一种硅块清洗旋转烘干装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种硅块清洗旋转烘干装置，包括支撑架，所述支撑架上方设有壳体，所述壳体内上端设有隔板，所述隔板上设有多个矩阵排布的单向喷头，所述壳体一侧下端设有电机，所述电机旋转轴贯穿壳体与清洗组件传动连接，所述清洗组件包括端板，两个所述端板之间设有金属网，所述金属网内侧设有多个矩阵排布的挡板，靠近所述电机一侧的端板内侧设有连接块，所述连接块靠近电机一侧设有定位槽，远离所述电机一侧的端板中部设有通孔，所述电机旋转轴上设有与定位槽相匹配的定位块。该种烘干装置结构简单，操作方便，清洗效果好，烘干速度快，有效的降低了人力物力，提高了硅块的加工效率。效率。效率。

【技术实现步骤摘要】
一种硅块清洗旋转烘干装置


[0001]本技术涉及硅上生产设备
，具体为一种硅块清洗旋转烘干装置。

技术介绍

[0002]多晶硅是太阳能光伏行业的基础材料。多晶硅属于高纯产品，在破碎的过程中会因工装器具以及空气、人员的接触而使得硅块表面附着有金属杂质，从而被金属杂质污染，导致多晶硅表面金属含量超标，进而导致多晶硅产品生产出的下游产品质量不合格，影响企业的经营效益。此外，在破碎的过程中还会因硅块间摩擦而导致硅块表面残留硅粉，影响多晶硅的外观质量，不利于产品的销售，传统的清洗效率低，且耗费大量的人力，而所达到的效果却并不理想。为此，我们提出了一种硅块清洗旋转烘干装置。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种硅块清洗旋转烘干装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0004]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种硅块清洗旋转烘干装置，包括支撑架，所述支撑架上方设有壳体，所述壳体内上端设有隔板，所述隔板上设有多个矩阵排布的单向喷头，所述壳体一侧下端设有电机，所述电机旋转轴贯穿壳体与清洗组件传动连接，所述清洗组件包括端板，所述端板设有两个，两个所述端板之间设有金属网，所述金属网内侧设有多个矩阵排布的挡板，靠近所述电机一侧的端板内侧设有连接块，所述连接块靠近电机一侧设有定位槽，远离所述电机一侧的端板中部设有通孔，所述电机旋转轴上设有与定位槽相匹配的定位块。
[0005]优选的，所述壳体内位于隔板上方设有电热管，所述壳体顶部设有多个等距排布的进气窗，所述进气窗内设有过滤网，所述过滤网下方设有风机。
[0006]优选的，所述壳体上方一侧设有进水管，所述进水管下端延伸至隔板下方，所述进水管上端设有第一阀门。
[0007]优选的，所述壳体下方设有出水管，所述出水管上设有第二阀门。
[0008]优选的，所述壳体远离电机一侧下端设有盖体。
[0009]与现有技术相比，本技术的有益效果是：该种硅块清洗旋转烘干装置，电机可带动清洗组件进行转动，在清洗组件转动时，挡板的设置使得硅块在进行清洗时，可在清洗组件内部滚动，从而增加硅块与清洗液的接触面积，进而提高对硅块的清洗效果，风机可使气流通过进气窗进入到壳体内部，气流经过电热管，电热管对气流进行加热，同时加热后的气流可通过单向喷头进入到清洗组件内部，从而使热气流对清洗后的硅块进行烘干。该种烘干装置结构简单，操作方便，清洗效果好，烘干速度快，有效的降低了人力物力，提高了硅块的加工效率。
附图说明
[0010]图1为本技术的结构示意图；
[0011]图2为本技术的剖视图；
[0012]图3为本技术的A部分结构示意图；
[0013]图中：1支撑架、2壳体、3隔板、4单向气阀、5电机、6清洗组件、61端板、62金属网、63挡板、64连接块、65定位槽、7进气窗、8过滤网、9风机、10电热管、11进水管、12第一阀门、13出水管、14第二阀门、15定位块、16盖体。
具体实施方式
[0014]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0015]请参阅图1
‑
