基板处理装置和基板处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板处理装置和基板处理方法，能够抑制微粒的增加。基板处理装置具备罐、循环线路、分支线路、处理部、排出部、供给部及控制部。所述控制部具有第一判定部、第一补充控制部、计算部及第二补充控制部。所述第一判定部判定所述罐内的所述处理液的贮存量是否小于下限值。在所述第一判定部判定为所述贮存量小于所述下限值的情况下，所述第一补充控制部通过所述供给部向所述罐补充所述处理液。所述计算部计算每设定时间通过所述供给部向所述罐补充所述处理液的补充量。在由所述计算部计算的所述补充量的计算值小于设定值的情况下，所述第二补充控制部通过所述排出部使所述罐的所述贮存量减少，并通过所述供给部向所述罐补充所述处理液。述罐补充所述处理液。述罐补充所述处理液。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置和基板处理方法


[0001]本公开涉及一种基板处理装置和基板处理方法。

技术介绍

[0002]专利文献1的基板处理系统具备一个以上的处理单元、存储部、液贮存部、获取部、设定部、探测部、识别部以及检测部。一个以上的处理单元使用处理液对基板实施处理。存储部存储处理计划信息，该处理计划信息表示一个以上的处理单元中的、针对与多个基板组有关的多个连续处理的执行时机。液贮存部贮存处理液。获取部获取与处理液的状态有关的数值。设定部基于由获取部获取到的数值以及与处理液的寿命有关的规则，来设定液贮存部的处理液的更换时期。探测部在更换时期探测未通过一个以上的处理单元执行连续处理的待机状态。识别部基于处理计划信息来识别待机状态的持续时间。检测部检测持续时间为预先设定的基准时间以上的液可更换状态。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2018
‑
181881号公报

