一种高抗病性赤芍的组织培养方法技术

技术编号:35869853 阅读:11 留言:0更新日期:2022-12-07 11:04
本发明专利技术提供一种高抗病性赤芍的组织培养方法通过对芍药外植体的表面消毒、愈伤组织的培养、以及对不同阶段培养基的组成进行优化调整,解决了生根难、污染、褐化、继代培养后抗性缺失、难以与母本品质一致等问题,且在赤芍组织培养与快速繁殖的过程中,对生长素和细胞分裂素的种类和组成进行及时调整,提高了组织培养的效率,促进赤芍组培苗的生长,避免出现褐化和污染现象;以及在愈伤组织喷洒处理菌液以避免带芽茎段受到菌液中致病细菌的感染死亡,为之后的赤芍愈伤组织分化与植株的驯化奠定良好基础,且操作简单、成本低廉,有着良好的市场前景,能为芍药的育种和生长提供良好的帮助。助。

【技术实现步骤摘要】
一种高抗病性赤芍的组织培养方法


[0001]本专利技术属于植物组织培养领域,具有涉及一种高抗病性赤芍的组织培养方法。

技术介绍

[0002]芍药为毛茛科芍药属多年生草本植物,是我国著名的观赏和药用植物,其根入药,分“赤芍”、“白芍”两种,前者善清热凉血、散瘀止痛、清泄肝火;后者善养血调经、柔肝止痛。芍药的传统繁殖方法是分株法和播种法,但是传统方法具有周期长、效率低、繁殖系数低的缺点,不能很好地保持母本的优良性状,严重影响了芍药的规模化生产。
[0003]植物组织培养是植物快速繁殖的一种最为有效的方法,与传统繁殖方法相比,组织培养既能保持原有品种和优良性状,扩大其繁殖系数,缩短育种周期,又不受季节的影响可以周年运转,大幅度地提高了繁殖的效率,便于进行大规模生产。然而,目前芍药的组织培养过程中依然存在组培苗生根困难、易受细菌或真菌污染、褐化严重、继代培养后抗性缺失、难以与母本品质一致等问题,导致人工繁殖得到的芍药苗的抗病性差、容易感染、成活率低,严重制约了芍药组织培养的发展。
[0004]因此,研究一种新的赤芍组织培养的方法,克服现有技术存在的生根难、污染、褐化、继代培养后抗性缺失、难以与母本品质一致等问题成为目前迫切需要解决的技术难题。

技术实现思路

[0005]为了克服现有技术存在的不足,本专利技术提供一种高抗病性赤芍的组织培养方法,通过对赤芍组织培养工艺的调整,解决了生根难、污染、褐化、继代培养后抗性缺失、难以与母本品质一致等问题,为之后的赤芍愈伤组织分化与植株的驯化奠定良好基础,且操作简单、成本低廉,有着良好的市场前景,能为芍药的育种和生长提供良好的帮助。
[0006]为了实现上述目的,本专利技术采用如下的技术方法,一种高抗病性赤芍的组织培养方法,包括以下步骤:
[0007](1)获取外植体
[0008]选取芍药的带芽茎段,用无菌水冲洗1

2遍,再用75wt%的乙醇浸泡10

20s,取出后再用0.5wt%的升汞溶液浸泡5

10min,取出后将带芽茎段切割为2

3cm长的小段;
[0009](2)制备愈伤组织
[0010]将步骤(1)得到的小段置于萌发培养基中进行愈伤组织的诱导萌发,所述萌芽培养基以1/2MS培养基为基础培养基,另添加终浓度为500

600mg/L的CaCl2、0.8

1.5mg/L的6

BA、0.3

0.5mg/L的NAA,0.2

0.5mg/L的GA3、0.8

1.5g/L的PVP、10

15g/L的琼脂和30

40g/L的葡萄糖;首先暗培养7

10d,温度为25
±
2℃,然后进行光照培养23

28d,所述光照培养条件是光照时间13

14h/d,光照强度1400

1500lux;
[0011](3)感染处理
[0012]将步骤(2)中诱导得到的愈伤组织从外植体上切下置于感染培养基中进行感染处理,所述感染培养基以1/2MS培养基为基础培养基,另添加终浓度为500

600mg/L的CaCl2、
0.8

1.5mg/L的6

BA、0.3

0.5mg/L的NAA,0.2

0.5mg/L的GA3、0.8

1.5g/L的PVP、10

15g/L的琼脂和30

40g/L的葡萄糖;
[0013]首先,向步骤(2)制备得到的愈伤组织喷洒处理菌液,第一次喷洒2

4ml,间隔12小时后再次喷洒5

8ml,然而,控制温度为25
±
2℃,进行光照培养12

15d,所述光照培养条件是光照时间13

14h/d,光照强度1800

2000lux;
[0014](4)诱导不定芽
[0015]将步骤(3)中得到的愈伤组织切块置于分化培养基进行不定芽的分化,所述分化培养基以1/2MS培养基为基础培养基,另添加终浓度为600