3，本技术提供一种技术方案：一种硅块清洗旋转烘干装置，包括支撑架1，所述支撑架1上方设有壳体2，所述壳体2内上端设有隔板3，所述隔板3上设有多个矩阵排布的单向喷头4，所述壳体2一侧下端设有电机5，所述电机5旋转轴贯穿壳体2与清洗组件6传动连接，电机5在进行工作时，电机5可带动清洗组件6进行转动，从而达到对清洗组件6内部的硅块进行清洗的目的，所述清洗组件6包括端板61，所述端板61设有两个，两个所述端板61之间设有金属网62，所述金属网62内侧设有多个矩阵排布的挡板63，靠近所述电机5一侧的端板内侧设有连接块64，所述连接块64靠近电机5一侧设有定位槽65，远离所述电机5一侧的端板中部设有通孔，所述电机5旋转轴上设有与定位槽65相匹配的定位块15，挡板63的设置使得硅块在进行清洗时，可以在清洗组件6内部滚动，从而增加硅块与清洗液的接触面积，进而提高对硅块的清洗效果，定位块15插接在定位槽65内部，通过定位块15与定位槽65之间的相互配合，使得电机5在进行转动时，可以带动清洗组件6进行转动。
[0016]所述壳体2内位于隔板3上方设有电热管10，所述壳体2顶部设有多个等距排布的进气窗7，所述进气窗7内设有过滤网8，所述过滤网8下方设有风机9，风机9在进行工作时，风机9可使气流通过进气窗7进入到壳体2内部，气流经过电热管10，电热管10对气流进行加热，同时加热后的气流可通过单向喷头4进入到清洗组件6内部，从而使热气流对清洗后的硅块进行烘干，过滤网8的设置可以避免空气中的固体杂质进入到壳体内部。
[0017]所述壳体2上方一侧设有进水管11，所述进水管11下端延伸至隔板3下方，所述进水管11上端设有第一阀门12，通过进水管11可向隔板3下方注入清洗用的水，第一阀门12可对进水管11的通断进行控制。
[0018]所述壳体2下方设有出水管13，所述出水管13上设有第二阀门14，出水管13可将清洗后的污水排出，第二阀门14可对出水管13的通断进行控制。
[0019]所述壳体2远离电机5一侧下端设有盖体16，通过盖体16可将硅块进行取放。
[0020]具体的，在本技术中，在对硅块进行清洗时，首先，打开盖体16，将待清洗的硅块放入到清洗组件6内部，通过进水管11注入清洗用的水，启动电机5，通过定位块15与定位槽65之间的相互配合，电机5可带动清洗组件6进行转动，在清洗组件6转动时，挡板63的设置使得硅块在进行清洗时，可在清洗组件6内部滚动，从而增加硅块与清洗液的接触面积，
进而提高对硅块的清洗效果，在硅块清洗完成之后，通过出水管13将污水排出，之后，启动风机9与电热管10，风机9可使气流通过进气窗7进入到壳体2内部，气流经过电热管10，电热管10对气流进行加热，同时加热后的气流可通过单向喷头4进入到清洗组件6内部，从而使热气流对清洗后的硅块进行烘干。
[0021]尽管已经示出和描述了本技术的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本技术的范围由所附权利要求及其等同物限定。
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种硅块清洗旋转烘干装置，包括支撑架(1)，其特征在于：所述支撑架(1)上方设有壳体(2)，所述壳体(2)内上端设有隔板(3)，所述隔板(3)上设有多个矩阵排布的单向喷头(4)，所述壳体(2)一侧下端设有电机(5)，所述电机(5)旋转轴贯穿壳体(2)与清洗组件(6)传动连接，所述清洗组件(6)包括端板(61)，所述端板(61)设有两个，两个所述端板(61)之间设有金属网(62)，所述金属网(62)内侧设有多个矩阵排布的挡板(63)，靠近所述电机(5)一侧的端板内侧设有连接块(64)，所述连接块(64)靠近电机(5)一侧设有定位槽(65)，远离所述电机(5)一侧的端板中部设有通孔，所述电机(5)旋转轴上设有与定位槽(65)相匹配的定位块(15)。2.根据权利要求1所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：张欢，
申请(专利权)人：上海涛鑫电子设备有限公司，
类型：新型
国别省市：