【技术实现步骤摘要】
一种利用离子束加工X射线复合折射透镜的方法
[0001]本专利技术涉及X射线折射器件
,更具体地涉及一种利用离子束加工X射线复合折射透镜的方法。
技术介绍
[0002]X射线因波长极短,虽然有衍射、反射和折射这三种聚焦方式,但折射透镜材料难以满足使用要求,因此常用掠入射方式进行转折、准直、聚焦等功能。主要原因与X射线的折射性质有关,与可见光不同,X射线在大多数物质中的折射系数是一个复数:
[0003]n=1
‑
δ+iβ
[0004]n的绝对值无限接近但小于1,表示X射线在透镜中既有折射也有很强的吸收。其中,δ为位相延迟因子,与物质对X射线的折射作用有关,该系数决定了透镜对X射线的聚焦性能;β是X射线在物质中的衰减系数,决定了 X射线在物质中的衰减。δ和β两个系数是造成折射聚焦X射线难以实现的主要原因:δ值极小,典型数值在10
‑7‑
10
‑5之间,所以用折射方式聚焦的焦距长达几十、甚至几百米,没有实际应用价值。为解决δ很小的问题,有学者提出用多个曲面透镜累加以 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种利用离子束加工X射线复合折射透镜的方法,其特征在于,包括:步骤S1,根据所需的X射线复合折射透镜的厚度,选择若干基底,并根据所述基底的尺寸和透镜参数,制作出掩膜;步骤S2,将其中一份基底作为样品,在所述样品上标记出采样点,并测量出各采样点的第一表面面形;步骤S3,使用离子源轰击所述样品上标记的采样点,并测量轰击后的各采样点的第二表面面形;步骤S4,根据所述第一表面面形和所述第二表面面形,获取修形驻留时间;步骤S5,选取待加工基底,将待加工基底与所述掩膜紧密贴合,安装在样品台上,并利用电动平移台带动离子源在竖直方向移动以使离子源与所述待加工基底相距一预设距离;步骤S6,根据所述修形驻留时间,离子源经过离子束抛光机产生加工离子束,利用所述加工离子束对所述待加工基底上的不同位置进行轰击,获取一系列平凹单折射透镜;步骤S7,根据获取的一系列平凹单折射透镜,制作出最终的X射线复合折射透镜。2.根据权利要求1所述的利用离子束加工X射线复合折射透镜的方法,其特征在于,所述步骤S1中制作掩膜的步骤包括:选择和所述基底相同尺寸的薄膜材料,在所述薄膜材料上模压或压铸出若干与所需的平凹单折射透镜外尺寸相同的方形网格,每个方形网格的中心开设有与所述平凹单折射透镜开口尺寸相同的圆形通孔。3.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员:何玉梅,罗红心,田纳玺,
申请(专利权)人:中国科学院上海高等研究院,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。