一种新型的磁分离清洗装置制造方法及图纸

技术编号:35977256 阅读:16 留言:0更新日期:2022-12-17 22:46
本发明专利技术提供的一种新型的磁分离清洗装置,包括第二转盘,第二转盘上设有取放工位,以及至少一个小清洗流程,取放工位与小清洗流程构成循环,取放工位用于放入或取下反应杯,反应杯能经过小清洗流程进行清洗,清洗完的反应杯能回到取放工位上,小清洗流程包括吸废液工位和清洗工位,同一个小清洗流程内的吸废液工位位于清洗工位的前侧,或者,同一个小清洗流程内的清洗工位位于吸废液工位的前侧。本发明专利技术通过调整工位的数量、位置,以及对应的磁分离位置、数量以及磁分离的时间,达到装置在t时间内完成2个或2个以上的反应杯的清洗,或是2种或2种以上的反应杯的清洗,同时仅利用一个磁分离清洗装置,减少了空间占用率。减少了空间占用率。减少了空间占用率。

【技术实现步骤摘要】
一种新型的磁分离清洗装置


[0001]本专利技术涉及医疗器械
,尤其涉及一种新型的磁分离清洗装置。

技术介绍

[0002]传统的磁分离清洗装置,固定周期时间t秒内完成一个清洗动作,即t秒仅能完成一个反应杯的清洗,如果需要在t秒完成两个甚至以上的反应杯的清洗,利用传统的磁分离清洗装置就不能实现。
[0003]另外,在实际操作中,根据反应杯的用途不同(不同的病人的不同检测项目),反应杯的清洗次数也不同,例如一些肺癌患者使用过的反应杯清洗一次即可清洗干净,而一些带有传染病的患者,他们使用过的反应杯则需要清洗两次甚至三次。按照行业内的清洗标准,在完成一次大清洗后,如果该反应杯是需要二次清洗的,那么就要将反应杯移至某一位置放置一段时间,例如移至孵育盘内放置10分钟,当放置时间到时,需要再将反应杯移回到磁分离清洗装置内进行继续的清洗,再次完成清洗后,即完成整个二次清洗的步骤。需要注意的是,在反应杯移至孵育盘内放置的这一段时间间隙,磁分离清洗装置并不是停止工作的,由于磁分离清洗装置是通用的,因此在这个时间间隙,磁分离清洗装置可以对其他的反应杯进行清洗,而传统的磁分离清洗装置由于其在工作过程中,其设备上并没有空位,当孵育盘内反应杯静置完成后,没有位置去给它摆放,或是要等待t秒才能将孵育盘内反应杯换到取放工位上,这存在等待过程,可能造成清洗不符合标准,因此现有技术中,对于这类需要进行二次清洗、三次清洗的反应杯,通常会选择放置到另外一台磁分离清洗装置上进行清洗,这就造成了室内装置的成本显著提高,且两台设备所占空间也比较大,造成室内空间的拥挤。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种新型的磁分离清洗装置,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为实现上述目的本专利技术所采用的技术方案是一种新型的磁分离清洗装置,包括第二转盘,第二转盘上设有取放工位,以及至少一个小清洗流程,取放工位与小清洗流程构成循环,取放工位用于放入或取下反应杯,反应杯能经过小清洗流程进行清洗,清洗完的反应杯能回到取放工位上。
[0006]进一步地,小清洗流程包括吸废液工位和清洗工位,同一个小清洗流程内的吸废液工位位于清洗工位的前侧,或者,同一个小清洗流程内的清洗工位位于吸废液工位的前侧,磁分离清洗装置上所有的小清洗流程内的清洗工位与吸废液工位的顺序相同。
[0007]进一步地,当小清洗流程内的吸废液工位位于清洗工位前侧时,第二转盘上的最后一个小清洗流程后侧设有一个吸废液工位。相对来说,此处的吸废液工位相对于小清洗流程中与清洗工位成对出现的吸废液工位,它是单独出现的,因此也可以认为第二转盘上的最后一个小清洗流程后侧设有一个额外的吸废液工位。
[0008]进一步地,当小清洗流程内的吸废液工位位于清洗工位后侧时,第二转盘上的第一个小清洗流程前侧设有一个吸废液工位。相对来说,此处的吸废液工位相对于小清洗流程中与清洗工位成对出现的吸废液工位,它是单独出现的,因此也可以认为第二转盘上的第一个小清洗流程前侧设有一个额外的吸废液工位。
[0009]进一步地,吸废液工位设有废液针,吸废液工位的废液针用于吸废液;清洗工位设有注液针,清洗工位的注液针能用于注入清洗液。
[0010]进一步地,还包括磁铁,磁铁用于磁分离,磁铁能单独设在一个工位上,和/或设于取放工位上、和/或设于吸废液工位上、和/或设于清洗工位上。
[0011]进一步地,吸废液工位设有磁铁。
[0012]进一步地,第二转盘上设有第一新增工位,第一新增工位设在小清洗流程内,第一新增工位设于吸废液工位的前一工位位置,或者第一新增工位设于吸废液工位的后一工位位置。
[0013]进一步地,第一新增工位的数量与吸废液工位的数量相同,或是第一新增工位的数量是吸废液工位的数量数倍。
[0014]进一步地,第一新增工位的数量与清洗工位的数量相同,或是第一新增工位的数量是清洗工位的数量数倍。
[0015]进一步地,第一新增工位的数量与吸废液工位与清洗工位构成的对数相同,或是第一新增工位的数量是吸废液工位与清洗工位构成的对数的数倍。
[0016]进一步地,第一新增工位的数量与吸废液工位与清洗工位构成的(对数+)1相同,或是第一新增工位的数量是吸废液工位与清洗工位构成的(对数+1)的数倍。
[0017]进一步地,第二转盘上设有第二新增工位,第二新增工位设在小清洗流程内,第二新增工位设于吸废液工位的前一工位位置,或者第二新增工位设于吸废液工位的后一工位位置。
