图案原盘、模具的制造方法及基体的制造方法技术

本发明专利技术提供一种图案原盘、模具的制造方法及基体的制造方法，其中，该图案原盘在表面具有微细的凹凸图案，该基体在表面具备凹凸结构，该图案原盘具备基体和设置在基体的一个表面上的凹凸结构层，基体的至少一个表面由具有蚀刻停止功能的材料制成，基体暴露于凹凸结构层的凹部中的至少一部分凹部的底部，凹凸图案中，与一个表面垂直的方向上的、凹凸图案的各凹部的底点位置的偏差为20nm以下。凹部的底点位置的偏差为20nm以下。凹部的底点位置的偏差为20nm以下。

【技术实现步骤摘要】
图案原盘、模具的制造方法及基体的制造方法
[0001]本申请是申请日为2019年5月17日、专利技术名称为“图案原盘、图案原盘的制造方法、模具的制造方法及基体的制造方法”、申请号为201980035676.5(PCT/JP2019/019793)的中国专利技术专利申请的分案申请。


[0002]本专利技术涉及一种在表面具有微细的凹凸图案的图案原盘、图案原盘的制造方法、使用了图案原盘的模具的制造方法及在表面具有凹凸结构的基体的制造方法。

技术介绍

[0003]由玻璃、塑料制成的透镜及盖玻璃等透明基体中，为了减少由表面反射引起的透射光的损耗，有时在光入射面设置防反射结构或者防反射膜。例如，作为相对于可见光的防反射结构，已知一种比可见光的波长短的间距的微细凹凸结构、所谓的蛾眼结构。
[0004]作为形成蛾眼结构的方法，就处理量的观点而言，基于纳米压印法的图案转印技术备受瞩目(参考日本特开2015
‑
029118号公报(以下，专利文献1))。纳米压印为将具有凹凸图案的模具按压在涂布于被加工物上的抗蚀剂上，并使抗蚀剂机械变本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种图案原盘，其在表面具有微细的凹凸图案，该图案原盘具备基体和凹凸结构层，该凹凸结构层设置在该基体的一个面上、且包含沿着所述凹凸图案的多个凸部以及多个凹部，所述基体的至少所述一个面由具有蚀刻停止功能的材料制成，所述基体暴露于所述凹凸结构层的凹部中的至少一部分凹部的底部，在所述凹凸图案中，与所述一个面垂直的方向上的、所述凹凸图案的各凹部的底点位置的偏差为20nm以下，所述凹凸结构层为将硅作为主要成分的层，所述基体的所述一个面为将镍作为主要成分的层。2.根据权利要求1所述的图案原盘，其中，所述凹凸图案为平均周期为400nm以下且不均匀的凹凸。3.根据权利要求1或2所述的图案原盘，其中，在所述凹凸图案中，与所述一个面垂直的方向上的所述凹凸图案的各凸部的顶点的位置的偏差超过5nm。4.根据权利要求1所述的图案原盘，其中，在所述凹凸结构层与所述基体的界面区域形成有镍硅化物层。5.根据权利要求1所述的图案原盘，其中，所述凹凸结构层由多晶或者非晶硅制成。6.根据权利要求1或2所述的图案原盘，其中，所述基体由层叠体构成，该层叠体包含：第1层，其包含所述一个面；以及第2层，其由...

【专利技术属性】
技术研发人员：梅泽朋一，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：