一种新型二氧化硅合成用供酸装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术适用于二氧化硅生产技术领域，提供了一种新型二氧化硅合成用供酸装置，其主体为合成反应釜，所述反应釜中分别设有若干个浓硫酸分布器和稀硫酸分布器，所述浓硫酸分布器设于反应釜顶部，所述稀硫酸分布器设于反应釜底部；所述浓硫酸分布器设有一个竖直汇集桶和连接于竖直汇集桶底部的水平分布管；所述稀硫酸分布器设有一字分布管，所述一字分布管一端穿过所述反应釜侧壁通往所述反应釜外部，所述一字分布管于所述反应釜外部的开口处设有控制阀。借此，本实用新型专利技术可以扩大硫酸的喷射面积，使硫酸分布均匀，提高二氧化硅产品质量。提高二氧化硅产品质量。提高二氧化硅产品质量。

【技术实现步骤摘要】
一种新型二氧化硅合成用供酸装置


[0001]本技术涉及二氧化硅生产
，尤其涉及一种新型二氧化硅合成用供酸装置。

技术介绍

[0002]二氧化硅为无色透明晶体或无定形粉末，在多领域得到广泛的应用：在晶体管和集成电路中作杂质扩散的掩蔽膜和保护层；作为填料用于环氧铸塑、光导纤维、涂料等领域；还可用于制造玻璃、发射光谱分析试剂、固体电路生产中扩锑时控制锑浓度等方面。
[0003]采用硫酸法合成二氧化硅时，需要与硫酸进行混合浸泡，传统的供酸系统采用一字型淋浴分酸器，单排孔布置，硫酸喷射面积小，分布不均匀，产品质量不易稳定。
[0004]综上可知，现有技术在实际使用上显然存在不便与缺陷，所以有必要加以改进。

