一种屏蔽外壳、陷波器以及磁共振设备制造技术

本实用新型专利技术涉及一种屏蔽外壳、陷波器以及磁共振设备，该屏蔽外壳为至少一端开口且内部形成屏蔽腔的筒型结构，屏蔽外壳沿筒型结构轴向和/或周向的侧壁上形成有供以切割屏蔽外壳以延长至少部分涡电流回路的至少一条分隔缝。该陷波器包括屏蔽外壳，屏蔽外壳两端开口。该磁共振设备包括陷波器。实施本实用新型专利技术实施例，具有如下有益效果：本实用新型专利技术提供的屏蔽外壳通过开设分隔缝，改变了内部形成的涡电流的回路形状，从而延长了涡电流的回路长度，降低了涡电流的大小；本实用新型专利技术提供的陷波器在进行屏蔽时利用分隔缝降低了屏蔽外壳内产生的涡电流大小；本实用新型专利技术提供的磁共振设备扫描时产生涡电流更小，生成的图像质量更高。生成的图像质量更高。生成的图像质量更高。

【技术实现步骤摘要】
一种屏蔽外壳、陷波器以及磁共振设备


[0001]本技术涉及磁共振设备
，尤其涉及一种屏蔽外壳、陷波器以及磁共振设备。

技术介绍

[0002]目前，磁共振的单元数原来越多，线圈单元内部的线缆走线越来越复杂。在磁共振扫描时，VTC(volume transmitting coil，体发射线圈)发射射频信号，局部线圈线缆上会产生较大的共模电流，为了抑制这种共模电流，需要在局部线圈的线缆上设计陷波器。而目前用的较多的陷波器如图1所示。
[0003]由于需要降低对局部B1场的影响，需要在此类陷波器外面有一个屏蔽外壳，屏蔽外壳是一片面积较大的导体，在扫描时，对于梯度磁场强度较大的序列，在屏蔽外壳上形成的涡电流会在扫描图像上产生伪影，影响图像质量，对于EPI序列的扫描图像尤其突出。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，有必要提供一种屏蔽外壳、陷波器以及磁共振设备，用以解决现有技术中陷波器的屏蔽外壳为一大片连续的导体，在扫描时蔽套筒上产生的涡电流较大，会产生较大的图像伪影，对磁共振设备的成像质量产生较大不利影响的技术问题。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种屏蔽外壳，其特征在于，所述屏蔽外壳（1）为至少一端开口且内部形成屏蔽腔的筒型结构，所述屏蔽外壳（1）沿筒型结构轴向和/或周向的侧壁上形成有供以切割所述屏蔽外壳（1）以延长至少部分涡电流回路的至少一条分隔缝（11）。2.根据权利要求1所述的屏蔽外壳，其特征在于，所述分隔缝（11）包括以下的至少一种：形成于所述屏蔽外壳（1）侧壁上的通孔、开设于所述屏蔽外壳（1）表面的槽体、形成于所述屏蔽外壳（1）侧壁内的腔体。3.根据权利要求1所述的屏蔽外壳，其特征在于，所述屏蔽外壳（1）形成有沿轴向的第一分隔缝（11A）以及沿周向的第二分隔缝（11B），所述第一分隔缝（11A）从所述第二分隔缝（11B）的两端之间穿过，并与所述第二分隔缝（11B）的两端分别形成两个第一连接区域（12A），所述第一分隔缝（11A）两端分别与所述屏蔽外壳（1）两端之间形成有第二连接区域（12B）。4.根据权利要求1所述的屏蔽外壳，其特征在于，所述分隔缝（11）为直线型缝，所述分隔缝（11）平行于所述屏蔽外壳（1）的轴向，所述分隔缝（11）两端分别与所述屏蔽外壳（1）两端之间形成有第三连接区域，所述分隔缝（11）沿轴向的长度大于所述第三连接区域沿轴向的长度；多条所述分隔缝（11）环绕所述屏蔽外壳（1）的周向分布，且相邻的两条所述分隔缝（11）距离相等。5.根据权利要求1所述的屏蔽外壳，其特征在于，所述分隔缝（11）为绕所述屏蔽外壳（1）的周向设置的C型缝，...

【专利技术属性】
技术研发人员：解海雨，
申请(专利权)人：深圳市联影高端医疗装备创新研究院，
类型：新型
国别省市：