[0018]进一步地,第二新增工位的数量与吸废液工位的数量相同,或是第二新增工位的数量是吸废液工位的数量数倍。
[0019]进一步地,第二新增工位的数量与清洗工位的数量相同,或是第二新增工位的数量是清洗工位的数量数倍。
[0020]进一步地,第二新增工位的数量与吸废液工位与清洗工位构成的对数相同,或是第二新增工位的数量是吸废液工位与清洗工位构成的对数的数倍。
[0021]进一步地,第二新增工位的数量与吸废液工位与清洗工位构成的(对数+)1相同,或是第二新增工位的数量是吸废液工位与清洗工位构成的(对数+1)的数倍。
[0022]进一步地,当第一新增工位设置于吸废液工位的前一工位位置时,第一新增工位设置的数量与吸废液工位的数量相同,第一新增工位内设有磁铁,第二转盘上设有第二新增工位,第二新增工位设在小清洗流程内,第二新增工位的数量与清洗工位的数量相同,第二新增工位位于清洗工位的后一工位位置。
[0023]进一步地,第二转盘上还设有第三新增工位,第三新增工位为功能工位,第三新增工位不设置于小清洗流程内,第三新增工位设置于所有小清洗流程之前,或是相邻的小清洗流程之间,或是最后一个小清洗流程之后。
[0024]进一步地,第三新增工位位于最后一个小清洗流程的后一工位位置,第三新增工
位内设置一个注液针,注液针能用于添加特定试剂。
[0025]一种新型的磁分离清洗装置,第二转盘上设有三个小清洗流程,小清洗流程包括吸废液工位和清洗工位,同一个小清洗流程内的清洗工位位于吸废液工位前侧,第一个小清洗流程与取放工位之间设有一个吸废液工位;
[0026]其中,四个吸废液工位的前一个工位位置设有第一新增工位,第一新增工位内设有磁铁,三个清洗工位的后一工位位置设有第二新增工位,第二新增工位为留空工位,最后一个吸废液工位的后一工位位置设有功能工位。
[0027]综上,本专利技术的有益效果是:
[0028]本专利技术提供一种新型的磁分离清洗装置,通过调整工位的数量、位置,以及对应的磁分离位置、数量以及磁分离的时间,达到装置在t时间内完成2个或2个以上的反应杯的清洗,或是2种或2种以上的反应杯的清洗,同时仅利用一个磁分离清洗装置,减少了空间占用率。
附图说明
[0029]为了更清楚的说明本专利技术实实施例中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一种本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种新型的磁分离清洗装置,其特征在于,包括第二转盘,第二转盘上设有取放工位,以及至少一个小清洗流程,取放工位与小清洗流程构成循环,取放工位用于放入或取下反应杯,反应杯能经过小清洗流程进行清洗,清洗完的反应杯能回到取放工位上。2.根据权利要求1所述的一种新型的磁分离清洗装置,其特征在于,小清洗流程包括吸废液工位和清洗工位,同一个小清洗流程内的吸废液工位位于清洗工位的前侧,或者,同一个小清洗流程内的清洗工位位于吸废液工位的前侧,磁分离清洗装置上所有的小清洗流程内的清洗工位与吸废液工位的顺序相同。3.根据权利要求2所述的一种新型的磁分离清洗装置,其特征在于,当小清洗流程内的吸废液工位位于清洗工位前侧时,第二转盘上的最后一个小清洗流程后侧设有一个吸废液工位。4.根据权利要求2所述的一种新型的磁分离清洗装置,其特征在于,当小清洗流程内的吸废液工位位于清洗工位后侧时,第二转盘上的第一个小清洗流程前侧设有一个吸废液工位。5.根据权利要求2所述的一种新型的磁分离清洗装置,其特征在于,吸废液工位设有废液针,吸废液工位的废液针用于吸废液;清洗工位设有注液针,清洗工位的注液针能用于注入清洗液。6.根据权利要求2所述的一种新型的磁分离清洗装置,其特征在于,还包括磁铁,磁铁用于磁分离,磁铁能单独设在一个工位上,和/或设于取放工位上、和/或设于吸废液工位上、和/或设于清洗工位上。7.根据权利要求6所述的一种新型的磁分离清洗装置,其特征在于,吸废液工位设有磁铁。8.根据权利要求2所述的一种新型的磁分离清洗装置,其特征在于,第二转盘上设有第一新增工位,第一新增工位设在小清洗流程内,第一新增工位设于吸废液工位的前一工位位置,或者第一新增工位设于吸废液工位的后一工位位置。9.根据权利要求8所述的一种新型的磁分离清洗装置,其特征在于,第一新增工位的数量与吸废液工位的数量相同,或是第一新增工位的数量是吸废液工位的数量数倍。10.根据权利要求8所述的一种新型的磁分离清洗装置,其特征在于,第一新增工位的数量与清洗工位的数量相同,或是第一新增工位的数量是清洗工位的数量数倍。11.根据权利要求8所述的一种新型的磁分离清洗装置,其特征在于,第一新增工位的数量与吸废液工位与清洗工位构成的对数相同,或是第一新增工位的数量是吸废液工位与清洗工位构成的对数的数倍。12.根据权利要求8所述的一种新型的磁分离清洗装置,其特征在于,第一新增工位的数量与吸废液工位与清洗工位构成的(对数+)1相同,或是第一新增工位的数量是吸废液...

【专利技术属性】
技术研发人员:方剑秋吴刚杨健雄钟春梅
申请(专利权)人:杭州深度生物科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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