蚀刻液、玉砂显示面板及其制备方法以及电子设备技术

本申请公开了蚀刻液、玉砂显示面板及其制备方法以及电子设备。按质量百分比及，所述蚀刻液包括蚀刻原料，25％～35％，蚀刻原料为氟化氢钾；弱酸载体，13％～40％；活性剂，6％～16％；PH调节剂，2％～5％；表面活性剂，0.2％～0.5％；缓蚀剂，2％～5％；粘度调节剂，8％～18％；以及，水，15％～30％。由此，经此蚀刻液蚀刻的玻璃面板，表面可形成纳米级的超细蒙砂层，蒙砂层的粗糙度为0.05μm

【技术实现步骤摘要】
蚀刻液、玉砂显示面板及其制备方法以及电子设备


[0001]本申请涉及电子领域，具体地，涉及蚀刻液、玉砂显示面板及其制备方法以及电子设备。

技术介绍

[0002]随着智能显示设备的普及与推广，数显产品已经成为人们生活中不可或缺的重要组成部分，但显示面板的反射光给使用者带来了不适的眩光，降低了用户体验效果。
[0003]因此，目前的蚀刻液、玉砂显示面板及其制备方法以及电子设备仍需进一步改进。

技术实现思路

[0004]本专利技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，在本专利技术的一个方面，提出了一种蚀刻液，按质量百分比计，所述蚀刻液包括：蚀刻原料，25％～35％，所述蚀刻原料为氟化氢钾；弱酸载体，13％～40％；活性剂，6％～16％；PH调节剂，2％～5％；表面活性剂，0.2％～0.5％；缓蚀剂，2％～5％；粘度调节剂，8％～18％；以及，水，15％～30％。由此，经此蚀刻液蚀刻的玻璃面板，表面可形成纳米级的超细蒙砂层，蒙砂层的粗糙度为0.05μm
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0.1μm，蒙砂晶型颗粒的跨度小于2.5μm，纳米级的微晶颗粒在比例面板上均匀分布，从而实现了哑光漫反射的效果，同时，可保留原玻璃的高透光性，在不影响显示图像画面清晰的前提下，有效地避免了反射光带来的危害。
[0005]在本申请的另一方面，提出了一种制备玉砂显示面板的方法，包括：制备前述的蚀刻液；利用所述蚀刻液对待加工玻璃面板的出光面进行蚀刻，以得到玉砂显示面板。由此，由上述方法制备的显示面板，出光面形成有纳米级的蒙砂层，纳米级的微晶颗粒在玻璃面板上均匀分布，使玻璃面板具有哑光漫反射的效果，同时保留了原玻璃面板的高透光性，有效地避免了反射光带来的危害。
[0006]在本申请的又一个方面，提出了一种玉砂显示面板，是由前述方法制备的。由此，该玉砂显示面板抗反射效果好，显示面板本身具有温润柔滑的玉质触感，提升了显示面板的应用推广空间。
[0007]在本申请的再一个方面，提出了一种电子设备，包括前述的玉砂显示面板。由此，该电子设备具有高透光性，抗反射效果好，设备具有温润柔滑的玉质触感。
附图说明
[0008]本专利技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对示例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
[0009]图1显示了本申请一个示例的制备玉砂显示面板的方法的流程示意图；
[0010]图2显示了本申请一个示例的高铝硅玻璃经蚀刻液处理后表面形貌图。
具体实施方式
[0011]下面详细描述本专利技术的示例。下面描述的示例是示例性的，仅用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。示例中未注明具体技术或条件的，按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市购获得的常规产品。
[0012]在本申请的一个方面，提出了一种蚀刻液，按质量百分比计，蚀刻液包括：蚀刻原料，25％～35％，蚀刻原料为氟化氢钾；弱酸载体，13％～40％；活性剂，6％～16％；PH调节剂，2％～5％；表面活性剂，0.2％～0.5％；缓蚀剂，2％～5％；粘度调节剂，8％～18％；以及，水，15％～30％。由此，经此蚀刻液蚀刻的玻璃面板，表面可形成纳米级的超细蒙砂层，蒙砂层的粗糙度为0.05μm
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0.1μm，蒙砂晶型颗粒的跨度小于2.5μm，纳米级的微晶颗粒在比例面板上均匀分布，从而实现了哑光漫反射的效果，同时，可保留原玻璃的高透光性，在不影响显示图像画面清晰的前提下，有效地避免了反射光带来的危害。
[0013]下面对本申请能够实现上述有益效果的原理进行详细说明：
