制造涂覆玻璃制品的方法技术

本发明专利技术提供了一种制造涂覆玻璃制品的方法，其中形成气态混合物，其包括含铝化合物、含硼化合物和惰性气体。将该气态混合物输送到玻璃基材主表面上方的位置，以在玻璃基材的主表面上方沉积包含铝、硼和氧的涂层。面上方沉积包含铝、硼和氧的涂层。面上方沉积包含铝、硼和氧的涂层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】制造涂覆玻璃制品的方法

技术介绍

[0001]本专利技术整体涉及制造涂覆玻璃制品的方法。更特别地，本专利技术涉及制造涂覆玻璃制品的方法，其包括在玻璃基材上方沉积包含铝和氧的涂层。
[0002]已知在玻璃上沉积涂层的工艺。但是，已知工艺受沉积过程的效率的限制。因此，希望提供改进的方法来制造涂覆的玻璃制品。

技术实现思路

[0003]本专利技术提供了一种制造涂覆玻璃制品的方法，其中形成气态混合物，其包括含铝化合物、含硼化合物和惰性气体。将该气态混合物输送到玻璃基材主表面上方的位置，以在玻璃基材的主表面上方沉积包含铝、硼和氧的涂层。
附图说明
[0004]当结合附图考虑时，本领域技术人员从以下详细说明将会理解上述以及其他优势，在附图中，图1以竖直截面示出了装备示意图，该装备用于实践根据本专利技术的某些实施方案的浮法玻璃制造工艺。
具体实施方式
[0005]可以理解的是，本专利技术可以采用各种替代方向和步骤序列，除非明确相反地指定。还应理解，以下说明书中描述的特定制品、设备和方法仅仅是专利技术构思的示例性实施方案。因此，与披露的实施方案有关的特定尺度、方向或其他物理特征不被视为限制性的，除非另有明确说明。同样，尽管它们可不是，但在本申请的本节中所述的各种实施方案中，通常以类似的附图标记来提及类似的元件。
[0006]在一个实施方案中，提供了一种制造涂覆的玻璃制品的方法。涂覆的玻璃制品可用于隔室、住宅玻璃件或商业玻璃件。此外，涂覆玻璃制品可能具有汽车、建筑、航空航天、工业、机车、海军、电子和光伏用途。
[0007]该方法包括提供玻璃基材。玻璃基材包括主表面，在其上方形成涂层。在一些实施方案中，玻璃基材不限于特定的厚度。但是，在某些实施方案中，玻璃基材的厚度可为20.0毫米(mm)以下。
[0008]玻璃基材可以具有现有技术中已知的任何常规玻璃组成。优选地，玻璃基材是钠
‑
钙
‑
硅玻璃。当玻璃基材是钠
‑
钙
‑
硅玻璃时，玻璃基材可包括68
‑
74重量％SiO2、0
‑
3重量％Al2O3、0
‑
6重量％MgO、5
‑
14重量％CaO、10
‑
16重量％Na2O、0
‑
2重量％SO3、0.005
‑
4.0重量％Fe2O3(总铁)和0
‑
5重量％K2O。如本文所述，“总铁”一词是指以Fe2O3计算的玻璃中包含的氧化铁(FeO+Fe2O3)的总重量。玻璃也可包含其他添加剂，例如澄清剂，其通常以至多2％的含量存在。在此实施方案中，可以以浮法玻璃带的一部分提供玻璃基材。当以浮法玻璃带的一部分形成玻璃基材时，玻璃基材可为透明的浮法玻璃。在一些这类实施方案中，透明的浮法玻璃可意指具有相关标准例如BS EN 572
‑
1：2012+A1：2016和BS EN 572
‑
2：2012中定义的
组成的玻璃。但是，玻璃基材可为另一组成，例如硼硅酸盐或铝硅酸盐组成。
[0009]玻璃基材的颜色在涂覆玻璃制品的实施方案之间可不同。在一些实施方案中，玻璃基材可为透明的。在这些实施方案中，当在CIELAB色标系统(Illuminant C，10度观察体)中以2.1mm的参考厚度测量时，玻璃基材可表现出88％以上的总可见光透射率。在一个这样的实施方案中，玻璃基材具有低铁含量，其允许高可见光透射率。例如，玻璃基材可包含0.20重量％以下的Fe2O3(总铁)。更优选的是，在此实施方案中，玻璃基材包含0.1重量％以下Fe2O3(总铁)，甚至更优选0.02重量％以下Fe2O3(总铁)。在其他实施方案中，玻璃基材可以被着色或染色。
[0010]该方法可以与玻璃基材的生产一起进行。在实施方案中，可以利用众所周知的浮法玻璃制造工艺形成玻璃基材。图1中说明了浮法玻璃制造过程的实例。在该实施方案中，玻璃基材也可以称为玻璃带。但是，应该理解，除了浮法玻璃制造方法或者在形成和切割玻璃带后，也可以使用该方法。
