一种高精度耐插拔的TYPE-C壳体拉拔工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种高精度耐插拔的TYPE

【技术实现步骤摘要】
一种高精度耐插拔的TYPE
‑
C壳体拉拔工艺


[0001]本专利技术涉及连接器制造
，具体涉及一种高精度耐插拔的TYPE
‑
C壳体拉拔工艺。

技术介绍

[0002]type
‑
C接口由于自身就有的特点，很容易产生接触不良，损坏率也较高。分析Type
‑
C接口接触不良的原因，除了产品质量以及设计不合理以外，壳体材料性能尤其是硬度不足，尺寸公差大是最主要的原因。接口壳体材料如果太软，接口使用过程中，会发生松弛而尺寸变大，进而产生接触不良；但如果壳体材料太硬，接口壳体在成型时回弹大，很难控制尺寸精度。另外，壳体材料太硬还会造成成型模具损伤。
[0003]市面上生产USB TYPE
‑
C壳体材料，因为要考虑成型性，一般选择塑性好的奥氏体不锈钢如316不锈钢，通过二次拉伸加工成型。在最后一道次空拉定型前要进行退火软化处理，来保证最后壳体的精度。由于奥氏体不锈钢无法通过热处理提高材料硬度，只能通过加工硬化的方式来提高。接口最后空拉定型变形量太小，厚度方向只有0.01mm的尺寸变化，加工硬化程度不够，造成了接口壳体材料硬度太低，后续使用时容易变形导致接触不良。如何平衡材料硬度与尺寸精度控制间的矛盾，是接口壳体制造时面临的难题。
[0004]曾有专利(申请号CN202220915179)提供一种耐插拔的Type
‑
C连接器，通过在上、下排端子之间较宽的位置处设置相应的加强片，可有效地保证舌板的整体强度，从而提升产品的质量，延长使用寿命。但这种解决方法改变了接口的结构，还增大了制造难度。

