用于处理镜像光学物品的方法技术

本发明专利技术涉及一种用于处理镜像光学物品的方法，该镜像光学物品包括：

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于处理镜像光学物品的方法


[0001]本专利技术涉及对光学制品的处理的领域，具体地，涉及对镜像效应眼科透镜的处理的领域，特别地，涉及对涂覆有多层干涉涂层的镜像效应眼科透镜的处理的领域。

技术介绍

[0002]光学制品具体是指例如在眼镜中(特别地，在太阳镜或护目镜等中)可用作眼镜透镜的矫正或非矫正透镜。
[0003]目前，光学制品(特别地，眼科透镜，更特别地，太阳镜)不仅旨在保护眼睛免受阳光照射，而且还具有对这些光学制品的佩戴者很重要的美学外观。
[0004]因此，例如，眼镜佩戴者需要个性化的光学制品，以便通过光学制品的外观(特别地，通过颜色和反射方面的外观)而显得与众不同。
[0005]然而，正如工业中经常出现的情况，个性化极大地提高了所生产的制品的成本价格，并且通常与低成本价格的标准化生产背道而驰。
[0006]在本实例中，镜像效应光学制品，即，包括多层干涉涂层的光学制品，具有均匀的(uniform)外观。
[0007]为了使这种光学制品个性化，例如可以考虑使用由硅树脂制成的移印掩模在某些区域修改多层干涉涂层中的一层或多层的厚度。然而，这样的过程缺乏相对于轮廓(蠕变问题)和相对于可重复性的精确性。此外，观察到后续沉积在移印区域上的层的粘附性问题，并因此观察到废品率增加。
[0008]因此，对多层干涉涂层中的某些层进行激光雕刻似乎是一种吸引人的选择。然而，这种激光雕刻可能会在光学制品中产生微裂纹，从而减少光学制品的寿命。此外，这种雕刻不是在受控气氛下进行的，并且颗粒可能被沉积在如此处理的光学制品上，随后导致可见的缺陷，以及例如防污处理不能再成功地附着。
[0009]文献WO2018015650描述了一种用于标记光学制品的方法，其中使用了激光烧蚀。DE10 2011 119598描述了一种多层沉积工艺。

