氧化槽及氧化设备制造技术

本申请公开了一种氧化槽。该氧化槽包括至少一串杆、第一侧壁、第一阴极件和第一遮挡件；至少一串杆用于穿设工件；第一阴极件设置于第一侧壁上；第一遮挡件设于氧化槽内，且用于遮挡第一阴极件的第一部分，并露出第一阴极件的第二部分，在氧化槽的深度方向上，第二部分具有第一高度，其中，第一阴极件设置于第一侧壁和第一遮挡件之间，至少一串杆上所有工件在深度方向具有第二高度，第二高度覆盖第一高度。通过使用该氧化槽对工件进行镀膜，降低了工件之间氧化膜厚度的差异，提高了工件膜厚的一致性。本申请同时公开了一种包括该氧化槽的氧化设备。设备。设备。

【技术实现步骤摘要】
氧化槽及氧化设备


[0001]本申请涉及表面处理
，具体涉及一种氧化槽及包含该氧化槽的氧化设备。

技术介绍

[0002]在工业生产中，通常需要对一些工件进行镀膜处理，从而增加工件的防护性和装饰性。镀膜过程中，需要经常将多个工件放置在同一个氧化槽中以同时进行镀膜。
[0003]然而，虽然多个工件在同一个氧化槽中同时进行镀膜，但由于每个工件在氧化槽中所处的位置不同，导致工件表面的氧化膜厚度也不尽相同，从而造成了质量不良。