技术实现思路

[0005]本专利技术要解决上述技术问题并提供一种高精度耐插拔的TYPE
‑
C壳体拉拔工艺，能够在保持整体软性的同时提高表面硬度，解决了接口材料硬度与尺寸精度控制的矛盾。
[0006]为了解决上述技术问题，本专利技术提供了一种高精度耐插拔的TYPE
‑
C壳体拉拔工艺，包括以下步骤：
[0007]步骤1)对管材进行退火处理，使得管材软化；
[0008]步骤2)对处理后的管材进行拉拔变成过渡椭圆管；
[0009]步骤3)对过渡椭圆管进行多次拉拔得到扁圆管；
[0010]步骤4)对扁圆管再次退火处理，通过氨分解炉将液氨通过加热的触媒层经完全分解而得的氨分解气氛送入退火炉内，退火炉的温度设定为450
‑
550
°
，退火时间为4
‑
8小时，氨分解气氛中未分解氨的浓度设定为50
‑
100
×
10
‑6，退火结束后在扁圆管表面形成渗氮层，且厚度在1
‑
3μm；
[0011]步骤5)对具有渗氮层的扁圆管进行至少两道次的减壁拉拔成型，得到成品。
[0012]进一步的，在步骤4)中，所述退火炉的温度设定为500
°
。
[0013]进一步的，在步骤4)中，所述氨分解气氛中未分解氨的浓度设定为80
×
10
‑6。
[0014]进一步的，在步骤4)中，所述退火时间为7小时。
[0015]进一步的，在步骤4)中，将多根扁圆管安装至固定架内，通过固定架放置在退火炉内对扁圆管批量退火，相邻扁圆管之间设置有间隙。
[0016]进一步的，所述固定架包括平行设置的固定板和活动板，所述固定板上设置有两个滑动套管，所述活动板上设置有两个滑动杆，两个滑动套管与两个滑动杆两两配合且滑动杆一端伸入滑动套管内设置，所述滑动套管表面设置有锁紧螺钉，锁紧螺钉用于固定滑动套管与滑动杆之间的相对位置，所述固定板、活动板、滑动杆和滑动套管之间配合形成长方形框架结构，所述固定板和活动板相对的两个表面上均设置有卡槽。
[0017]进一步的，还包括摆放座，所述摆放座上设置有摆放垫块，所述摆放垫块上设置有用于摆放扁圆管的摆放凹槽，所述固定板和活动板设置在沿摆放凹槽长度方向的两侧上。
[0018]进一步的，所述摆放垫块的数量为2，分别为固定垫块和活动垫块，所述固定垫块固定安装在底板上，所述活动垫块通过滑动轨道设置在底板上，所述固定垫块位于远离活动垫块的一侧上设置有第一限位卡槽，所述活动垫块位于远离固定垫块的一侧上设置有第二限位卡槽，所述固定板和活动板分别设置在第一限位卡槽和第二限位卡槽内。
[0019]进一步的，所述第一限位卡槽内设置有定位孔，所述固定板底部设置有定位销，所述定位孔与定位销配合限定固定板的位置。
[0020]进一步的，所述固定板和活动板顶部设置有提拉把手。
[0021]本专利技术的有益效果：
[0022]本专利技术在扁管现存生产工艺的基础上，调整退火处理工艺，将原来单一功能的不锈钢软化退火调整为软化退火加薄层氮化，获得整体软化的基体加上硬化的表面，并且对整体工艺改动极小，操作简单，改造成本小，改进后的热处理不单有原来的软化效果，在不锈钢管外层有1
‑
3μm的氮化层，提高了材料硬度，使得接口更加耐磨，耐插拔性能提高，使用寿命延长，最主要是可以避免接触不良，而基体保持软的状态，基本不影响壳体管材的成型，可以很好地控制尺寸精度和表面光洁度。满足了接口材料硬度与尺寸精度控制的矛盾要求。
附图说明
[0023]图1是本专利技术的退火后的扁圆管截面结构示意图；
[0024]图2是本专利技术的固定架与固定座的配合结构示意图；
[0025]图3是本专利技术在固定座上摆放扁圆管的结构示意图；
[0026]图4是本专利技术在固定架配合固定座夹持扁圆管的结构示意图；
[0027]图5是本专利技术固定架夹持扁圆管后的整体结构示意图。
具体实施方式
[0028]下面结合附图和具体实施例对本专利技术作进一步说明，以使本领域的技术人员可以更好地理解本专利技术并能予以实施，但所举实施例不作为对本专利技术的限定。
[0029]本专利技术的高精度耐插拔的TYPE
‑
C壳体拉拔工艺的一实施例，本专利技术采用的技术方案是在不锈钢退火过程中，采用氨分解气氛退火，对氨分解气氛等分解程度进行控制，使得氨分解气氛中含有少量的残留氨进入退火炉中；具体的，氨分解气氛由H2和N2组成，在退火时氨分解气氛可对铬镍奥氏体不锈钢管材进行保护，使其达到良好的光亮、无氧化效果，氨
分解气氛是由液氨通过加热的触媒层经完全分解而得，液氨的分解程度取决于适宜的反应温度和催化剂，如果分解率低，氨分解气氛中往往含有少量的残留氨，这些残留氨若进入退火炉内则会引起热解而产生微量的原子氮，使金属发生氮化，导致不锈钢管材发脆报废。所以在不锈钢产品光亮退火时，均尽量提高氨分解率，并在氨分解后采取精制(净化)措施，以保证氨分解气氛的纯度，保证不锈钢管材品质，而本专利技术反其道而行之，降低氨分解气氛的纯度，使得少量残留氨进入退火炉内，热解而产生微量的原子氮，使管材表面发生氮化，另外，通过本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高精度耐插拔的TYPE
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C壳体拉拔工艺，其特征在于，包括以下步骤：步骤1)对管材进行退火处理，使得管材软化；步骤2)对处理后的管材进行拉拔变成过渡椭圆管；步骤3)对过渡椭圆管进行多次拉拔得到扁圆管；步骤4)对扁圆管再次退火处理，通过氨分解炉将液氨通过加热的触媒层经完全分解而得的氨分解气氛送入退火炉内，退火炉的温度设定为450
‑
550
°
，退火时间为4
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8小时，氨分解气氛中未分解氨的浓度设定为50
‑
100
×
10
‑6，退火结束后在扁圆管表面形成渗氮层，且厚度在1
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3μm；步骤5)对具有渗氮层的扁圆管进行至少两道次的减壁拉拔成型，得到成品。2.如权利要求1所述的高精度耐插拔的TYPE
‑
C壳体拉拔工艺，其特征在于，在步骤4)中，所述退火炉的温度设定为500
°
。3.如权利要求1所述的高精度耐插拔的TYPE
‑
C壳体拉拔工艺，其特征在于，在步骤4)中，所述氨分解气氛中未分解氨的浓度设定为80
×
10
‑6。4.如权利要求1所述的高精度耐插拔的TYPE
‑
C壳体拉拔工艺，其特征在于，在步骤4)中，所述退火时间为7小时。5.如权利要求1所述的高精度耐插拔的TYPE
‑
C壳体拉拔工艺，其特征在于，在步骤4)中，将多根扁圆管安装至固定架内，通过固定架放置在退火炉内对扁圆管批量退火，相邻...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘新宽，马黑沙，
申请(专利权)人：苏州鸿康未徕智能科技有限公司，
类型：发明
国别省市：