技术实现思路

[0010]因此，本专利技术的目标是通过提供一种用于处理镜像效应光学制品的方法来至少部分地减轻上述缺陷，所述光学制品包括：
[0011]‑
基板，
[0012]‑
由所述基板承载的具有至少两个干涉层的镜子堆叠，其由此增加反射率并具有：
[0013]ο干涉层，其远离所述基板，并且具有第一初始厚度和第一折射率，以及
[0014]ο至少一个近干涉层，其被放置在所述基板与所述远干涉层之间，并且具有第二厚度和不同于所述第一折射率的第二折射率，
[0015]所述镜子堆叠经由干涉效应将CIELAB空间中的第一颜色赋予所述镜像效应光学制品，
[0016]所述方法包括：经由离子轰击来至少从第一预定区域去除镜子堆叠厚度的步骤，所述镜子堆叠厚度小于所述去除步骤所涉及的所述初始厚度的总和，所述镜像效应光学制品经由干涉效应而呈现所述CIELAB空间中的不同于所述第一颜色的第二颜色。
[0017]因此，使用标准化的生产过程，能够以非常精确和可重复的方式使镜像效应光学制品个性化。
[0018]根据本专利技术的方法可以单独或组合地具有以下方面中的一个或多个：
[0019]在经由离子轰击来去除的步骤中，所述远干涉层的所述初始厚度可以被减少了小于其初始厚度的值。所述镜子堆叠例如包括两个干涉层(恰好两个)或至少三个干涉层，并且，例如确定所述远干涉层的所述厚度的减少，以使得在所述第一颜色与所述第二颜色之间，色调角的差小于2％，并且色度差大于10％。所述第一颜色与所述第二颜色之间的亮度差特别地小于10％，更特别地，小于5％。
[0020]所述CIELAB空间中的b*/a*比率可以在10％的公差内恒定，特别地，在5％的公差内恒定。
[0021]所述厚度的减少在每个所述预定区域中是均匀的。
[0022]在经由离子轰击来去除的步骤之前可以提供确定在所述第一预定区域中获得所述第二颜色所需的离子轰击时间的步骤。
[0023]经由离子轰击来去除的所述步骤特别地使得所述镜像效应光学制品经由干涉效应而在所述第一预定区域中呈现具有与未被所述离子轰击处理的区域不同的反射率的镜像效应。
[0024]所述镜像效应制品可以包括所述第一预定区域和未被所述离子轰击处理的区域，所述两个区域之一对应于近视觉区域，所述近视觉区域的镜像效应的反射率低于与远视觉区域对应的其他区域的镜像效应的反射率。
[0025]所述第一预定区域的面积例如小于所述镜像效应光学制品的面积，并且所述方法还可以包括：经由离子轰击来至少从所述镜像效应光学制品的不同于所述第一预定区域的第二预定区域进行去除的第二步骤(附加去除步骤)，在所述第二去除步骤中，从所述第二预定区域去除所述远干涉层的第二预定厚度，所述第二预定厚度小于所述远干涉层的所述第一初始厚度并且不同于在所述第一去除步骤中去除的厚度，所述镜像效应光学制品经由干涉效应而呈现所述CIELAB空间中的第三颜色，所述第三颜色不同于所述CIELAB空间中的所述第一颜色和所述第二颜色。
[0026]经由离子轰击来去除的步骤可以在配备有离子枪的箱式涂布机中行。
[0027]具体地，在所述镜像效应光学制品与离子枪之间放置掩模，以防止离子到达所述预定区域之外的所述干涉层。
[0028]所述掩模特别地包括附到所述镜像效应光学制品的粘合剂。
[0029]所述掩模可以包括护罩(shield)，特别地，包括被放置在所述离子枪与所述镜像效应光学制品之间的金属护罩。
[0030]所述离子轰击可以在真空下或在压力低于或等于大气压的含有惰性气体的气氛中进行。在经由离子轰击来去除的步骤之后，对所述镜像效应光学制品的整体特别地施加防污处理。
[0031]本专利技术还涉及一种镜像效应光学制品，其通过上面呈现的方法获得，并且具有所
述CIELAB空间中的至少两种不同的颜色。
[0032]所述镜像效应制品特别地包括所述第一预定区域和未被所述离子轰击处理的区域，所述两个区域之一对应于近视觉区域，所述近视觉区域的镜像效应的反射率低于与远视觉区域对应的其他区域的镜像效应的反射率。
附图说明
[0033]本专利技术的其他特征和优点将在阅读以下通过说明性和非限制性示例的方式给出的描述以及附图时变得更加清楚，其中：
[0034]图1A示意性地示出了镜像效应光学制品，
[0035]图1B示出了沿图1A的轴分解的从而人为地将形成镜像效应制品的各个层分离的图1A的镜像效应制品，
[0036]图2示意性地示出了根据第一实施例的图1A和1B的镜像效应光学制品的层堆叠，
[0037]图3示意性地示出了根据第二实施例的镜像效应制品的层堆叠，
[0038]图4示出了根据图1A、1B、2和3的实施例的示例的镜像效应光学制品的正面，
[0039]图5是能够用于处理镜像效应光学制品的处理室的部分横截面的简化侧面，
[0040]图6示出了用于处理镜像效应光学制品的方法的实现方式的示例的流程图，
[0041]图7是图4的第一变体，
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于处理镜像效应光学制品的方法，所述镜像效应光学制品包括：
‑
基板(10)，
‑
由所述基板(10)承载的具有至少两个干涉层(M1至M6)的镜子堆叠(21)，其由此增加反射率并具有：ο干涉层(M1)，其远离所述基板(10)，并且具有第一初始厚度和第一折射率，以及ο至少一个近干涉层(M2)，其被放置在所述基板(10)与所述远干涉层(M1)之间，并且具有第二厚度和不同于所述第一折射率的第二折射率，所述镜子堆叠(21)经由干涉效应将CIELAB空间中的第一颜色赋予所述镜像效应光学制品(1)，所述方法包括：经由离子轰击来至少从第一预定区域(Z1)去除镜子堆叠厚度的步骤(103)，所述镜子堆叠厚度小于所述去除步骤所涉及的所述初始厚度的总和，所述镜像效应光学制品经由干涉效应而呈现所述CIELAB空间中的不同于所述第一颜色的第二颜色。2.根据权利要求1所述的方法，其中，在经由离子轰击来去除的步骤(103)中，所述远干涉层的所述初始厚度被减少了小于其初始厚度的值。3.根据权利要求2所述的方法，其中，所述镜子堆叠(21)包括两个干涉层(M1、M2)或至少三个干涉层(M1至M6)，并且其中，确定所述远干涉层的所述厚度的减少，以使得在所述第一颜色与所述第二颜色之间，色调角的差小于2％，并且色度差大于10％。4.根据权利要求2或3所述的方法，其中，所述第一颜色与所述第二颜色之间的亮度差小于10％，特别地，小于5％。5.根据权利要求2、3和4中任一项所述的方法，其中，所述CIELAB空间中的b*/a*比率在10％的公差内恒定，特别地，在5％的公差内恒定。6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述厚度的减少在每个所述预定区域中是均匀的。7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，在经由离子轰击来去除的步骤之前是确定在所述第一预定区域中获得所述第二颜色所需的离子轰击时间的步骤(101)。8.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，经由离子轰击来去除的...

【专利技术属性】
技术研发人员：V，
申请(专利权)人：BNL欧洲镜片公司，
类型：发明
国别省市：