偏光膜的制造方法及偏光膜技术

本申请涉及偏光膜的制造方法及偏光膜。偏光膜的制造方法具有下述工序：准备工序，准备在基材层的至少一面侧具有包含二色性色素的偏光层的层叠膜；保护层层叠工序，通过在层叠膜的偏光层上层叠具有用于被覆偏光层的被覆区域和用于使偏光层露出的露出区域的保护层，从而得到带有保护层的层叠膜；溶解液接触工序，通过使带有保护层的层叠膜与能将偏光层溶解的溶解液接触，从而得到具有将偏光层的一部分区域除去而形成的图案化偏光层的带有图案化偏光层的膜；和剥离工序，将保护层从带有图案化偏光层的膜剥离。案化偏光层的膜剥离。案化偏光层的膜剥离。

【技术实现步骤摘要】
偏光膜的制造方法及偏光膜
[0001]本申请是申请日为2018年10月16日、专利技术名称为“偏光膜的制造方法及偏光膜”的中国专利技术专利申请No.201880069705.5(PCT申请号为PCT/JP2018/038524)的分案申请。


[0002]本专利技术涉及偏光膜的制造方法及偏光膜，尤其涉及具有包含液晶化合物和二色性色素的层的偏光膜的制造方法及偏光膜。

技术介绍

[0003]使用了有机发光二极管(OLED)的有机EL显示装置与液晶显示装置等相比，不仅可实现轻量化、薄型化，而且能实现宽广的视野角、快速的响应速度、高对比度等高画质，因此，已被应用于智能手机、电视机、数码相机等各种领域中。对于有机EL显示装置而言，为了抑制因外界光线的反射而导致的视觉辨认性的下降，使用圆偏光板等提高防反射性能是已知的。
[0004]作为可用于这样的圆偏光板的偏光膜，日本特开2015
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206852号公报(专利文献1)及日本特开2015
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212823号公报(专利文献2)中，记载了在基材上层叠经图案化的液晶固本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.偏光膜的制造方法，其具有下述工序：准备工序，准备在基材层的至少一面侧具有包含液晶化合物及偶氮色素的偏光层的层叠膜；保护层层叠工序，通过在所述层叠膜的所述偏光层上层叠具有用于被覆所述偏光层的被覆区域和用于使所述偏光层露出的露出区域的保护层，从而得到带有保护层的层叠膜；溶解液接触工序，通过使所述带有保护层的层叠膜与能将所述偏光层溶解的溶解液接触，从而得到具有将所述偏光层的一部分区域除去而形成的图案化偏光层的带有图案化偏光层的膜；和剥离工序，将所述保护层从所述带有图案化偏光层的膜剥离，其中，所述准备工序具有下述工序：取向层形成工序，在所述基材层的一面侧涂布取向层形成用组合物，从而形成取向层；和偏光层形成工序，在所述基材层的形成了所述取向层的这侧的面上，涂布包含液晶化合物及偶氮色素的偏光层形成用组合物，从而形成所述偏光层，所述图案化偏光层具有偏光区域和低偏光区域，所述偏光区域包含所述液晶化合物及所述偶氮色素，所述低偏光区域具有低于偏光区域的可见度校正偏光度，所述偏光区域的厚度为0.5μm以上，所述低偏光区域的厚度小于0.5μm。2.如权利要求1所述的偏光膜的制造方法，其中，所述取向层形成用组合物包含光取向性聚合物，所述取向层形成工序中，对涂布所述取向层形成用组合物而形成的取向层用涂布层进行偏振光照射，从而形成所述取向层。3.如权利要求1或2所述的偏光膜的制造方法，其中，所述偏光层为聚合性液晶化合物进行了取向的层，所述偏光层形成工序中，对涂布所述偏光层形成用组合物而形成的偏光层用涂布层进行活性能量射线照射，从而形成所述偏光层。4.如权利要求1～3中任一项所述的偏光膜的制造方法，其中，所述偏光层在X射线衍射测定中显示出布拉格峰。5.如权利要求1～4中任一项所述的偏光膜的制造方法，其中，所述露出区域的俯视形状为圆形、椭圆形、长圆形或多边形，所述露出区域为圆形的情况下的直径为5cm以下，所述露出区域为椭圆形或长圆形...

【专利技术属性】
技术研发人员：幡中伸行，村野耕太，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：