掩膜板和蒸镀装置制造方法及图纸

本申请公开一种掩膜板，包括用于与蒸镀源相对的蒸镀面以及背离蒸镀面一侧的对接面，掩膜板还包括至少一个蒸镀区和第一边框区，第一边框区位于蒸镀区在第一方向的至少一侧，第一方向与掩膜板的张网方向平行，第一边框区内设有至少一个第一凹槽，第一凹槽的开口位于蒸镀面，第一凹槽的延伸方向与第一方向平行。本申请还公开一种蒸镀装置，包括上述的掩膜板和支撑框架，掩膜板固定于支撑框架上。本申请公开的掩膜板，通过设置在蒸镀区一侧的第一边框区、以及第一边框区上的第一凹槽，能够减小第一边框区的金属量，降低第一边框区的重量，降低第一边框区所受到的磁力，进而减小蒸镀区的边缘因磁力带来的变形。边缘因磁力带来的变形。边缘因磁力带来的变形。

【技术实现步骤摘要】
掩膜板和蒸镀装置


[0001]本申请属于蒸镀
，尤其涉及一种掩膜板和蒸镀装置。

技术介绍

[0002]现在，OLED(Organic Light
‑
Emitting Diode，有机电致发光二极管)显示面板在制备中，采用蒸镀工艺形成发光材料层，蒸镀过程中需要使用精密掩膜板。精密掩膜板采用热膨胀率极小的Invar(镍铁合金)材料制备， Invar材料带有磁性可被可被蒸镀腔中的铁磁板磁化。
[0003]掩膜板的蒸镀区由于包括掩膜开口等镂空结构，金属量要比掩膜板上其他位置少，蒸镀区的重量小。而蒸镀区的边缘是金属量的过渡区域，精密掩膜板所受到的磁力在此区域也会出现变化，该区域容易受到磁场影响而出现变形，进而导致蒸镀出现偏差影响蒸镀精度，进而影响显示面板的良率。

