【技术实现步骤摘要】
一种用于复杂结构及型面天线辐射单元的激光测量系统
[0001]本专利技术属于光学测量领域,尤其涉及一种用于复杂结构及型面天线辐射单元的激光测量系统。
技术介绍
[0002]天线辐射单元作为整个雷达系统的关键技术,对于整个雷达系统实现高分辨率探测起到不可或缺的作用。随着雷达探测精度的提升,其天线辐射单元尺寸随之减小、结构趋于复杂,对制造过程的精度要求也越来越高。因此,为获得高精度的成品,准确测量该类零件的尺寸便显得十分重要。
[0003]目前较常用的尺寸测量方法有高度尺、二次元测量仪以及三坐标测量仪,该类制件非单片结构,整体结构较复杂、尺寸精度要求高、存在复杂面型的特点使得这三类测量方法在应用时都有所限制。该类天线辐射单元复杂的表面面型如曲面、台阶孔使其无法通过传统方式测量,如在使用传统高度尺进行测量时,制件若有悬空部位且刚度不高,高度尺测量针头碰到翅片会使翅片晃动,从而导致测量尺寸产生较大偏差;
[0004]二次元长度测量仪是建立在二维测量基础上的一种拍照式测量仪器,无法做三维测量,因此可测量的部位、测量精度 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于复杂结构及型面天线辐射单元的激光测量系统,其特征在于:包括同轴设置的光源、起偏器、偏振分光棱镜、1/4波片、扫描振镜、透镜、测量基准面以及分别与信号处理系统电连接的第一雪崩光电二极管和第二雪崩光电二极管;所述光源发出非线偏振激光,垂直入射起偏器形成准线偏振光,准线偏振光垂直入射偏振分光棱镜;所述偏振分光棱镜的反射光垂直入射所述第二雪崩光电二极管,所述第二雪崩光电二极管向信号处理系统发送输入信号;所述偏振分光棱镜的透射光垂直入射所述1/4波片,其偏振态由准线偏振光转化为圆偏振光,所述1/4波片的透射光入射至所述扫描振镜,所述扫描振镜的反射光通过所述透镜入射至待测天线及基准面;回波光垂直透射过所述透镜,入射至所述扫描振镜,经扫描振镜反射后入射至所述1/4波片,其偏...
【专利技术属性】
技术研发人员:贾雪,王伟,陈旭,陆洋,
申请(专利权)人:中国电子科技集团公司第十四研究所,
类型:发明
国别省市:
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