一种基于体光栅的窄带滤波元件及其制备方法技术

本发明专利技术公开一种基于体光栅的窄带滤波元件及其制备方法，其中，方法包括步骤：根据设定的滤波参数及窄带滤波元件的折射率计算窄带滤波元件的介质内入射角和出射角以及光栅倾斜角和光栅周期；将窄带滤波元件的介质内入射角和出射角、光栅倾斜角、光栅周期以及滤光的中心波长、带宽、滤波效率代入到窄带滤波元件的滤波效率公式中，确定光栅的厚度及折射率调制度；计算光栅写入时的介质外曝光角度；对光热折变玻璃进行曝光和热显影处理，再经过精抛光和减反膜镀制制得窄带滤波元件。本发明专利技术制备的窄带滤波元件能够实现带宽小于等于0.1nm以下的光谱分离，反射效率可达到99％以上。反射效率可达到99％以上。反射效率可达到99％以上。

【技术实现步骤摘要】
一种基于体光栅的窄带滤波元件及其制备方法


[0001]本专利技术涉及光学元件制造
，特别涉及一种基于体光栅的窄带滤波元件及其制备方法。

技术介绍

[0002]窄带滤光片被广泛应用于光学系统中，所谓窄带滤光片是从带通滤光片中细分出来的，其定义与带通滤光相同，也就是这种滤光片在特定的波段允许光信号通过，而偏离这个波段以外的两侧光信号被阻止，窄带滤光片的带通相对来说比较窄。现有的窄带滤光片一般采用多层膜的方法实现，目前最窄的带宽在0.2nm，中心波长为354.72nm，但随着波长的增加采用该技术路线实现的带宽会越来越宽，制备更加窄带的滤光片难度极大。
[0003]因此，现有技术还有待于改进和发展。

技术实现思路

[0004]鉴于上述现有技术的不足，本专利技术的目的在于提供一种基于体光栅的窄带滤波元件及其制备方法，旨在解决现有技术缺少能够实现带宽为0.1nm以下的窄带滤波元件的问题。
[0005]本专利技术的技术方案如下：
[0006]一种基于体光栅的窄带滤波元件的制备方法，其中，包括步骤：
[00本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于体光栅的窄带滤波元件的制备方法，其特征在于，包括步骤：根据设定的滤波参数及窄带滤波元件的折射率计算窄带滤波元件的介质内入射角和出射角，所述滤波参数包括滤光的中心波长、带宽、滤波效率、窄带滤波元件的介质外入射角和出射角；根据矢量圆方法，基于窄带滤波元件的介质内入射角和出射角计算得到窄带滤波元件的光栅倾斜角和光栅周期；将所述窄带滤波元件的介质内入射角和出射角、光栅倾斜角、光栅周期以及滤光的中心波长、带宽、滤波效率代入到窄带滤波元件的滤波效率公式中，确定光栅的厚度及折射率调制度；根据光热折变玻璃的折射率、窄带滤波元件介质内入射角和出射角、光栅倾斜角、曝光波长、光栅周期计算得到光栅写入时的介质外曝光角度；基于所述介质外曝光角度，采用紫外干涉场对光热折变玻璃进行曝光处理，将干涉条纹写入所述光热折变玻璃中，形成光栅条纹潜像；对经过曝光处理的光热折变玻璃进行热显影处理，最后将光热折变玻璃的通光面精抛光后镀制针对使用波长的减反膜，制得所述基于体光栅的窄带滤波元件。2.根据权利要求1所述基于体光栅的窄带滤波元件的制备方法，其特征在于，根据设定的滤波参数及窄带滤波元件的折射率计算窄带滤波元件的介质内入射角和出射角公式分别为：和其中，θ
i
,θ
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分别为滤波元件的介质外入射角和出射角，θ
i
',θ
o
'分别为窄带滤波元件的介质内入射角和出射角，n1为窄带滤波元件在使用...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡红雷，晋帅，宋学智，嵇舒豪，
申请(专利权)人：杭州拓致光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：