掩模装置的制造装置、记录介质、掩模装置的制造方法以及掩模装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供掩模装置的制造装置、记录介质、掩模装置的制造方法以及掩模装置。掩模装置可以具备：框架，其包含隔着开口在第1方向上对置的第1边和第2边、以及隔着开口在与第1方向交叉的第2方向上对置的第3边和第4边；和掩模，其包含固定于第1边和第2边的端部。制造装置可以具备：按压机构，其在朝向开口的方向上按压第1边和第2边；位移测量机构，其对第1边和第2边在第1方向上的变形量进行测量；以及固定装置，其将掩模固定于第1边和第2边。按压机构可以包含：按压第1边的5个以上的按压装置，它们沿着第2方向隔开500mm以下的间隔排列；和按压第2边的5个以上的按压装置，它们沿着第2方向隔开500mm以下的间隔排列。向隔开500mm以下的间隔排列。向隔开500mm以下的间隔排列。

【技术实现步骤摘要】
掩模装置的制造装置、记录介质、掩模装置的制造方法以及掩模装置


[0001]本公开的实施方式涉及掩模装置的制造装置、记录介质、掩模装置的制造方法以及掩模装置。

技术介绍

[0002]有机EL显示装置等有机器件受到关注。作为形成有机器件的元件的方法，已知有通过蒸镀使构成元件的材料附着于基板的方法。例如，首先，准备以与元件对应的图案形成有第1电极的基板。接着，使用掩模装置实施蒸镀工序。掩模装置具备包含贯通孔的掩模和支承掩模的框架。通过了掩模的贯通孔的有机材料附着在第1电极上，由此在第1电极上形成有机层。
[0003]框架包含固定有掩模的端部的第1边和第2边。第1边和第2边夹着开口在第1方向上对置。框架以在第1方向上对掩模施加了张力的状态支承掩模。由此，能够抑制掩模产生挠曲。
[0004]专利文献1：国际公开2019/049600号
[0005]在朝向开口的方向上使框架的第1边及第2边变形的状态下将掩模固定于第1边及第2边的情况下，基于第1边及第2边弹性地复原的力对掩模施加张力。为了精密地调整对掩模的张力，要求精密地调整第1边和第2边的变形量。
[0006]作为降低有机器件的制造成本的手段之一，可以考虑基板的大型化。若基板大型化，则掩模也会大型化，框架也会大型化。若框架大型化，则第1边和第2边的变形量的调整的难度变高。

