【技术实现步骤摘要】
吡咯烷酮及其制备方法
[0001]本申请是2018年3月16日提交的专利技术名称为“吡咯烷酮及其制备方 法”的中国专利申请201880020249.5的分案申请。
[0002]本专利技术涉及某些吡咯烷酮、中间体以及它们的制备方法。
技术介绍
[0003]WO2015/084796和WO2016/196593公开了多种取代的环酰胺、将它 们用作除草剂的方法、以及它们的制备方法。WO2016/094117公开了某些 3
‑
氧代
‑3‑
(芳氨基)丙酸酯、它们的盐和组合物、它们的制备方法、以及它 们在制备可用作除草剂的某些吡咯烷酮方面的用途。
[0004]这些出版物中未公开本专利技术的吡咯烷酮以及它们的制备方法。
技术实现思路
[0005]本专利申请涉及式II的化合物及其盐。
[0006][0007]其中,
[0008]A1是CCF3,A2是CH,并且A3是CH;或者
[0009]A1是CH,A2是CCF3,并且A3是CH;或者
[0010]A1是N,A2是CCF3,并且A3是CH;或者
[0011]A1是CCH3,A2是N,并且A3是COCHF2;
[0012]R1是C1–
C4烷基;并且
[0013]R2是H或C1–
C4烷基。
[0014]本专利申请还涉及制备式II
‑
A的化合物的方法,
[0015][0016]其中,
[0017]A1是C ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种制备式II
‑
B的化合物的方法,其中,A1是CCF3,A2是CH,并且A3是CH;或者A1是CH,A2是CCF3,并且A3是CH;或者A1是N,A2是CCF3,并且A3是CH;或者A1是CCH3,A2是N,并且A3是COCHF2;R1是C1–
C4烷基;并且R2是C1–
C4烷基,所述方法包括利用还原剂使式IV的化合物还原,其中,A1是CCF3,A2是CH,并且A3是CH;或者A1是CH,A2是CCF3,并且A3是CH;或者A1是N,A2是CCF3,并且A3是CH;或者A1是CCH3,A2是N,并且A3是COCHF2;R1是C1–
C4烷基;每个R
3a
和R
3b
独立地为C1–
C4烷基;并且R4是取代或未取代的苄基。2.根据权利要求1所述的方法,其中,R1是甲基、乙基或丙基;并且R2是甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基或叔丁基,所述方法包括使式IV的化合物还原,其中,R1是甲基、乙基或丙基;每个R
3a
和R
3b
独立地为甲基或乙基;并且R4是未取代的苄基,其中,所述还原剂包括催化剂。3.一种制备式IV的化合物的方法,
其中,A1是CCF3,A2是CH,并且A3是CH;或者A1是CH,A2是CCF3,并且A3是CH;或者A1是N,A2是CCF3,并且A3是CH;或者A1是CCH3,A2是N,并且A3是COCHF2;R1是C1–
C4烷基;每个R
3a
和R
3b
独立地为C1–
C4烷基;并且R4是取代或未取代的苄基,所述方法包括使式V的化合物或其盐与丙二酸二(C1–
C4烷基)酯反应,其中,A1是CCF3,A2是CH,并且A3是CH;或者A1是CH,A2是CCF3,并且A3是CH;或者A1是N,A2是CCF3,并且A3是CH;或者A1是CCH3,A2是N,并且A3是COCHF2;R1是C1–
C4烷基;并且R4是取代或未取代的苄基。4.根据权利要求3所述的方法,其中,R1是甲基、乙基或丙基;每个R
3a
和R
3b
独立地为甲基、乙基或丙基;并且R4是未取代的苄基,所述方法包括使式V的化合物或其盐与丙二酸二(C1–
C4烷基)酯或其盐反应,在式V的化合物中,R1是甲基、乙基或丙基;并且R4是未取代的苄基,所述丙二酸二(C1–
C4烷基)酯或其盐选自:丙二酸二甲酯、丙二酸二乙酯、丙二酸二异丙酯或丙二酸二正丙酯,或它们的钠盐、锂盐或钾盐。5.一种制备式I的化合物的方法,
其中,A1是CCF3,A2是CH,并且A3是CH;或者A1是CH,A2是CCF3,并且A3是CH;或者A1是N,A2是CCF3,并且A3是CH;或者A1是CCH3,A2是N,并且A3是COCHF2;R1是C1–
C4烷基;B1是CF,B2是CH,并且B3是CH;或者B1是CF,B2是CF,并且B3是CH;或者B1是CF,B2是N,并且B3是CF,所述方法包括使式II
‑
A的化合物与式VI的化合物接触,所述式II
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A的化合物通过用于制备式II
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A的化合物的方法制备,该方法包括利用烷基化剂使式III的化合物烷基化,其中:在II
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A的化合物中,<...
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