一种用于光刻胶的烘干机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于光刻胶的烘干机，涉及光刻胶烘干技术领域，包括烘干箱，所述烘干箱的外部安装有电器盒，且电器盒的中部插接有电动推杆，所述烘干箱的内部两侧安装有活动板，且活动板的背面与电动推杆的伸缩端相连接，所述烘干箱的内侧中部顶端连通有散热通道，且散热通道的底部安装有散热扇，所述散热扇外部连接风琴式钢片。本实用新型专利技术中，设置有活动板、电动推杆、连接板、伸缩杆以及排风扇，通过启动电动推杆调节烘干箱内的两组活动板，方便根据光刻胶半导体的大小，调整烘干箱内的烘干空间，避免对较小的光刻胶半导体进行烘干时，过大的烘干空间预热速度较慢，进而影响烘干箱的烘干效果以及烘干箱的升温速度。干箱的烘干效果以及烘干箱的升温速度。干箱的烘干效果以及烘干箱的升温速度。

【技术实现步骤摘要】
一种用于光刻胶的烘干机


[0001]本技术涉及光刻胶烘干
，尤其涉及一种用于光刻胶的烘干机。

技术介绍

[0002]光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料，由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体，在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料，半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像，均胶和烘干是光刻工艺中的一道工序，为增加胶层与硅片表面粘附能力，提高在接触式曝光中胶层与掩模版接触时的耐磨性能及稳定胶层的感光灵敏度，通常采用烘箱或加热板等加热设备对光刻胶进行干燥。
[0003]现有的用于光刻胶的烘干机，在对小于烘干机内部的烘干空间的光刻胶半导体进行烘干时，因内部空间较大，导致烘干机内部升温耗时较长，难以随着光刻胶半导体的大小，调整烘干空间的大小，从而节省烘干时间。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是为了解决现有的用于光刻胶的烘干机，在对小于烘干机内部的烘干空间的光刻胶半导体进行烘干时，因内部空本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于光刻胶的烘干机，其特征在于，包括：烘干箱(1)，所述烘干箱(1)的外部安装有电器盒(2)，且电器盒(2)的中部插接有电动推杆(13)，所述烘干箱(1)的内部两侧安装有活动板(6)，且活动板(6)的背面与电动推杆(13)的伸缩端相连接，所述烘干箱(1)的内侧中部顶端连通有散热通道(4)，且散热通道(4)的底部安装有散热扇(3)，所述散热扇(3)外部连接风琴式钢片(5)，且风琴式钢片(5)的另一端与活动板(6)的内壁相连接；加热板(11)，所述加热板(11)安装在烘干箱(1)的内侧底部，且加热板(11)的上方设置有排风扇(12)，所述活动板(6)的内壁安装有固定板(10)，且固定板(10)的顶部设置有线性轨道(14)，所述线性轨道(14)的内部滑动连接有直线电机(15)，且直线电机(15)的顶部安装有连接板(9)，所述连接板(9)...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴瑞，
申请(专利权)人：北旭湖北电子材料有限公司，
类型：新型
国别省市：