技术实现思路

[0007]在本公开的一个实施方式的掩模装置的制造装置中，也可以是，所述掩模装置可以具备：框架，其包含隔着开口在第1方向上对置的第1边和第2边、以及隔着所述开口在与所述第1方向交叉的第2方向上对置的第3边和第4边；和掩模，其包含固定于第1边和第2边的端部。所述制造装置可以具备：按压机构，其在朝向所述开口的方向上按压所述第1边和所述第2边；位移测量机构，其对所述第1边和所述第2边在所述第1方向上的变形量进行测量；以及固定装置，其将所述掩模固定于所述第1边和所述第2边。所述按压机构可以包含：按压所述第1边的5个以上的按压装置，它们沿着所述第2方向隔开500mm以下的间隔排列；和按压所述第2边的5个以上的按压装置，它们沿着所述第2方向隔开500mm以下的间隔排列。
[0008]根据本公开的实施方式，能够恰当地调整框架的第1边和第2边的变形量。
附图说明
[0009]图1是示出有机器件的一例的剖视图。
[0010]图2是示出有机器件组的一例的俯视图。
[0011]图3是示出蒸镀装置的一例的剖视图。
[0012]图4是示出掩模装置的一例的俯视图。
[0013]图5是放大示出框架的第1边的俯视图。
[0014]图6是示出掩模装置的一例的俯视图。
[0015]图7是示出掩模的一例的俯视图。
[0016]图8是示出掩模的一例的剖视图。
[0017]图9是示出掩模装置的制造装置的一例的框图。
[0018]图10是示出制造装置的一例的俯视图。
[0019]图11是示出按压装置及位移计的一例的俯视图。
[0020]图12是示出掩模装置的制造方法的一例的流程图。
[0021]图13是示出调整工序和配置工序的一例的流程图。
[0022]图14是示出第1调整工序的一例的俯视图。
[0023]图15是示出第1配置工序的一例的俯视图。
[0024]图16是示出第1配置工序的一例的俯视图。
[0025]图17是示出第2掩模安装工序的一例的俯视图。
[0026]图18是示出第3掩模安装工序～第8掩模安装工序的一例的俯视图。
[0027]图19是示出第9掩模安装工序及第10掩模安装工序的一例的俯视图。
[0028]图20是示出释放工序的一例的俯视图。
[0029]图21是示出第11按压装置的按压力的一例的曲线图。
[0030]图22是示出第12按压装置的按压力的一例的曲线图。
[0031]图23是示出第1中央按压装置的按压力的一例的曲线图。
[0032]图24是示出掩模装置的分解方法的一例的流程图。
[0033]图25是示出去除工序和反向调整工序的一例的流程图。
[0034]图26是示出第1去除工序的一例的俯视图。
[0035]图27是示出第2去除工序的一例的俯视图。
[0036]图28是示出第3去除工序～第8去除工序的一例的俯视图。
[0037]图29是示出第9去除工序和第10去除工序的一例的俯视图。
[0038]图30是示出第11按压装置的按压力的一例的曲线图。
[0039]图31是示出第12按压装置的按压力的一例的曲线图。
[0040]图32是示出第1中央按压装置的按压力的一例的曲线图。
[0041]图33是示出掩模装置的一例的俯视图。
[0042]图34是示出制造装置的一例的俯视图。
[0043]图35是示出制造装置的一例的俯视图。
[0044]图36是示出制造装置的一例的俯视图。
[0045]图37是示出例1中的第11按压力、第12按压力、第21按压力、第22按压力以及第1中央按压力的曲线图。
[0046]图38是示出例2中的第11按压力、第21按压力以及第1中央按压力的曲线图。
[0047]图39是示出例1～例3中的框架的变形量与目标变形量之差的曲线图。
[0048]图40是示出第5实施方式的第1掩模安装工序的一例的俯视图。
[0049]图41是示出第5实施方式的第1掩模安装工序的一例的俯视图。
[0050]图42是示出第5实施方式的第2掩模安装工序的一例的俯视图。
[0051]图43是示出第5实施方式的第3掩模安装工序～第8掩模安装工序的一例的俯视图。
[0052]图44是示出第5实施方式的第9掩模安装工序及第10掩模安装工序的一例的俯视图。
[0053]图45是示出第5实施方式的第21按压装置的按压力的一例的曲线图。
[0054]图46是示出第5实施方式的第22按压装置的按压力的一例的曲线图。
[0055]图47是示出第5实施方式的第2中央按压装置的按压力的一例的曲线图。
[0056]图48是示出第5实施方式的第1去除工序的一例的俯视图。
[0057]图49是示出第5实施方式的第2去除工序的一例的俯视图。
[0058]图50是示出第5实施方式的第21按压装置的按压力的一例的曲线图。
[0059]图51是示出第5实施方式的第22按压装置的按压力的一例的曲线图。
[0060]图52是示出第5实施方式的第2中央按压装置的按压力的一例的曲线图。
[0061]图53是示出例4中的第11按压力、第12按压力、第21按压力、第22按压力以及第1中央按压力的曲线图。