技术实现思路

[0006]专利技术要解决的问题
[0007]本公开的第一方式提供一种抑制由处理液的循环引起的微粒的增加的技术。另外，本公开的第二方式提供一种抑制由处理液的更换引起的微粒的增加的技术。
[0008]用于解决问题的方案
[0009]本公开的第一方式所涉及的基板处理装置具备罐、循环线路、分支线路、处理部、排出部、供给部以及控制部。所述罐用于贮存处理液。所述循环线路用于从所述罐取出所述处理液并使该处理液返回所述罐。所述分支线路从所述循环线路分支出来。所述处理部通过所述分支线路的前端向基板供给所述处理液。所述排出部使贮存于所述罐内的所述处理液的贮存量减少。所述供给部向所述罐供给新的所述处理液。所述控制部控制所述处理部、所述排出部以及所述供给部。所述控制部具有第一判定部、第一补充控制部、计算部以及第二补充控制部。所述第一判定部判定所述罐内的所述处理液的贮存量是否小于下限值。在所述第一判定部判定为所述贮存量小于所述下限值的情况下，所述第一补充控制部通过所述供给部向所述罐补充所述处理液。所述计算部计算每设定时间通过所述供给部向所述罐补充所述处理液的补充量。在通过所述计算部计算出的所述补充量的计算值小于设定值的情况下，所述第二补充控制部通过所述排出部使所述罐的所述贮存量减少，并通过所述供给部向所述罐补充所述处理液。
[0010]本公开的第二方式所涉及的基板处理装置具备罐、循环线路、泵、分支线路、处理部、排出部、供给部以及控制部。所述罐贮存处理液。所述循环线路用于从所述罐取出所述处理液并使该处理液返回所述罐。所述泵设置于所述循环线路。所述分支线路从所述循环
线路分支出来。所述处理部通过所述分支线路的前端向基板供给所述处理液。所述排出部使贮存于所述罐内的所述处理液的贮存量减少。所述供给部向所述罐供给新的所述处理液。所述控制部控制所述泵、所述处理部、所述排出部以及所述供给部。所述控制部具有第一液更换控制部。所述第一液更换控制部当接收到更换循环中的所述处理液的液更换指令时，在通过所述泵使所述处理液循环的状态下，实施通过所述排出部使所述罐的所述贮存量减少的处理以及通过所述供给部向所述罐供给所述处理液的处理。
[0011]专利技术的效果
[0012]根据本公开的第一方式，能够抑制由处理液的循环引起的微粒的增加。另外，根据本公开的第二方式，能够抑制由处理液的更换引起的微粒的增加。
附图说明
[0013]图1是示出一个实施方式所涉及的基板处理装置的图。
[0014]图2是示出处理部的一例的图。
[0015]图3是通过功能块示出控制部的结构要素的一例的图。
[0016]图4是示出基板处理部的处理的一例的流程图。
[0017]图5是示出第一判定部和第一补充控制部的处理的一例的流程图。
[0018]图6是示出附着于基板的微粒的数量、循环时间以及处理液的温度之间的关系的一例的图。
[0019]图7的(A)是示出循环开始时的处理液的一例的图，图7的(B)是示出自过滤器的溶出的一例的图，图7的(C)是示出溶出成分的通过的一例的图，图7的(D)是示出处理液的补充和排出的一例的图。
[0020]图8是示出计算部和第二补充控制部的处理的一例的流程图。
[0021]图9是示出图8的处理结果的一例的图。
[0022]图10是示出附着于基板的微粒的数量、循环时间以及补充量R之间的关系的一例的图。
[0023]图11是示出第二液更换控制部的处理的一例的流程图。
[0024]图12是示出第一液更换控制部的处理的一例的流程图。
[0025]图13是示出液更换次数与新液比例之间的关系的一例的图。
[0026]图14是示出在紧接液更换之后附着于基板的微粒的数量的一例的图。
[0027]图15是示出变形例所涉及的基板处理装置的图。
具体实施方式
[0028]下面，参照附图来说明本公开的实施方式。此外，在各附图中对于相同或对应的结构标注相同的附图标记，有时省略说明。
[0029]参照图1来说明本实施方式所涉及的基板处理装置1。基板处理装置1具备处理部10。处理部10通过向基板供给处理液来对基板进行处理。在本实施方式中，处理部10为逐张地处理基板的单片式。
[0030]此外，处理部10也可以是同时处理多张基板的批量式。批量式处理部10具有处理槽，基板被浸在贮存于处理槽的处理液中。在该情况下，基板W也可以以与铅垂地立起的状
态浸在处理液中。
[0031]如图2所示，单片式处理部10例如具有：处理容器11；保持部12，其将基板W水平地保持；旋转部13，其使保持部12以铅垂的旋转轴14为中心旋转；以及喷嘴16，其向保持于保持部12的基板W的上表面喷出液体。
[0032]处理容器11在内部收容基板W。处理容器11具有未图示的门以及用于对门进行开闭的未图示的闸阀。经由门将基板W搬入到处理容器11的内部，在处理容器11的内部利用处理液L对基板W进行处理，之后，经由门将基板W搬出到处理容器11的外部。
[0033]保持部12将被搬入到处理容器11的内部的基板W水平地保持。保持部12以使基板W的形成有多晶硅膜的表面朝上并使基板W的中心与旋转轴14的旋转中心线一致的方式将基板W水平地保持。在图2中，保持部12是机械卡盘，但也可以是真空卡盘或静电卡盘等。保持部12只要是能够旋转的旋转卡盘即可。
[0034]旋转部13例如包括铅垂的旋转轴14以及使旋转轴14旋转的旋转马达15。旋转马达15的旋转驱动力可以经由同步带或齿轮等传动机构传递到旋转轴14。当使旋转轴14旋转时，保持部12也旋转。
[0035]喷嘴16具有用于对保持于保持部12的基板W喷出处理液L的喷出口。喷嘴16例如以喷出口朝下的方式配置于基板W的上方，向基板W的中心部供给处理液L。处理液L被供给到旋转的基板W的中心部，通过离心力以润湿基板W的整个上表面的方式扩散，从本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置，具备：罐，其用于贮存处理液；循环线路，其用于从所述罐取出所述处理液并使该处理液返回所述罐；分支线路，其从所述循环线路分支出来；处理部，其通过所述分支线路的前端向基板供给所述处理液；排出部，其使贮存于所述罐内的所述处理液的贮存量减少；供给部，其向所述罐供给新的所述处理液；以及控制部，其控制所述处理部、所述排出部以及所述供给部，其中，所述控制部具有：第一判定部，其判定所述罐内的所述处理液的贮存量是否小于下限值；第一补充控制部，在所述第一判定部判定为所述贮存量小于所述下限值的情况下，所述第一补充控制部通过所述供给部向所述罐补充所述处理液；计算部，其计算每设定时间通过所述供给部向所述罐补充所述处理液的补充量；以及第二补充控制部，在通过所述计算部计算出的所述补充量的计算值小于设定值的情况下，所述第二补充控制部通过所述排出部使所述罐的所述贮存量减少，并通过所述供给部向所述罐补充所述处理液。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述供给部包括与所述罐连接的供给线路、以及测量通过所述供给线路的所述处理液的流量的流量计，所述计算部根据所述流量计的测量值来计算所述补充量。3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，所述计算部从外部的主计算机接收包含所述基板的处理时机的处理计划，根据所述处理计划和所述流量计的测量值来计算所述补充量。4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述计算部从外部的主计算机接收包含所述基板的处理时机的处理计划，根据所述处理计划来计算所述补充量。5.根据权利要求1～4中的任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述第二补充控制部在使所述罐的所述贮存量减少到小于所述下限值的情况下，禁止所述第一补充控制部的处理。6.根据权利要求1～4中的任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述第二补充控制部基于所述补充量的所述计算值与所述设定值之差，来决定要使所述罐的所述贮存量减少的量。7.根据权利要求1～4中的任一项所述的基板处理装置，其特征在于，在所述补充量的所述计算值为所述设定值以上的情况下，所述第二补充控制部既不通过所述排出部使所述罐的所述贮存量减少，也不通过所述供给部向所述罐补充所述处理液。8.根据权利要求1～4中的任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述排出部包括第一排出部和第二排出部中的至少一方，所述第一排出部包括与所述罐连接的第一排出线路、以及对所述第一排出线路进行开闭的第一开闭阀，所述第二排出部包括与所述循环线路连接的第二排出线路、以及对所述第二排出线路
进行开闭的第二开闭阀。9.一种基板处理装置，具备：罐，其用于贮存处理液；循环线路，其用于从所述罐取出所述处理液并使该处理液返回所述罐；泵，其设置于所述循环线路；分支线路，其从所述循环线路分支出来；处理部，其通过所述分支线路的前端向基板供给所述处理液；排出部，其使贮存于所述罐内的所述处理液的贮存量减少；供给部，其向所述罐供给新的所述处理液；以及控制部，其控制所述泵、所述处理部、所述排出部以及所述供给部，其中，所述控制部具有第一液更换控制部，该第一液更换...

【专利技术属性】
技术研发人员：小佐井一树，有动英明，藤本诚也，高永悠大，中庄谷孝仁，福井祥吾，穴本笃史，长田创，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：