700mg/L的CaCl2、4

8mg/L的6

BA、0.4

0.8mg/L的NAA,0.4

0.6mg/L的GA3、8

15g/L的琼脂和30

40g/L的蔗糖;进行光照培养25

30d,所述光照培养条件是光照时间10

14h/d,光照强度1300

1500lux;
[0016](5)增殖培养
[0017]将步骤(4)诱导得到的不定芽切割后置于增殖培养基中进行增殖继代培养25

30d,得到无根苗,所述增殖培养基以1/2MS培养基为基础培养基,另添加终浓度为500

600mg/L的CaCl2、3

5mg/L的TDZ、0.3

0.8mg/L的IBA,0.1

0.2mg/L的GA3、0.5

1.5g/l的PVP、5

10g/L的琼脂和30

40g/L的蔗糖;进行光照培养,所述光照培养条件是光照时间10

14h/d,光照强度1800

2000lux;
[0018](6)生根壮苗
[0019]将步骤(5)得到的无根苗置入生根培养基中进行培养,所述生根培养基以1/2MS培养基为基础培养基,另添加终浓度为600

800mg/L的CaCl2、3

5mg/L的TDZ、0.3

0.8mg/L的IBA,0.1

0.2mg/L的GA3、0.5

1.5g/L的PVP、5

10g/L的琼脂和30

40g/L的蔗糖;
[0020](7)炼苗
[0021]待不定根长满瓶底,植株整体生长稳健时,打开瓶口虚盖炼苗3

5d,待组培苗适应后,完全开瓶口3

5d,组培苗完全适应外部环境;将组培苗拔出,将根浸泡在生根制剂中浸泡20

30min;
[0022](8)移栽
[0023]将步骤(7)的组培苗移栽入穴盘内,穴盘内填充基质体积比为进口泥炭:珍珠岩:蛭石:生物炭:细沙=6:1:1:3:2,少量浇水,放置于大棚内进行生长,本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高抗病性赤芍的组织培养方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)获取外植体选取芍药的带芽茎段,用无菌水冲洗1

2遍,再用75wt%的乙醇浸泡10

20s,取出后再用0.5wt%的升汞溶液浸泡5

10min,取出后将带芽茎段切割为2

3cm长的小段;(2)制备愈伤组织将步骤(1)得到的小段置于萌发培养基中进行愈伤组织的诱导萌发,所述萌芽培养基以1/2MS培养基为基础培养基,另添加终浓度为500

600mg/L的CaCl2、0.8

1.5mg/L的6

BA、0.3

0.5mg/L的NAA,0.2

0.5mg/L的GA3、0.8

1.5g/L的PVP、10

15g/L的琼脂和30

40g/L的葡萄糖;首先暗培养7

10d,温度为25
±
2℃,然后进行光照培养23

28d,所述光照培养条件是光照时间13

14h/d,光照强度1400

1500lux;(3)感染处理将步骤(2)中诱导得到的愈伤组织从外植体上切下置于感染培养基中进行感染处理,所述感染培养基以1/2MS培养基为基础培养基,另添加终浓度为500

600mg/L的CaCl2、0.8

1.5mg/L的6

BA、0.3

0.5mg/L的NAA,0.2

0.5mg/L的GA3、0.8

1.5g/L的PVP、10

15g/L的琼脂和30

40g/L的葡萄糖;首先,向步骤(2)制备得到的愈伤组织喷洒处理菌液,第一次喷洒2

4ml,间隔12小时后再次喷洒5

8ml,然而,控制温度为25
±
2℃,进行光照培养12

15d,所述光照培养条件是光照时间13

14h/d,光照强度1800

2000lux;(4)诱导不定芽将步骤(3)中得到的愈伤组织切块置于分化培养基进行不定芽的分化,所述分化培养基以1/2MS培养基为基础培养基,另添加终浓度为600

700mg/L的CaCl2、4

8mg/L的6

BA、0.4

0.8mg/L的NAA,0.4

0.6mg/L的GA3、8

15g/L的琼脂和30

40g/L的蔗糖;进行光照培养25

30d,所述光照培养条件是光照时间10

14h/d,光照强度1300

1500lux;(5)增殖培养将步骤(4)诱导得到的不定芽切割后置于增殖培养基中进行增殖继代培养25

30d,得到无根苗,所述增殖培养基以1/2MS培养基为基础培养基,另添加终浓度为50...

【专利技术属性】
技术研发人员:张秀娟白朕卿随洋王瑞利
申请(专利权)人:内蒙古科学技术研究院
类型:发明
国别省市:

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