技术实现思路

[0004]本申请实施例提供一种掩膜板，能够减小蒸镀区的边缘因磁力带来的变形。
[0005]一方面，本申请实施例提供一种掩膜板，包括用于与蒸镀源相对的蒸镀面以及背离蒸镀面一侧的对接面，掩膜板还包括至少一个蒸镀区和第一边框区，第一边框区位于蒸镀区在第一方向的至少一侧，第一方向与掩膜板的张网方向平行，第一边框区内设有至少一个第一凹槽，第一凹槽的开口位于蒸镀面，第一凹槽的延伸方向与第一方向平行。
[0006]根据本申请第一方面的实施方式，第一凹槽的深度沿背离蒸镀区的方向逐渐减小。
[0007]根据本申请第一方面的实施方式，两个第一边框区分设于同一蒸镀区在第一方向的两侧。
[0008]根据本申请第一方面的实施方式，位于同一蒸镀区两侧的两个第一边框区内的第一凹槽的数量相等；优选的，位于同一蒸镀区两侧的两个第一边框区内的第一凹槽的深度相等；优选的，位于同一蒸镀区两侧的两个第一边框区内的第一凹槽在第一方向上的长度相等。
[0009]根据本申请第一方面的实施方式，还包括第二边框区，第二边框区位于蒸镀区在第二方向的至少一侧，第二方向与第一方向相交，第二边框区内设有至少一个第二凹槽，第二凹槽的开口位于蒸镀面，第二凹槽的延伸方向与第一方向平行；优选的，第一边框区和第二边框区相互连接并围合于同一蒸镀区的周侧；优选的，掩膜板包括多个蒸镀区，各蒸镀区周侧均设置有第一边框区和第二边框区；优选的，第二凹槽的个数为多个，多个第二凹槽沿第二方向间隔设置，沿靠近蒸镀区的方向，前一第二凹槽的深度大于后一第二凹槽的深度。
[0010]根据本申请第一方面的实施方式，两个第二边框区分设于同一蒸镀区在第二方向的两侧。
[0011]根据本申请第一方面的实施方式，位于同一蒸镀区两侧的两个第二边框区内的第
二凹槽的数量相等；优选的，位于同一蒸镀区两侧的两个第二边框区内的第二凹槽的深度相等；优选的，位于同一蒸镀区两侧的两个第二边框区内的第二凹槽在第一方向上的长度相等。
[0012]根据本申请第一方面的实施方式，第二凹槽的深度沿背离蒸镀区的方向逐渐减小。
[0013]根据本申请第一方面的实施方式，第一凹槽和第二凹槽在第一方向上的横截面形状为多边形、圆形、椭圆形中的一种或多种。
[0014]另一方面，本申请实施例还提供一种蒸镀装置，包括上述任一实施例的掩膜板和支撑框架，掩膜板固定于支撑框架上。
[0015]本申请提供的的掩膜板，通过设置在蒸镀区一侧的第一边框区、以及第一边框区上的第一凹槽，能够减小第一边框区的金属量，降低第一边框区的重量，降低第一边框区所受到的磁力，进而减小蒸镀区的边缘因磁力带来的变形。蒸镀区在拉网方向上的受力更大更容易出现变形，通过沿第一方向布置的第一边框区以及沿第一方向延伸的第一凹槽，第一方向平行掩膜板的张网方向，能够更好地改善蒸镀区在拉网方向的边缘因磁力带来的变形。通过开口位于蒸镀面的第一凹槽，由于第一凹槽并没有贯穿掩膜板，第一边框区在对接面上是完整平面，能够改善因开设第一凹槽对掩膜板和待蒸镀基板贴合的影响，保证蒸镀效果。
附图说明
[0016]为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对本申请实施例中所需要使用的附图作简单的介绍，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0017]图1为本申请一些实施例的掩膜板的俯视结构示意图；
[0018]图2示出一种示例的图1中掩膜板在A
‑
A截面的剖视图；
[0019]图3示出一种示例的图1中掩膜板在B
‑
B截面的剖视图；
[0020]图4示出另一种示例的图1中掩膜板在B
‑
B截面的剖视图；
[0021]图5示出另一种示例的掩膜板的俯视结构示意图；
[0022]图6示出另一种示例的掩膜板的俯视结构示意图；
[0023]图7示出一种示例的图6中掩膜板在C
‑
C截面的剖视图；
[0024]图8示出另一种示例的掩膜板的俯视结构示意图；
[0025]图9示出另一种示例的图6中掩膜板在C
‑
C截面的剖视图；
[0026]图10示出另一种示例的图6中掩膜板在C
‑
C截面的剖视图；
[0027]图11为本申请一些实施例的蒸镀装置的俯视结构示意图。
[0028]附图标记：
[0029]10、掩膜板；11、蒸镀面；12、对接面；13、蒸镀区；
[0030]20、第一边框区；21、第一凹槽；
[0031]30、第二边框区；31、第二凹槽；
[0032]40、支撑框架；41、边框；42、支撑条；
[0033]x、第一方向；y、第二方向。
具体实施方式
[0034]下面将详细描述本申请的各个方面的特征和示例性实施例，为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及具体实施例，对本申请进行进一步详细描述。应理解，此处所描述的具体实施例仅意在解释本申请，而不是限定本申请。对于本领域技术人员来说，本申请可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本申请的示例来提供对本申请更好的理解。
[0035]需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括
……”
限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
[0036]申请人发现在现有技术中，掩膜板的蒸镀区由于包括掩膜开口等镂空结构，金属量要比掩膜板上其他位置少，蒸镀区的重量小。而蒸镀区的边缘本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板，包括用于与蒸镀源相对的蒸镀面以及背离所述蒸镀面一侧的对接面，其特征在于，所述掩膜板还包括至少一个蒸镀区和第一边框区，所述第一边框区位于所述蒸镀区在第一方向的至少一侧，所述第一方向与所述掩膜板的张网方向平行，所述第一边框区内设有至少一个第一凹槽，所述第一凹槽的开口位于所述蒸镀面，所述第一凹槽的延伸方向与所述第一方向平行。2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一凹槽的深度沿背离所述蒸镀区的方向逐渐减小。3.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，两个所述第一边框区分设于同一所述蒸镀区在所述第一方向的两侧。4.根据权利要求3所述的掩膜板，其特征在于，位于同一所述蒸镀区两侧的两个所述第一边框区内的所述第一凹槽的数量相等；优选的，位于同一所述蒸镀区两侧的两个所述第一边框区内的所述第一凹槽的深度相等；优选的，位于同一所述蒸镀区两侧的两个所述第一边框区内的所述第一凹槽在所述第一方向上的长度相等。5.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，还包括第二边框区，所述第二边框区位于所述蒸镀区在第二方向的至少一侧，所述第二方向与所述第一方向相交，所述第二边框区内设有至少一个第二凹槽，所述第二凹槽的开口位于所述蒸镀面，所述第二凹槽的延伸方向与所述第一方向平行；优选的...

【专利技术属性】
技术研发人员：王双，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：