【技术实现步骤摘要】
一种铋掺钇铁石榴石及其晶体生长方法以及应用
[0001]本专利技术涉及晶体
,具体涉及一种铋掺钇铁石榴石及其晶体生长方法以及应用。
技术介绍
[0002]中国专利CN202111359070.2公开了一种离子掺杂钆镓石榴石晶片的加工方法,包括以下步骤:步骤一、机械研磨:室温下,将GGG粗晶片放置在铸铁盘中,然后加入研磨液,进行机械研磨,得粗磨GGG晶片,控制研磨速度为60
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65r/min,研磨压力105
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108g/cm2,研磨时间为30
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40min,研磨液为氧化铝(粒径为4
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6μm)和去离子水超声振荡20
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30min获得,且氧化铝的浓度为0.05
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0.07g/mL;步骤二、机械抛光:采用IC1000抛光垫作为机械抛光用抛光垫,修整抛光垫,装载好粗磨GGG晶片,流入机械抛光液,然后在室温下进行机械抛光,得机械抛光后的GGG晶片,其中,抛光压力125g/cm2,抛光盘转速60r/min,抛光时间为20r/>‑
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【技术保护点】
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
1.一种铋掺钇铁石榴石晶体生长方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一:采用液相外延法制备铋掺钇铁石榴石(Bi:RIG)晶体;步骤二:按照摩尔比称量制备熔体的粉末状氧化物原料,并将氧化物原料混合搅拌均匀;步骤三:将搅拌混合均匀的氧化物原料添加到铂金制成的坩埚中,在1050℃下熔化至少12h得到熔体;步骤四:衬底GGG的清洗,将GGG衬底依次经过三氯乙烯(C2HCl 3
),去离子水漂洗;酸溶液,去离子水漂洗;碱溶液,去离子水清洗和氨水,去离子水漂洗,最后异丙醇蒸馏;步骤五:经清洗后洁净的GGG衬底,缓慢放入经过降温已处于过饱和亚稳定态的熔体中,通过控制衬底转速、生长温度和生长时间来实现晶体的生长。2.根据权利要求1所述的一种铋掺钇铁石榴石晶体生长方法,其特征在于,所述粉末状氧化物原料包括Gd2O3、Ga2O3、Fe2O3、Bi 2
O3的混合物。3.根据权利要求2所述的一种铋掺钇铁石榴石晶体生长方法,其特征在于,所述粉末状氧化物Gd2O3:Ga2O3:Fe2O3:Bi 2
O3的摩尔比具体数值为1:1:1.67:15。4.根据权利要求1所述的一种铋掺钇铁石榴石晶体生长方法,其特征在于,步骤三中对氧化物原料的添加时,粉末状氧化物的体积过大时,无法一次性加入坩埚中,添料需要经过添料
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熔化
技术研发人员:罗毅,龚瑞,刘照俊,王玉,
申请(专利权)人:安徽科瑞思创晶体材料有限责任公司,
类型:发明
国别省市:
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