【技术实现步骤摘要】
成像透镜系统
[0001]本分案申请是基于申请号为202111311395.3，提交日为2021年11月08日，专利技术名称为“成像透镜系统及电子装置”的分案申请再次提出的分案，原申请的申请日为：2018年11月01日；申请号为：201811292488.4；专利技术名称为：成像透镜系统、取像装置及电子装置。
[0002]本专利技术关于一种成像透镜系统，特别是一种适用于电子装置的成像透镜系统。
技术介绍
[0003]随着半导体工艺技术更加精进，使得电子感光元件性能有所提升，像素可达到更微小的尺寸，因此，具备高成像品质的光学镜头俨然成为不可或缺的一环。
[0004]而随着科技日新月异，配备光学镜头的电子装置的应用范围更加广泛，对于光学镜头的要求也是更加多样化。由于往昔的光学镜头较不易在成像品质、敏感度、光圈大小、体积或视角等需求间取得平衡，故本专利技术提供了一种光学镜头以符合需求。
技术实现思路
[0005]本专利技术提供一种成像透镜系统。其中，成像透镜系统包括八片透镜。当满足特定条件时，本专利...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种成像透镜系统，其特征在于，该成像透镜系统包括八片透镜，该八片透镜由物侧至像侧依序为第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透镜、第六透镜、第七透镜以及第八透镜，该八片透镜分别具有朝向物侧方向的物侧表面与朝向像侧方向的像侧表面，该第一透镜具有正屈折力，该第二透镜具有负屈折力，该成像透镜系统中至少一片透镜的至少一表面具有至少一反曲点；其中，该成像透镜系统中的透镜总数为八片，该第八透镜的阿贝数为V8，该成像透镜系统中最大视角的一半为HFOV，该成像透镜系统的焦距为f，该成像透镜系统的入瞳孔径为EPD，该第一透镜物侧表面至一成像面于光轴上的距离为TL，其满足下列条件：8.0<V8<24.5；5.0度<HFOV<30.0度；0.80<f/EPD<2.20；以及0.50<TL/f<1.30。2.根据权利要求1所述的成像透镜系统，其特征在于，该第一透镜物侧表面于近光轴处为凸面，该第三透镜物侧表面于近光轴处为凸面，且该第三透镜像侧表面于近光轴处为凹面。3.根据权利要求1所述的成像透镜系统，其特征在于，该第七透镜像侧表面于近光轴处为凹面，该第七透镜像侧表面的一临界点与光轴的垂直距离为Yc72，该成像透镜系统的焦距为f，其满足下列条件：0.02<Yc72/f<0.70。4.根据权利要求1所述的成像透镜系统，其特征在于，该第八透镜的阿贝数为V8，其满足下列条件：8.0<V8<22.0。5.根据权利要求1所述的成像透镜系统，其特征在于，该第八透镜像侧表面至该成像面于光轴上的距离为BL，该第一透镜于光轴上的厚度为CT1，其满足下列条件：0<BL/CT1<0.95。6.根据权利要求1所述的成像透镜系统，其特征在于，该第一透镜物侧表面的最大有效半径为Y11，该成像透镜系统的最大成像高度为ImgH，该成像透镜系统的入瞳孔径为EPD，该成像透镜系统的焦距为f，该第五透镜的焦距为f5，其满足下列条件：
‑
0.27<(Y11
‑
ImgH)/EPD<0；以及
‑
0.25<f/f5<1.50。7.根据权利要求1所述的成像透镜系统，其特征在于，进一步包括一光圈，其中该成像透镜系统的焦距为f，该成像透镜系统的入瞳孔径为EPD，该光圈至该成像面于光轴上的距离为SL，该第一透镜物侧表面至该成像面于光轴上的距离为TL，其满足下列条件：1.0<f/EPD<2.0；以及0.50<SL/TL<0.95。8.根据权利要求1所述的成像透镜系统，其特征在于，该成像透镜系统的焦距为f，该成像透镜系统中最大视角的一半为HFOV，该成像透镜系统的入瞳孔径为EPD，其满足下列条件：0.20<f
×
tan(HFOV)/EPD<1.0。
9.根据权利要求1所述的成像透镜系统，其特征在于，该第一透镜物侧表面的最大有效半径为Y11，该第八透镜像侧表面的最大有效半径为Y82，该第八透镜像侧表面至该成像面于光轴上的距离为BL，该成像透镜系统的焦距为f，其满足下列条件：0<(|Y11
‑
Y82|+BL)/f<0.20...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄歆璇，
申请(专利权)人：大立光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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