[0011]在某些实施方案中，该方法提供的是动态沉积过程。在这些实施方案中，玻璃基材在沉积涂层时移动。优选地，玻璃基材以预定的速率移动，例如在涂层形成于其上时，该速度大于1.27m/分钟(50in/分钟)。在一个实施方案中，在形成涂层时，玻璃基材以3.175m/分钟(125in/分钟)和12.7m/分钟(600in/分钟)之间的速率移动。
[0012]在某些实施方案中，将玻璃基材加热。在一个实施方案中，当涂层沉积于基材上方或基材上时，玻璃基材的温度约为1100
°
F(593℃)以上。在另一实施方案中，玻璃基材的温度在约1100
°
F(593℃)和1400
°
F(760℃)之间。
[0013]涂层可以通过化学气相沉积(CVD)沉积。优选地，将涂层沉积在玻璃基材的沉积表面上，而表面基本是大气压。在该实施方案中，可以通过大气压CVD(APCVD)工艺沉积涂层。但是，该方法不限于在大气压条件下形成涂层，因为在其他实施方案中，涂层可以在低压条件下形成。
[0014]在某些实施方案中，涂层包括铝、硼和氧。因此，在一些实施方案中，该方法可包括提供含铝化合物的源和含硼化合物的源。在一些实施方案中，该方法还可以包括提供含硼化合物的源和氧源。在其他实施方案中，该方法还可以包括提供一种或多种惰性气体的源。优选地，在浮法浴腔室外面的位置处提供这些源。单独的供给线可以从反应物(前体)化合物和一种或多种惰性气体的源延伸。如本文所用，可以互换使用术语“反应物化合物”和“前体化合物”来引用任何或全部含铝化合物和含硼化合物，和/或用于描述本文公开的各种实施方案。
[0015]该方法包括形成气态混合物。适合在气态混合物中使用的前体化合物可能在某个时候是液体或固体，但却是挥发性的，使得它们可以被气化以用于气态混合物中。在某些实施方案中，气态混合物包括适合在基本大气压下形成涂层的前体化合物。一旦处于气态状态，可以将前体化合物包括在气态流中并用来形成涂层。
[0016]对于气态前体化合物的任何特定组合，用于达到特定沉积速率和涂层厚度的优化浓度和流量可变化。但是，为了形成本文所述的方法提供的涂层，气态混合物包括含铝化合物和含硼化合物。
[0017]在某些实施方案中，含铝化合物是无机含铝化合物。优选地，在这些实施方案中，含铝化合物是无机卤化铝化合物。适用于形成气态混合物的无机卤化铝化合物的一个例子
是氯化铝(AlCl3)。优选氯化铝，因为它不包括碳，其在涂层形成过程中可被困在涂层中。但是，本专利技术不仅限于氯化铝，因为其他含卤化铝的化合物可适合用于实践该方法。在其他实施方案中，含铝化合物可以是有机含铝化合物，优选三异丙氧基铝。
[0018]在某些实施方案中，含硼化合物是有机含硼化合物。适用于形成气态混合物的有机含硼化合物的例子是三烷基硼本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.制造涂覆玻璃制品的方法，包括：提供玻璃基材；形成包含含铝化合物、含硼化合物和惰性气体的气态混合物；将气态混合物传送到玻璃基材的主表面上方的位置，以在玻璃基材的主表面上方沉积包含铝，硼和氧的涂层。2.权利要求1的方法，其中将涂层沉积在玻璃基材的沉积表面上，而该表面基本为大气压。3.权利要求1或权利要求2的方法，其中沉积涂层时玻璃基材的温度为1100
°
F以上。4.前述权利要求中任一项的方法，其中沉积涂层时玻璃基材在1100
°
F和1400
°
F之间。5.前述权利要求中任一项的方法，其中含铝化合物是无机含铝化合物。6.前述权利要求中任一项的方法，其中含铝化合物是无机卤化铝化合物。7.前述权利要求中任一项的方法，其中含铝化合物是氯化铝。8.前述权利要求中任一项的方法，其中含硼化合物是有机含硼化合物。9.前述权利要求中任一项的方法，其中含硼化合物是三烷基硼酸盐。10.前述权利要求中任一项的方法，其中含硼化合物是三乙基硼酸盐。11.前述权利要求中任一项的方法，其中气态混合物进一步包含含氧化合物或分子氧。12.前述权利要求中任一项的方法，其中气态混合物进一步包含水。13.前述权利要求中任一项的方法，其中气态混合物进一步包含酯。14.前述权利要求中任一项的方法，其中气态混合物进一步包含酯，该酯具有带β氢的烷基。15.前述权利要求中任一项的方法，其中气态混合物进一步包含乙酸乙酯。16.权利要求1至11中任一项的方法，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：J，
申请(专利权)人：皮尔金顿集团有限公司，
类型：发明
国别省市：