【技术实现步骤摘要】
一种集成电路三极管生产用清洗装置
[0001]本技术涉及三极管
,尤其涉及一种集成电路三极管生产用清洗装置。
技术介绍
[0002]三极管,全称应为半导体三极管,也称双极型晶体管、晶体三极管,是一种控制电流的半导体器件。其作用是把微弱信号放大成幅度值较大的电信号,也用作无触点开关。
[0003]三级管在生产制造过程中表面均会附着有杂质、污垢等,影响三极管的洁净度和品质,需要对三极管进行清洗;但是现有的三极管生产用清洗设备在实际使用时,通常将多个三极管倒在清洗水槽内进行冲洗,多个三级管堆积在一起无法清理干净,同时要通过固定的喷头对三极管进行喷淋,使得三极管只有一侧面能够被冲洗到,对喷头相对的侧面清洗程度低,导致三级管的清洗效果差。
技术实现思路
[0004]基于现有的三极管清洗设备将三级管堆积在一起进行清洗,降低了清洗效果,同时清洗喷头固定,对喷头相对的侧面的清洗程度低,导致三级管的清洗效果差技术问题,本技术提出了一种集成电路三极管生产用清洗装置。
[0005]本技术提出的一种集成电路三极管生 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种集成电路三极管生产用清洗装置,包括清洗框体(1),其特征在于:所述清洗框体(1)的内部设置有固定装置,所述固定装置包括固定架(21),所述固定架(21)对需要清洗的三极管进行固定;所述清洗框体(1)的内壁设置有冲洗装置,所述冲洗装置包括偏转连接板(33)和高压喷管(32),所述偏转连接板(33)带动所述高压喷管(32)进行偏转对需要清洗的三极管进行冲洗工作。2.根据权利要求1所述的一种集成电路三极管生产用清洗装置,其特征在于:所述清洗框体(1)的内壁固定安装有清洗水槽(11),所述清洗框体(1)的内底壁固定安装有呈矩形阵列分布的超声波换能器(12),所述清洗水槽(11)的内底壁固定安装有排水管道(13),所述排水管道(13)的一端贯穿所述清洗框体(1)的外侧面。3.根据权利要求2所述的一种集成电路三极管生产用清洗装置,其特征在于:所述固定装置还包括限位架(2),所述限位架(2)的外表面与所述清洗水槽(11)的内壁,一个所述固定架(21)与所述限位架(2)的外表面固定安装,其余所述固定架(21)的两端分别与所述限位架(2)的两端滑动套接,所述固定架(21)的两端均固定安装有限位杆(22),所述限位杆(22)的一端滑动套接有活动架(23),多个所述限位杆(22)的一端均套接有复位弹簧(24),所述活动架(23)和所述固定架(21)的外表面均固定粘接有硅...
【专利技术属性】
技术研发人员:谢崇洪,谢清晨,
申请(专利权)人:嘉兴日可电子有限公司,
类型:新型
国别省市:
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