[0014]如前所述，现有的数显产品的反射光会对使用者造成眩光，影响显示效果。现有的蚀刻液多采用氟化氢铵做蚀刻原料，最终形成的是铵盐遮蔽物，本申请提出的蚀刻液以氟化氢钾做蚀刻原料，最终形成的是钾盐遮蔽物，铵盐遮蔽物和钾盐遮蔽物的长晶路径不同，铵盐遮蔽物长晶路径是多棱锥，最终褪去后形成多棱锥晶型，钾盐遮蔽物长晶路径是多边形金字塔，最终褪去后形成多边形玉砂效果，在此过程中，钾盐的初始晶核在玻璃面板表面逐渐长大为遮蔽物后变形成了纳米级的超细蒙砂层。下面对本申请中其他成分的作用进行详细说明：本申请提出的蚀刻液，弱酸作为载体提供氢离子对玻璃中的钠离子进行置换生成硅酸凝胶层，促进蚀刻反应的进行；活性剂可增加氟离子的利用效率，提高蚀刻液的活性；pH调节剂，调节蚀刻液整体的pH值，提高刻蚀效果；表面活性剂，提高蚀刻液与玻璃表面的亲润性，提高蚀刻的均匀性；缓蚀剂，与金属离子生成络合物参与蚀刻反应，从而控制蚀刻反应的速度与深度；粘度调节剂，调节蚀刻液的粘度，提高蚀刻液的悬浮效果，提高蚀刻的均匀性。由于以上组分的协同配合，本申请的蚀刻液对玻璃面板进行蚀刻后，表面可形成纳米级的超细蒙砂层，蒙砂层的粗糙度为0.05μm
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0.1μm，蒙砂晶型颗粒的跨度小于2.5μm，纳米级的微晶颗粒在比例面板上均匀分布，从而实现了哑光漫反射的效果，同时，可保留原玻璃的高透光性，在不影响显示图像画面清晰的前提下，有效地避免了反射光带来的危害。
[0015]根据本专利技术的一些示例，蚀刻液中氟化氢钾的质量含量可以为25％～35％，例如，可以为27％、29％、31％、33％等。由此，保证蚀刻液中氟离子的含量，保证显示面板的表面形成均匀的蒙砂层。
[0016]根据本专利技术的一些示例，弱酸载体的质量含量可以为13％～40％，例如，可以为15％、17％、19％、21％、23％、25％、27％、29％、31％、33％、35％、37％等。如果弱酸的含量过多或过少，会影响钾盐遮盖物的遮盖速率，遮盖速率过大或过小，会影响最终的钾盐遮盖物的形貌。
[0017]根据本专利技术的一些示例，活性剂的质量含量可以为6％～16％，例如，可以为8％、10％、12％、14％等。当活性剂的含量在此范围时，蚀刻液的活性较高，可提高刻蚀速率。
[0018]根据本专利技术的一些示例，pH调节剂的含量可以为2％～5％，例如，可以为3％、4％等。
[0019]根据本专利技术的一些示例，表面活性剂的含量可以为0.2％～0.5％，例如，可以为0.25％、0.3％、0.35％、0.4％、0.45％等，由此，提高蚀刻液与玻璃面板表面的亲润性。
[0020]根据本专利技术的一些示例，蚀刻液中缓蚀剂的质量含量可以为2％～5％，例如，可以为3％、4％等。当缓蚀剂的含量在此范围时，可更好的控制蚀刻反应的速度和深度，进而形成纳米级的超细蒙砂层。
[0021]根据本专利技术的一些示例，蚀刻液中粘度调节剂的质量含量可以为8％～18％，例如，可以为9％、10％、11％、12％、13％、14％、15％、16％、17％等。
[0022]根据本专利技术的一些示例，为了即使补充蚀刻液中反应掉的有效成分，蚀刻液为过饱和悬浮液，以保证整个蚀刻过程中蚀刻原料对玻璃面板的蚀刻程度是持续稳定的。
[0023]根据本专利技术的一些示例，蚀刻液中弱酸载体的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蚀刻液，其特征在于，按质量百分比计，所述蚀刻液包括：蚀刻原料，25％～35％，所述蚀刻原料为氟化氢钾；弱酸载体，13％～40％；活性剂，6％～16％；pH调节剂，2％～5％；表面活性剂，0.2％～0.5％；缓蚀剂，2％～5％；粘度调节剂，8％～18％；以及，水，15％～30％。2.根据权利要求1所述的蚀刻液，其特征在于，所述蚀刻液为过饱和悬浮液。3.根据权利要求2所述的蚀刻液，其特征在于，所述弱酸载体包括草酸、磺基水杨酸和酒石酸中的至少一种。4.根据权利要求2所述的蚀刻液，其特征在于，所述活性剂包括硫酸钾和硝酸钾中的至少一种。5.根据权利要求2所述的蚀刻液，其特征在于，所述pH调节剂包括磷酸氢二钾、柠檬酸、三聚磷酸钠和氢氧化钠中的至少一种。6.根据权利要求2所述的蚀刻液，其特征在于，所述表面活性剂包括硼砂、笨磺酸钠和硬脂酸中的至少一种。7.根据权利要求2所述的蚀刻液，其特征在于，所述缓蚀剂包括碘化钾、亚硝酸钾和硅酸钾中的至少一种。8.根据权利要求2所述的蚀刻液，其特征在于，按质量百分比计，所述蚀刻液包括：氟化氢钾，25％～35％；草酸...

【专利技术属性】
技术研发人员：邱惊龙，
申请(专利权)人：OPPO广东移动通信有限公司，
类型：发明
国别省市：