本申请实施例提供了一种电致发光显示面板及显示装置。该电致发光显示面板包括：衬底基板；电致发光器件，位于衬底基板的一侧，包括阴极层；阴极层包括与亚像素对应的显示区和至少部分环绕显示区的非显示区，其中，至少两个相邻亚像素对应的显示区与位于至少两个相邻亚像素对应的显示区之间的非显示区形成显示单元区；辅助阴极结构，与阴极层远离衬底基板的一侧接触，且辅助阴极结构在衬底基板的正投影与阴极层环绕显示单元区的非显示区在衬底基板的正投影至少部分交叠。本申请实施例实现了增加局部阴极的厚度，有效降低阴极电阻，降低电致发光器件不同位置可能出现亮度差异的幅度；还能有效减少对光线的阻挡，有利于扩大可视角度。可视角度。可视角度。
【技术实现步骤摘要】
电致发光显示面板及显示装置
[0001]本申请涉及显示
，具体而言，本申请涉及一种电致发光显示面板及显示装置。
技术介绍
[0002]目前电致发光显示器件在显示行业中的地位越来越重要，特别是OLED(Organic Light
‑
Emitting Diode，又称为有机电致发光器件)显示，由于其高色域、可弯折、快的响应时间等优点，在近些年获得了大范围的推广和应用。
[0003]另外，近几年QLED(Quantum Dot Light Emitting Diodes，量子点发光器件)显示由于其低廉的制造成本、高色域等优点，获得许多公司和研究人员的重视。
[0004]无论OLED显示技术，还是QLED显示技术，应用在大中尺寸产品中均易发生显示产品不同位置的亮度出现较为显著差异的缺陷，影响显示产品的视觉体验。
技术实现思路
[0005]本申请针对现有方式的缺点，提出一种电致发光显示面板及显示装置，用以解决现有技术存在电致发光显示器件应用在大中尺寸产品中均易发生显示产品不同位置的亮度出现较为显著差异的技术问题。
[0006]第一个方面，本申请实施例提供了一种电致发光显示面板，包括：
[0007]衬底基板；
[0008]电致发光器件，位于衬底基板的一侧，包括阴极层；阴极层包括与亚像素对应的显示区和至少部分环绕显示区的非显示区，其中，至少两个相邻亚像素对应的显示区与位于至少两个相邻亚像素对应的显示区之间的非显示区形成显示单元区；
[0009]辅助阴极结构，与阴极层远离衬底基板的一侧接触，且辅助阴极结构在衬底基板的正投影与阴极层环绕显示单元区的非显示区在衬底基板的正投影至少部分交叠。
[0010]在一些实施例中，辅助阴极结构的厚度不小于1纳米且不大于100纳米。
[0011]可选地，辅助阴极结构的厚度不小于1纳米且不大于4纳米。
[0012]可选地，辅助阴极结构的厚度不小于2纳米且不大于100纳米。
[0013]在一些实施例中，至少两个相邻亚像素对应的显示区包括与至少两种亚像素一一对应的显示子区；
[0014]辅助阴极结构在衬底基板的正投影还与阴极层的显示单元区内至少一个显示子区在衬底基板的正投影至少部分交叠。
[0015]在一些实施例中，辅助阴极结构在衬底基板的正投影还与阴极层的显示单元区内部分非显示区在衬底基板的正投影至少部分交叠，显示单元区内的部分非显示区分别连接显示单元区内的至少一个显示子区、以及至少部分环绕显示单元区的非显示区。
[0016]在一些实施例中，至少一个显示子区与红色亚像素对应。
[0017]在一些实施例中，与红色亚像素对应的辅助阴极结构的厚度不小于2纳米且不大
于10纳米。
[0018]在一些实施例中，电致发光显示面板还包括：透光斥金属结构；
[0019]透光斥金属结构与阴极层接触，且透光斥金属结构在衬底基板的正投影与阴极层的显示单元区在衬底基板的正投影至少部分交叠。
[0020]在一些实施例中，透光斥金属结构包括氟化锂或烃基锂中的至少一种材料。
[0021]第二个方面，本申请实施例提供了一种显示装置，包括：如上述第一个方面提供的电致发光显示面板。
[0022]第三个方面，本申请实施例提供了一种电致发光显示面板的制备方法，包括：
[0023]在衬底基板的一侧制备包括阴极层的电致发光器件；阴极层包括与亚像素对应的显示区和至少部分环绕显示区的非显示区，其中，至少两个相邻亚像素对应的显示区与位于至少两个相邻亚像素对应的显示区之间的非显示区形成显示单元区；
[0024]在阴极层远离衬底基板的一侧制备与阴极层接触的辅助阴极结构；辅助阴极结构在衬底基板的正投影与阴极层环绕显示单元区的非显示区在衬底基板的正投影至少部分交叠。
[0025]在一些实施例中，在阴极层远离衬底基板的一侧制备与阴极层接触的辅助阴极结构，包括：
