数字成像中调整曝光的方法和系统及对应装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及数字成像中用于调整曝光的一种方法，其中，会结合成像调整摄像装置的一个或多个曝光参数。在所述方法中，分析由原始图像帧（１２）形成的柱状图，从柱状图指定一个或多个特殊值（Ｒ↓［ｈｉｇｈ］、Ｒ↓［ｌｏｗ］），并且将这些值与为它们设定的目标级（Ｈ↓［ｔｇｔ］，Ｌ↓［ｔｇｔ］）进行比较；如果特殊值（Ｒ↓［ｈｉｇｈ］、Ｒ↓［ｌｏｗ］）与目标级（Ｈ↓［ｔｇｔ］，Ｌ↓［ｔｇｔ］）不同，则调整曝光参数以实现目标级（Ｈ↓［ｔｇｔ］，Ｌ↓［ｔｇｔ］）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种在数字成像中用于调整曝光的方法，其特征在于，结合成像调整摄像装置的一个或多个曝光参数（ＥＴ、ＡＧ），并且在所述方法中（ｉ）从摄像传感器（１３）捕获对应于曝光参数（ＥＴ、ＡＧ）的原始图像帧（１２）；（ｉｉ）由所述原始图像帧形成柱状图；（ｉｉｉ）从所述柱状图指定至少一个特征值，例如，以规定方式指定的平均值（Ｍ）；（ｉｖ）比较所述特征值（Ｍ）和为其设定的目标级；（ｖ）如果所述特征值（Ｍ）与根据设定标准为其设定的所述目标级不同，则调整所述曝光参数（ＥＴ、ＡＧ）以便达到所述目标级和／或（ｖｉ）返回阶段（ｉ）；其特征在于，在所述方法中，在阶段（ｉｉｉ），除所述可能指定的平均值（Ｍ）外，以规定方式指定的一个或多个特殊值（Ｒ↓［ｈｉｇｈ］、Ｒ↓［ｌｏｗ］）从所述柱状图指定为所述特征值，并且还以规定方式为这些特殊值指定目标级（Ｈ↓［ｔｇｔ］，Ｌ↓［ｔｇｔ］）；其中，对于至少一个特征值（Ｒ↓［ｈｉｇｈ］、Ｒ↓［ｌｏｗ］），还指定偏移（ＯＦＦ３、ＯＦＦ３′），借助该偏移以进行校正，以引导所述特征值（Ｒ↓［ｈｉｇｈ］、Ｒ↓［ｌｏｗ］），使之导向为其设定的目标级（Ｈ↓［ｔｇｔ］，Ｌ↓［ｔｇｔ］）的；并且由于所述引导，一个或多个所述其它特征值（Ｍ）导向为其设定的目标级（［Ｍ↓［ｍｉｎ］、Ｍ↓［ｍａｘ］］）；并且随后基于所述特征值（Ｒ↓［ｈｉｇｈ］、Ｒ↓［ｌｏｗ］）和为这些特殊值指定的所述偏移（ＯＦＦ３、ＯＦＦ３′），调整所述曝光参数（ＥＴ、ＡＧ）。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：J尼卡宁，O卡莱沃，
申请(专利权)人：诺基亚有限公司，
类型：发明
国别省市：FI[芬兰]