【技术实现步骤摘要】
化合物锗酸铌铯双折射晶体及其制备方法和用途
[0001]本专利技术属于无机化学及光学晶体材料
，涉及一种锗酸铌铯双折射晶体及其制备方法和应用。
技术介绍
[0002]双折射是指当一束光波照射到晶体界面上时，通常会产生两束折射光的现象。能够产生双折射现象的晶体称为双折射晶体。由于双折射晶体材料各向异性，产生的两束折射光线的夹角大小与光波的偏振状态及传播方向有关。随着光学及通讯技术的迅猛发展，双折射晶体材料已然成为一种极为重要的光学元件，其广泛应用于光环形器、光隔离器、光束位移、偏振光学等领域。
[0003]常用的双折射材料主要有金红石(TiO2)、方解石(CaCO3)、MgF2、LiNbO3、YVO4晶体等。金红石晶体双折射最大，但硬度大导致加工器件难度较大。方解石晶体可用于可见光或紫外区域，但是其主要以天然形式存在，人工合成比较困难，尺寸比较小，无法满足大尺寸光学偏光元件的要求。MgF2的透过范围宽，能够达到深紫外波段，但是双折射率过小的弊端导致其应用受限。LiNbO3的晶体生长技术较为成熟，容易获得大尺寸单晶...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.化合物锗酸铌铯双折射晶体，其特征在于：该化合物的化学式为Cs3Nb5GeO
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，分子量1191.89，为正双轴晶体，属正交晶系，空间群Pmma，晶胞参数Z＝8。2.权利要求1所述的化合物锗酸铌铯双折射晶体的制备方法，其特征在于：所述锗酸铌铯双折射晶体采用固相反应法和助熔剂法制备得到，包括以下步骤：a、将含铯化合物、含铌化合物、含锗化合物混合采用固相反应法制得所述化合物锗酸铌铯，其中，含铯化合物中元素铯、含铌化合物中元素铌、含锗化合物中元素锗的摩尔比为3:5:1；b、所述化合物锗酸铌铯采用固相反应法获得，具体过程：将含铯化合物、含铌化合物、含锗化合物原料混合完全并研磨，在电阻炉中低温锻烧去除原料中的水分、气体，增温继续锻烧，期间多次取出进行研磨再次锻烧，冷却至室温，得到锗酸铌铯纯相；将任一所得的化合物锗酸铌铯单相多晶粉末或任一所得的化合物锗酸铌铯单相多晶粉末与助熔剂的混合物，升温化料获得均一的混合溶液；或直接将含铯化合物、含铌化合物和含锗化合物的混合物或含铯化合物、含铌化合物和含锗化合物与助熔剂的...
【专利技术属性】
技术研发人员：李从刚，赵文礼，胡章贵，吴以成，
申请(专利权)人：天津理工大学，
类型：发明
国别省市：
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