技术实现思路

[0005]针对上述的缺陷，本技术的目的在于提供一种新型二氧化硅合成用供酸装置，其可以扩大硫酸的喷射面积，使硫酸分布均匀，提高二氧化硅产品质量。
[0006]为了实现上述目的，本技术提供一种新型二氧化硅合成用供酸装置，其主体为合成反应釜，所述反应釜中分别设有若干个浓硫酸分布器和稀硫酸分布器，所述浓硫酸分布器设于反应釜顶部，所述稀硫酸分布器设于反应釜底部。
[0007]所述浓硫酸分布器设有一个竖直汇集桶和连接于竖直汇集桶底部的水平分布管，所述竖直汇集筒顶端穿过所述反应釜顶部通往所述反应釜外部，所述水平分布管上设有若干个淋浴孔。
[0008]所述稀硫酸分布器设有一字分布管，所述一字分布管一端穿过所述反应釜侧壁通往所述反应釜外部，所述一字分布管于所述反应釜外部的开口处设有控制阀，所述一字分布管设于所述反应釜内部部分设有排酸孔。
[0009]根据本技术的一种新型二氧化硅合成用供酸装置，所述浓硫酸分布器设有固定杆，所述固定杆采用平板式法兰连接于所述反应釜顶板，所述竖直汇集筒连接进酸管道。
[0010]根据本技术的一种新型二氧化硅合成用供酸装置，所述水平分布管中心对齐于所述反应釜顶部四分之一处，所述水平分布器于所述反应釜顶板距离为400mm。
[0011]根据本技术的一种新型二氧化硅合成用供酸装置，所述稀硫酸分布器设有若干个固定支架，所述固定支架支撑连接于所述反应釜底。
[0012]根据本技术的一种新型二氧化硅合成用供酸装置，所述浓硫酸分布器设为三个，互相呈120
°
环型排列。
[0013]根据本技术的一种新型二氧化硅合成用供酸装置，所述浓硫酸分布器和所述稀硫酸分布器均为聚四氟乙烯材质。
[0014]本技术的目的在于提供一种新型二氧化硅合成用供酸装置，通过设置浓硫酸分布器，将足量的合成需用硫酸进行缓慢均匀的淋浴至原料中，增加了接触面积，使混合更
加均匀，反应程度更好；通过设置反应釜底部的稀硫酸分布器，在反应釜底部注入一部分稀硫酸，照顾到反应釜底部的少量原料，使整体原料与硫酸的混合程度更加均匀，保证产品质量。综上所述，本技术的有益效果是：可以扩大硫酸的喷射面积，使硫酸分布均匀，提高二氧化硅产品质量。
附图说明
[0015]图1是本技术外部整体结构示意图；
[0016]图2是本技术内部截面结构示意图；
[0017]图3是本技术浓硫酸分布器结构示意图；
[0018]图4是本技术浓硫酸分布器底部结构示意图；
[0019]图5是本技术稀硫酸分布器结构示意图；
[0020]在图中：1
‑
反应釜，2
‑
浓硫酸分布器，21
‑
竖直汇集桶，22
‑
固定杆，23
‑
水平分布管，24
‑
侧面淋浴孔，25
‑
底面淋浴孔；3
‑
稀硫酸分布器，31
‑
一字分布管，32
‑
固定支架，33
‑
排酸孔，34
‑
控制阀。
具体实施方式
[0021]为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。
[0022]参见图1和图2，本技术提供了一种新型二氧化硅合成用供酸装置，其主体为合成反应釜1，反应釜1中分别设有若干个浓硫酸分布器2和稀硫酸分布器3，浓硫酸分布器2设于反应釜1顶部，稀硫酸分布器3设于反应釜1底部。
[0023]参见图1、图2、图3和图4，浓硫酸分布器2设有一个竖直汇集桶和连接于竖直汇集桶底部的水平分布管23，竖直汇集筒21顶端穿过反应釜1顶部通往反应釜1外部，水平分布管23上设有若干个淋浴孔，本实施例中，淋浴孔分别为两侧设有的侧面淋浴孔24及底面设有的底面淋浴孔25；水平分布管23中心对齐于反应釜1顶部四分之一处，水平分布器于反应釜1顶板距离为400mm；浓硫酸分布器2设有固定杆22，固定杆22采用平板式法兰连接于反应釜1顶板，竖直汇集筒21连接进酸管道。进酸管道内的浓硫酸通过竖直汇集筒21进入到水平分布管23中，再通过细小的淋浴孔散布到反应釜1内，由于淋浴孔数量大、直径小，浓硫酸散布速度慢、面积广，与原料混料均匀，反应效果更好。
[0024]作为一种优选方式，浓硫酸分布器2设为三个，互相呈120
°
环型排列，使浓硫酸与原料混合更加均匀。
[0025]参见图1、图2和图5，稀硫酸分布器3设有一字分布管31，一字分布管31一端穿过反应釜1侧壁通往反应釜1外部，一字分布管31于反应釜1外部的开口处设有控制阀34，一字分布管31设于反应釜1内部部分设有排酸孔33，稀硫酸分布器3设有若干个固定支架32，固定支架32支撑连接于反应釜1底。开启控制阀34，将稀硫酸通过稀硫酸分布器3的开口处注入，稀硫酸通过排酸孔33缓慢扩散到反应釜1中，与反应釜1中底部的原料进行混合；由于浓硫酸分布器2已经将足量的浓硫酸进行均匀分布，设置稀硫酸分布器3的主要目的为保证反应釜1内硫酸与原料混料的均匀度，将稀硫酸分布器3设置于反应釜1底部可以照顾到反应釜1
底部的少量原料。
[0026]作为一种优选方式，稀硫酸分布器3安装在底层搅拌翅与釜底之间，近端距合成釜中心三分之一处。
[0027]作为一种优选方式，浓硫酸分布器2和稀硫酸分布器3均为聚四氟乙烯材质，提高装置的稳定性，使装置更加耐用。
[0028]综上所述，本技术通过设置浓硫酸分布器，将足量的合成需用硫酸进行缓慢均匀的淋浴至原料中，增加了接触面积，使混合更加均匀，反应程度更好；通过设置反应釜底部的稀硫酸分布器，在反应釜底部注入一部分稀硫酸，照顾到反应釜底部的少量原料，使整体原料与硫酸的混合程度更加均匀，保证产品质量。综上所述，本技术的有益效果是：可以扩大硫酸的喷射面积，使硫酸分布均匀，提高二氧化硅产品质量。
[0029]当然，本技术还可有其它多种实施本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种新型二氧化硅合成用供酸装置，其主体为合成反应釜，其特征在于，所述反应釜中分别设有若干个浓硫酸分布器和稀硫酸分布器，所述浓硫酸分布器设于反应釜顶部，所述稀硫酸分布器设于反应釜底部；所述浓硫酸分布器设有一个竖直汇集桶和连接于竖直汇集桶底部的水平分布管，所述竖直汇集筒顶端穿过所述反应釜顶部通往所述反应釜外部，所述水平分布管上设有若干个淋浴孔；所述稀硫酸分布器设有一字分布管，所述一字分布管一端穿过所述反应釜侧壁通往所述反应釜外部，所述一字分布管于所述反应釜外部的开口处设有控制阀，所述一字分布管设于所述反应釜内部部分设有排酸孔。2.根据权利要求1所述的一种新型二氧化硅合成用供酸装置，其特征在于，所述浓硫酸分布器设有固定杆，所述固定杆采用平...

【专利技术属性】
技术研发人员：李品，蔡新华，李祥凯，郭承顺，王汝文，吴晓林，
申请(专利权)人：山东联科科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：