技术实现思路

[0004]鉴于以上内容，有必要提出一种氧化槽及包含该氧化槽的氧化设备，以使多个工件在同一个氧化槽中同时进行镀膜时，以降低不同工件表面氧化膜厚度的差异，提高工件生产质量。
[0005]本申请实施例提供一种氧化槽，用于容置至少一工件并使所述工件氧化，所述氧化槽包括至少一串杆、第一侧壁、第一阴极件和第一遮挡件；至少一所述串杆用于穿设所述工件；所述第一阴极件设置于所述第一侧壁上；所述第一遮挡件设于所述氧化槽内，且用于遮挡所述第一阴极件的第一部分，并露出所述第一阴极件的第二部分，在所述氧化槽的深度方向上，所述第二部分具有第一高度，其中，所述第一阴极件设置于所述第一侧壁和所述第一遮挡件之间，至少一所述串杆上所有所述工件在所述深度方向具有第二高度，所述第二高度覆盖所述第一高度。
[0006]在一些实施例中，所述第一遮挡件上开设有开口，所述第二部分为所述开口处露出的所述第一阴极件的部分，所述第一部分为所述遮挡件覆盖所述第一阴极件的部分，所述第一部分环绕所述第二部分设置。
[0007]在一些实施例中，所述第一阴极件包括多个石墨件，所述多个石墨件沿着所述第一侧壁的表面依次排布，且相邻两个所述石墨件相互接触。
[0008]在一些实施例中，所述第二部分在所述第一侧壁上的投影面积与所述工件在所述第一侧壁上的投影面积的比值大于二分之一。
[0009]在一些实施例中，所述第一阴极件的有效面积至少正比于所述工件的面积和所述工件的氧化膜厚度中的一个，其中，所述有效面积为所述第二部分的表面积。
[0010]在一些实施例中，所述第一阴极件的有效面积还至少反比于氧化电流和所述工件的氧化时间中的一个，其中，所述氧化电流为所述第一阴极件和所述工件之间形成通路时的电流值，所述氧化时间为所述工件在所述氧化槽中发生氧化还原反应的时间。
[0011]在一些实施例中，所述氧化槽还包括第二侧壁、第二阴极件和第二遮挡件；所述第二侧壁与所述第一侧壁相对设置；所述第二阴极件设置于所述第二侧壁上且面向所述第一阴极件；所述第二遮挡件设置于所述氧化槽内，所述第二遮挡件用于遮挡所述第二阴极件
的第三部分，并露出所述第二阴极件的第四部分，其中，所述第二阴极件设置于所述第二侧壁和所述第二遮挡件之间，所述工件在所述氧化槽内的位置使得所有所述工件在所述第二侧壁上的投影所围成的区域覆盖所述第四部分。
[0012]在一些实施例中，所述串杆设置于所述氧化槽内，所述串杆的长度尺寸大于所述第一高度。
[0013]在一些实施例中，所述氧化槽还包括槽底，所述槽底开设有进气口，所述进气口用于连接气管，以使所述气管向所述氧化槽内通气并使溶液混合均匀。
[0014]本申请实施例同时提供一种氧化设备，包括如上所述氧化槽。
[0015]上述氧化槽及包含该氧化槽的氧化设备，氧化槽通过用第一遮挡件对第一阴极件的第一部分进行遮挡并露出第二部分，由于第一遮挡件对第一部分进行遮挡，第一部分产生的电力线场被屏蔽，从而减少了多余的电力线场对工件的影响，使得氧化槽中氧化反应中的电力线分布发生改变，电力线分布变得更加均匀，因此，工件上镀膜厚度的差异得到改善。通过使用该氧化槽对工件进行镀膜，提高了工件膜厚的一致性，进而提高了工件生产质量。
附图说明
[0016]图1是本申请一些实施例提供的氧化槽的立体结构示意图。
[0017]图2是一些实施例提供的氧化槽的另一角度立体结构示意图。
[0018]图3是图2所示的氧化槽沿III
‑
III的剖面示意图。
[0019]主要元件符号说明
[0020]氧化槽
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100
[0021]第一侧壁
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10
[0022]第一阴极件
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20
[0023]第一部分
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21
[0024]第二部分
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22
[0025]第一遮挡件
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30
[0026]开口
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31
[0027]支撑杆
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40
[0028]串杆
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50
[0029]第二侧壁
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60
[0030]第二阴极件
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70
[0031]第三部分
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[0032]第四部分
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72
[0033]第二遮挡件
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80
[0034]方孔
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81
[0035]槽底
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90
[0036]进气口
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91
[0037]工件
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200
具体实施方式
[0038]下面详细描述本申请的实施方式，所述实施方式的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施方式是示例性的，仅用于解释本申请，而不能理解为对本申请的限制。
[0039]在本申请的描述中，需要理本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种氧化槽，用于容置至少一工件并使所述工件氧化，其特征在于，所述氧化槽包括：至少一串杆，用于穿设所述工件；第一侧壁；第一阴极件，设置于所述第一侧壁上；第一遮挡件，设于所述氧化槽内，且遮挡所述第一阴极件的第一部分，并露出所述第一阴极件的第二部分，在所述氧化槽的深度方向上，所述第二部分具有第一高度，其中，所述第一阴极件设置于所述第一侧壁和所述第一遮挡件之间，至少一所述串杆上所有所述工件在所述深度方向具有第二高度，所述第二高度覆盖所述第一高度。2.如权利要求1所述的氧化槽，其特征在于，所述第一遮挡件上开设有开口，所述第二部分为所述开口处露出的所述第一阴极件的部分，所述第一部分为所述第一遮挡件覆盖所述第一阴极件的部分，所述第一部分环绕所述第二部分设置。3.如权利要求1所述的氧化槽，其特征在于，所述第一阴极件包括多个石墨件，所述多个石墨件沿着所述第一侧壁的表面依次排布，且相邻两个所述石墨件相互接触。4.如权利要求1所述的氧化槽，其特征在于，所述第二部分在所述第一侧壁上的投影面积与所述工件在所述第一侧壁上的投影面积的比值大于二分之一。5.如权利要求1所述的氧化槽，其特征在于，所述第一阴极件的有效面积至少正比于所述工件的面积和所述工件的氧化膜厚度中的一个，其中，所述有效面...

【专利技术属性】
技术研发人员：李诚，张晋胜，赵鹏，王永吉，孙建，
申请(专利权)人：富联科技山西有限公司，
类型：新型
国别省市：