装置,是设在该影像拾取装置下方,其上顶平台由纵向、横向、竖向及转向的四向驱动机构驱动;两曝光框,是设在影像拾取装置及对位装置之间,并更迭抽换至曝光装置,其以一对推顶缸控制一台面在一底框上方掀合,该底框相对对位装置的上顶平台,跨置一曝光平台;具有一机双面曝光的功效,且可提高工作效率。文档编号G03F9/00GK2828877SQ200520026048公开日2006年10月18日 申请日期2005年6月1日 优先权日2005年6月1日专利技术者张鸿明 申请人:张鸿明本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种防焊曝光机,包括一机台;其特征在于,还包括:一曝光装置,设在一机台内部,其向下设有一反射罩;一冷却装置,其出风口朝向该反射罩下方,并通过一冰水主机提供冷气;一影像拾取装置,是设在机台外部上方,一对以上的CCD摄像机,通过纵向、横向及竖向的三向移载机构移位;一对位装置,是设在该影像拾取装置下方,其上顶平台由纵向、横向、竖向及转向的四向驱动机构驱动;两曝光框,是设在影像拾取装置及对位装置之间,并更迭抽换至曝光装置,其以一对推顶缸控制一台面在一底框上方掀合,该底框相对对位装置的上顶平台,跨置一曝光平台。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张鸿明
申请(专利权)人:张鸿明
类型:实用新型
国别省市:71[中国|台湾]

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