[0026]在阴极层远离衬底基板的一侧制备与阴极层接触的透光斥金属结构；透光斥金属结构在衬底基板的正投影与阴极层的显示单元区在衬底基板的正投影至少部分交叠；
[0027]在露出的阴极层上蒸镀金属材料，得到辅助阴极结构。
[0028]在一些实施例中，在阴极层远离衬底基板的一侧制备与阴极层接触的透光斥金属结构，包括：
[0029]利用掩膜板在阴极层的显示单元区内蒸镀透光斥金属材料，得到透光斥金属结构；显示单元区包括至少两个相邻亚像素对应的显示区与位于至少两个相邻亚像素对应的显示区之间的非显示区。
[0030]在一些实施例中，利用掩膜板在阴极层的显示单元区内蒸镀透光斥金属材料，包括：
[0031]利用掩膜板在阴极层的显示单元区内部分区域蒸镀透光斥金属材料，露出显示单元区内与至少两种亚像素一一对应的显示子区中的至少一个显示子区。
[0032]在一些实施例中，利用掩膜板在阴极层的显示单元区内蒸镀透光斥金属材料，包括：
[0033]利用掩膜板在阴极层的显示单元区内部分区域蒸镀透光斥金属材料，露出显示单元区内与至少两种亚像素一一对应的显示子区中的至少一个显示子区、以及显示单元区内的部分非显示区；显示单元区内的部分非显示区分别连接显示单元区内的至少一个显示子区、以及至少部分环绕显示单元区的非显示区。
[0034]本申请实施例提供的技术方案带来的有益技术效果包括：
[0035]1、在电致发光器件的阴极层上增加辅助阴极结构，有利于增加局部阴极的厚度，有效降低阴极电阻，降低电致发光器件不同位置可能出现亮度差异的幅度，提高显示产品的视觉体验，尤其应用在大中尺寸电致发光显示产品中优化效果更为明显；
[0036]2、以至少两个相邻亚像素对应的显示区与位于至少两个相邻亚像素对应的显示
区之间的非显示区形成显示单元区为最小图案化单元，不仅可以降低辅助阴极结构的图案复杂程度、降低其制作成本，还能有效减少对光线的阻挡，有利于扩大可视角度，尤其是提高大视角场景下的视觉体验。
[0037]本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。
附图说明
[0038]本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
[0039]图1为本申请实施例提供的一种电致发光显示面板的实施方式一的截面结构示意图；
[0040]图2为本申请实施例提供的一种电致发光显示面板的实施方式二的俯视结构示意图；
[0041]图3为本申请实施例提供的一种电致发光显示面板的实施方式二的出光状态示意图；
[0042]图4为本申请实施例提供的一种电致发光显示面板的实施方式三的俯视结构示意图；
[0043]图5为本申请实施例提供的一种电致发光显示面板的实施方式三的出光状态示意图；
[0044]图6为本申请实施例提供的一种电致发光显示本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种电致发光显示面板，其特征在于，包括：衬底基板；电致发光器件，位于所述衬底基板的一侧，包括阴极层；所述阴极层包括与亚像素对应的显示区和至少部分环绕所述显示区的非显示区，其中，至少两个相邻亚像素对应的显示区与位于所述至少两个相邻亚像素对应的显示区之间的所述非显示区形成显示单元区；辅助阴极结构，与所述阴极层远离所述衬底基板的一侧接触，且所述辅助阴极结构在所述衬底基板的正投影与所述阴极层环绕所述显示单元区的所述非显示区在所述衬底基板的正投影至少部分交叠。2.根据权利要求1所述的电致发光显示面板，其特征在于，所述辅助阴极结构的厚度不小于1纳米且不大于100纳米。3.根据权利要求2所述的电致发光显示面板，其特征在于，所述辅助阴极结构的厚度不小于1纳米且不大于4纳米；或，所述辅助阴极结构的厚度不小于2纳米且不大于100纳米。4.根据权利要求1所述的电致发光显示面板，其特征在于，所述至少两个相邻亚像素对应的显示区包括与至少两种亚像素一一对应的显示子区；所述辅助阴极结构在所述衬底基板的正投影还与所述阴极层的所述显示单元区内至少一个所述显示子区在所述衬底基板的正投影至少部分交叠。5.根据权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴海东，杜小波，郑伟业，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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