[0062]图54是示出例5中的第11按压力、第12按压力、第21按压力、第22按压力以及第1中央按压力的曲线图本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩模装置的制造装置，其特征在于，所述掩模装置具备：框架，其包含隔着开口在第1方向上对置的第1边和第2边、以及隔着所述开口在与所述第1方向交叉的第2方向上对置的第3边和第4边；和掩模，其包含固定于第1边和第2边的端部，所述制造装置具备：按压机构，其在朝向所述开口的方向上按压所述第1边和所述第2边；位移测量机构，其对所述第1边和所述第2边在所述第1方向上的变形量进行测量；以及固定装置，其将所述掩模固定于所述第1边和所述第2边，所述按压机构包含：按压所述第1边的5个以上的按压装置，它们沿着所述第2方向隔开500mm以下的间隔排列；和按压所述第2边的5个以上的按压装置，它们沿着所述第2方向隔开500mm以下的间隔排列。2.根据权利要求1所述的掩模装置的制造装置，其特征在于，所述位移测量机构包含测量所述第1边的所述变形量的至少1个位移计，所述位移计包含与所述第1边接触的传感器头。3.根据权利要求2所述的掩模装置的制造装置，其特征在于，所述位移计在所述第2方向上在距所述按压装置100mm以下的位置处测量所述第1边的所述变形量。4.根据权利要求2或3所述的掩模装置的制造装置，其特征在于，所述位移测量机构包含：在所述第2方向上在距所述按压装置100mm以下的位置处测量所述第1边的所述变形量的5个以上的所述位移计；第1辅助位移计，其在所述第2方向上在距所述第3边的外侧面200mm以下的位置处测量所述第1边的所述变形量；以及第2辅助位移计，其在所述第2方向上在距所述第4边的外侧面200mm以下的位置处测量所述第1边的所述变形量。5.根据权利要求4所述的掩模装置的制造装置，其特征在于，所述第1辅助位移计与所述第2辅助位移计之间在所述第2方向上的距离为1300mm以上。6.根据权利要求1所述的掩模装置的制造装置，其特征在于，按压所述第1边的所述按压装置与按压所述第2边的所述按压装置之间在所述第1方向上的距离为1300mm以上。7.根据权利要求1所述的掩模装置的制造装置，其特征在于，所述掩模装置具备沿着第2方向排列的N张所述掩模，其中，N为2以上的整数，所述制造装置具备控制所述按压机构的控制装置，所述按压机构以各掩模被固定于所述第1边时的所述变形量与目标变形量之差处于第1阈值以下的方式按压所述第1边和所述第2边。8.根据权利要求7所述的掩模装置的制造装置，其特征在于，所述固定装置将所述掩模按照在所述第2方向上距所述框架的中心从远到近的顺序固定于所述第1边和所述第2边，按压所述第1边的所述按压机构具备：中央组，其包含1个或2个所述按压装置；第1组，其在所述第2方向上位于所述中央组与所述第3边之间，且包含2个以上的所述按压装置；以
及第2组，其在所述第2方向上位于所述中央组与所述第4边之间，且包含2个以上的所述按压装置，所述中央组的所述按压装置在将第1张所述掩模固定于所述框架时对所述第1边施加第1按压力(1)，所述中央组的所述按压装置在将第U张所述掩模固定于所述框架时对所述第1边施加第1按压力(U)，其中，U为大于1且小于N的整数，所述第1按压力(U)与所述第1按压力(1)的比率为1.05以上。9.根据权利要求7所述的掩模装置的制造装置，其特征在于，所述固定装置将所述掩模按照在所述第2方向上距所述框架的中心从近到远的顺序固定于所述第1边和所述第2边，按压所述第1边的所述按压机构具备：中央组，其包含1个或2个所述按压装置；第1组，其在所述第2方向上位于所述中央组与所述第3边之间，且包含2个以上的所述按压装置；以及第2组，其在所述第2方向上位于所述中央组与所述第4边之间，且包含2个以上的所述按压装置，属于所述第2组且最接近所述第4边的所述按压装置在将第1张所述掩模固定于所述框架时对所述第1边施加第1按压力(1)，属于所述第2组且最接近所述第4边的所述按压装置在将第U张所述掩模固定于所述框架时对所述第1边施加第1按压力(U)，其中，U为大于1且小于N的整数，所述第1按压力(U)与所述第1按压力(1)的比率为1.05以上。10.根据权利要求8或9所述的掩模装置的制造装置，其特征在于，所述控制装置控制所述按压机构以使下述式子成立，U≧N/2。11.一种记录介质，其特征在于，所述记录介质是计算机能够读取的非暂时性的记录介质，所述记录介质记录有用于使计算机作为权利要求7所述的所述制造装置的所述控制装置发挥功能的程序。12.一种掩模装置的制造方法，其特征在于，所述掩模装置的制造方法具备：准备框架的工序，该框架包含隔着开口在第1方向上对置的第1边和第2边、以及隔着所述开口在与所述第1方向交叉的第2方向上对置的第3边和第4边；调整工序，调整按压机构在朝向所述开口的方向上对所述第1边和所述第2边施加的第1按压力；以及固定工序，将掩模的端部固定于第1边和第2边，所述按压机构包含：按压所述第1边的5个以上的按压装置，它们沿着所述第2方向隔开500mm以下的间隔排列；和按压所述第2边的5个以上的按压装置，它们沿着所述第2方向隔开500mm以下的间隔排列。13.根据权利要求12所述的掩模装置的制造方法，其特征在于，在所述调整工序中，基于来自位移测量机构的信息来调整所述第1按压力，其中，所述位移测量机构测量所述第1边和所述第2边在所述第1方向上的变形量，所述位移测量机构包含测量所述第1边的所述变形量的至少1个位移计，
所述位移计包含与所述第1边接触的传感器头。14.根据权利要求13所述的掩模装置的制造方法，其特征在于，所述位移计在所述第2方向上在距所述按压装置100mm以下的位置处测量所述第1边的所述变形量。15.根据权利要求13或14所述的掩模装置的制造方法，其特征在于，所述位移测量机构包含：在所述第2方向上在距...

【专利技术属性】
技术研发人员：冈本英介，
申请(专利权)人：大日本印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：